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      太陽能真空管濺射選擇性吸收涂層的制作方法

      文檔序號(hào):4730651閱讀:718來源:國知局
      專利名稱:太陽能真空管濺射選擇性吸收涂層的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種利用太陽能的吸熱涂層,即用于真空集熱管的太陽能選擇性吸收涂層。
      真空集熱管是高效利用太陽能的結(jié)構(gòu),是工業(yè)與民用供熱,抽取地面水,發(fā)電、空調(diào)和致冷的關(guān)鍵元件。其中重要的是在集熱管的內(nèi)管外表面沉積有選擇性吸收涂層。這種涂層由底層和吸收層兩個(gè)基本層組成,其底層是由具有高的紅外反射率的金屬材料構(gòu)成,吸收層是由在紅外波段透明并強(qiáng)烈吸收太陽光譜的薄膜材料構(gòu)成,即由吸收-反射兩個(gè)基本層組成,通過金屬和微小粒子的諧振光譜的轉(zhuǎn)換作用,產(chǎn)生對可見光的吸收,進(jìn)而轉(zhuǎn)換為熱能。
      這種涂層可以用電鍍或蒸發(fā)法獲得,最典型的是利用濺射法,鍍制的銅/不銹鋼-碳選擇性吸收涂層(美國專利NO4.339.484),其α=0.92,ε=0.05(100℃)。但是濺射鍍制銅/不銹鋼-碳涂層有以下問題一是濺射裝置需要兩個(gè)陰極,即銅和不銹鋼陰極,兩個(gè)陰極需要分別地在氬氣中進(jìn)行濺射,其中不銹鋼陰極在一個(gè)鍍膜周期需要濺射兩次,在第二次濺射時(shí)供給乙炔氣體進(jìn)行反應(yīng)濺射。為了防止兩個(gè)陰極分別濺射時(shí)互相污染,則在其間裝設(shè)擋板,這樣就使濺射裝置的結(jié)構(gòu)和電器控制系統(tǒng)復(fù)雜,同時(shí)陰極之間的擋板又會(huì)攔截相當(dāng)多的濺射,因此浪費(fèi)了材料,延長了鍍膜周期。
      再一種涂層是濺射的鋁/金屬-氮選擇性吸收涂層,這種涂層是在含有氮?dú)鈼l件下沉積的,其漸變結(jié)構(gòu)要求輸入的氮?dú)饬恐饾u增加,但是由于氮?dú)饣钚缘?,在與金屬陰極反應(yīng)濺射時(shí),隨著輸入氮?dú)饬康脑黾?,真空室?nèi)的壓強(qiáng)也增加,濺射電壓有較大變化,因此不能在一個(gè)相對穩(wěn)定的工藝條件下進(jìn)行控制,質(zhì)量保證比較困難。
      本發(fā)明的目的是提供一種鋁/鋁-碳膜為基礎(chǔ)的選擇性吸收涂層,它的濺射工藝只需鋁陰極,簡化了濺射裝置,并且它還可以采用活性高的氣體,使工藝參數(shù)單純,控制容易。
      本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的它用單一的鋁陰極(圓柱靶或平面靶),在純氬氣中濺射高反射率的鋁膜作底層,厚度大于0.1×10-3mm,然后在氬氣中加活性高的乙炔(或甲烷)氣流中反應(yīng)濺射,生成鋁-碳膜作吸收層,厚度為0.05×10-3-0.3×10-3mm,該吸收層從鋁底層上表面開始隨著厚度的增加,碳對鋁原子數(shù)的比例逐漸增加,以至在吸收層表面完全是絕緣的碳。為改善其綜合性能,在吸收層上,再加一層均質(zhì)的鋁-氮薄膜,作為表層,厚度為0.01×10-3-0.1×10-3mm。鋁-氮膜是在單一的氣氛條件下獲得的。
      本發(fā)明的太陽能吸收率α=0.92-0.95,ε=0.05-0.07(80℃)。
      本發(fā)明與美國專利NO4,339,484給出的涂層相比,其濺射工藝只需要單一的陰極,因而具有其濺射裝置和工藝簡單,濺射效率高,節(jié)省材料等優(yōu)點(diǎn);與金屬-氮涂層相比,在濺射工藝中可采用活性高的氣體,如乙炔或甲烷,因此在反應(yīng)中該氣體流量雖然逐漸增加,但真空室內(nèi)壓強(qiáng)并不變化,濺射電壓也變化不大,工藝參數(shù)單純,容易控制。總之,本發(fā)明一方面具有銅/金屬-碳化合物涂層的氣氛工藝條件容易控制的特點(diǎn),另一方面又具有單一陰極濺射裝置結(jié)構(gòu)簡單、濺射效率高的優(yōu)點(diǎn)。
      下面結(jié)合附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明。


      圖1是玻璃真空集熱管的正視圖。
      圖2是圖1沿A-A的剖視圖。
      基體可以是玻璃管,也可以是金屬管或含有金屬翅片的金屬管,本實(shí)施例的基體是玻璃管3,即玻璃真空集熱管,在純氬氣中濺射純鋁膜作底層5,其厚度為0.2×10-3mm,然后在氬氣中加乙炔氣流中反應(yīng)濺射,生成鋁-碳膜作吸收層6,厚度為0.1×10-3mm,該吸收層從鋁底層上表面開始隨著厚度的增加,碳對鋁原子數(shù)的比例逐漸增加,以至在吸收層表面完全是絕緣的碳。為提高吸收率和熱穩(wěn)定性,在吸收層上,再加一層均質(zhì)的鋁-氮薄膜,作為表層7,厚度為0.05×10-3mm。經(jīng)測定,本實(shí)施例的吸收率α=0.94,發(fā)射率ε=0.06(80℃)。
      參見圖1,1是外玻璃管,2是涂層,3是內(nèi)玻璃管,4是真空。
      權(quán)利要求
      1.一種用于真空集熱管的太陽能選擇性吸收涂層,它是由底層、吸收層和表層組成,其中底層是鋁膜,本發(fā)明的特征是所述的吸收層是鋁-碳膜,表層是均質(zhì)的鋁-氮薄膜。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收涂層,其特征是底層即鋁膜的厚度大于0.1×10-3mm,紅外發(fā)射率低于0.04。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收涂層,其特征是吸收層即鋁-碳膜的厚度為0.05×10-3-0.3×10-3mm。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收涂層,其特征是表層即鋁-氮膜是均質(zhì)層,厚度為0.01×10-3-0.1×10-3mm。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及到利用太陽能的吸熱涂層,即用于真空集熱管的太陽能選擇性吸收涂層。其特征是涂層中的吸收層是鋁-碳膜,表層是均質(zhì)的鋁-氮箔。其優(yōu)點(diǎn)是(1)濺射工藝只需要單個(gè)陰極,濺射裝置簡單,濺射效率高,節(jié)省材料。(2)在濺射工藝中可采用活性高的乙炔氣體,真空室內(nèi)壓強(qiáng)及濺射電壓均變化不大,工藝參數(shù)簡單,控制容易。
      文檔編號(hào)F24J2/48GK1077018SQ9311018
      公開日1993年10月6日 申請日期1993年3月19日 優(yōu)先權(quán)日1993年3月19日
      發(fā)明者戰(zhàn)余英, 王德榮 申請人:沈陽臺(tái)陽太陽能有限公司
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