牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于一種牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，由步進電機、控制鍵盤、爐體和加熱棒所組成，底座上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體，轉(zhuǎn)盤的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面，轉(zhuǎn)盤上端面的爐體內(nèi)設(shè)有環(huán)形爐膛通道，轉(zhuǎn)盤的上端面邊部對應(yīng)環(huán)形爐膛通道設(shè)有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設(shè)置的隔板，呈間隔等距離設(shè)置的五個隔板分割轉(zhuǎn)盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段、加溫空間段、高溫空間段、降溫空間段和冷卻空間段，受計算機程序控制的步進電機帶動轉(zhuǎn)盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段。本發(fā)明能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結(jié)，具有結(jié)構(gòu)簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。
【專利說明】
牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明屬于一種牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐。
【背景技術(shù)】
[0002]氧化鋯必須經(jīng)過高溫?zé)Y(jié)才能成為較硬且耐磨的制牙材料。目前，對氧化鋯的燒結(jié)采用的高溫?zé)Y(jié)爐為一爐膛設(shè)計，待燒結(jié)的氧化鋯材料置入爐膛后，關(guān)上爐門使?fàn)t膛加溫至1530°C后持續(xù)一段時間，而后必須關(guān)閉加熱棒停止加溫，使?fàn)t膛和燒結(jié)的氧化鋯材料溫度逐漸下降至80°C左右時，再打開爐門，取出燒結(jié)的氧化鋯材料，上述過程需耗費時間6?8小時。傳統(tǒng)的高溫?zé)Y(jié)爐有耗費時間多，難于滿足快速需要，能耗高和加工成本高的不足。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是設(shè)計一種牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結(jié)，具有結(jié)構(gòu)簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。
[0004]為此，本發(fā)明由步進電機、控制鍵盤、爐體和加熱棒所組成。底座上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體。底座內(nèi)中空，轉(zhuǎn)盤的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面。轉(zhuǎn)盤的上端面設(shè)有隔熱材料層。轉(zhuǎn)盤上端面的爐體內(nèi)設(shè)有環(huán)形爐膛通道，環(huán)形爐膛通道的進口和出口相通爐體前部開有的環(huán)形口。環(huán)形口為取放材料空間段。轉(zhuǎn)盤的上端面邊部對應(yīng)環(huán)形爐膛通道設(shè)有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設(shè)置的隔板。呈間隔等距離設(shè)置的五個隔板分割轉(zhuǎn)盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段、加溫空間段、高溫空間段、降溫空間段和冷卻空間段。底座內(nèi)中部設(shè)有步進電機。轉(zhuǎn)盤的下端面中部與步進電機軸連接。受計算機程序控制的步進電機帶動轉(zhuǎn)盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段。環(huán)形爐膛通道內(nèi)壁上設(shè)有隔熱材料層，加溫空間段和高溫空間段及降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)的上端及兩側(cè)壁上的隔熱材料層上設(shè)有供加熱棒放置的凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)有加熱棒。
[0005]所述的相鄰的兩隔板在轉(zhuǎn)盤靜止時封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口。所述的控制鍵盤位于底座的前部面上。所述的加溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為800°C。所述的高溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為1530°C。所述的降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為800°C。所述的隔板為矩形板，隔板用耐熱材料制成或隔板外周面上設(shè)隔熱材料層。所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。所述的相鄰的隔板之間夾角為75度。所述的環(huán)形爐膛通道的橫截面為矩形。
[0006]上述結(jié)構(gòu)達(dá)到了本發(fā)明的目的。
[0007]本發(fā)明能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結(jié)，具有結(jié)構(gòu)簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點。本發(fā)明使置入的待燒結(jié)的氧化鋯材料的燒結(jié)時間從6?8小時降為45?60分鐘，且燒結(jié)質(zhì)量相同，節(jié)省能源30%，且循環(huán)進行燒結(jié)過程，能滿足患者快速需要。
【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0009]圖2為本發(fā)明的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖3為圖1的A-A剖面的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方案
[0011]如圖1至圖3所示，一種牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，由步進電機11、控制鍵盤13、爐體I和加熱棒4所組成。底座1上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體。
[0012]底座內(nèi)中空。所述的控制鍵盤位于底座的前部面上，控制鍵盤內(nèi)的爐座內(nèi)設(shè)有程序控制計算機及相關(guān)電路，用于控制步進電機的步進動作和加熱棒溫度等，為傳統(tǒng)技術(shù)，故不再累述。轉(zhuǎn)盤9的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面。轉(zhuǎn)盤的上端面設(shè)有隔熱材料層14，以防止高溫?zé)龎霓D(zhuǎn)盤的上端面。轉(zhuǎn)盤上端面的爐體內(nèi)設(shè)有環(huán)形爐膛通道22。所述的環(huán)形爐膛通道的橫截面為矩形。環(huán)形爐膛通道的進口 17和出口2相通爐體前部開有的環(huán)形口，環(huán)形口為取放材料空間段。
[0013]轉(zhuǎn)盤的上端面邊部對應(yīng)環(huán)形爐膛通道設(shè)有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設(shè)置的隔板15，所述的相鄰的隔板之間夾角為75度。
[0014]呈間隔等距離設(shè)置的五個隔板分割轉(zhuǎn)盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段16、加溫空間段19、高溫空間段20、降溫空間段21和冷卻空間段18。加溫空間段用于對位于該段內(nèi)的待燒結(jié)的氧化鋯材料進行加溫，高溫空間段用于對位于該段內(nèi)的待燒結(jié)的氧化鋯材料進行燒結(jié)，降溫空間段用于對位于該段內(nèi)的己燒結(jié)的氧化鋯材料進行緩慢降溫，冷卻空間段用于對位于該段內(nèi)的己燒結(jié)的氧化鋯材料進行緩慢冷卻，取放材料空間段用于將位于該段內(nèi)的己燒結(jié)的氧化鋯材料取下和再放入另外的待燒結(jié)的氧化鋯材料。
[0015]底座內(nèi)中部設(shè)有步進電機。轉(zhuǎn)盤的下端面中部與步進電機軸12連接。受計算機程序控制的步進電機帶動轉(zhuǎn)盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段，即依次以步進的形式通過取放材料空間段16、加溫空間段19、高溫空間段20、降溫空間段21和冷卻空間段18。所述的相鄰的兩隔板在轉(zhuǎn)盤靜止時封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口。
[0016]環(huán)形爐膛通道內(nèi)壁上設(shè)有隔熱材料層3，以防止高溫?zé)龎臓t體。加溫空間段和高溫空間段及降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)的上端及兩側(cè)壁上的隔熱材料層上設(shè)有供加熱棒放置的凹槽5，凹槽內(nèi)設(shè)有加熱棒4 ο所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。加熱棒由從底座一側(cè)面上固定的電源插座8引入的外接電經(jīng)計算機程序控制后提供電源。
[0017]所述的加溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為800°C。所述的高溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為1530°C。所述的降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為800°C。
[0018]所述的隔板為矩形板，隔板用耐熱材料制成或隔板外周面上設(shè)隔熱材料層，以防止高溫?zé)龎母舭?。所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。為方便在轉(zhuǎn)盤上放置待燒結(jié)的氧化鋯材料6，可在相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤上設(shè)支架7。
[0019]使用時，先從環(huán)形口處即取放材料空間段將待燒結(jié)的氧化鋯材料置入相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤上，受計算機程序控制的步進電機帶動轉(zhuǎn)盤將載有待燒結(jié)的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤逆時針步進至加溫空間段19，計算機程序控制該段內(nèi)的加熱棒對加溫空間段的環(huán)形爐膛通道加熱，加溫其內(nèi)待燒結(jié)的氧化鋯材料。此時，在相鄰的隔板封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口時，受計算機程序控制的步進電機使轉(zhuǎn)盤停止步進。保持加溫時間后，再重復(fù)上述動作，即:再從環(huán)形口處即取放材料空間段將另外的待燒結(jié)的氧化鋯材料置入相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤上，受計算機程序控制的步進電機帶動轉(zhuǎn)盤將載有另外待燒結(jié)的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤逆時針步進至加溫空間段19(以前的載有待燒結(jié)的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤則從加溫空間段進入高溫空間段20，計算機程序控制該段內(nèi)的加熱棒對高溫空間段的環(huán)形爐膛通道加熱，燒結(jié)的氧化鋯材料。保持燒結(jié)時間后。)依次類循環(huán)進行，使每份載有待燒結(jié)的氧化鋯材料的相鄰隔板之間的轉(zhuǎn)盤依次經(jīng)過加溫空間段19、高溫空間段20、降溫空間段21和冷卻空間段18后，重回取放材料空間段，取下己燒結(jié)的氧化鋯材料(己燒結(jié)的氧化鋯材料的表面溫度己下降至80 °C左右)，再放入待燒結(jié)的氧化鋯材料?？裳h(huán)進行燒結(jié)。
[0020]總之，本發(fā)明能快速循環(huán)地完成氧化鋯材料的燒結(jié)，具有結(jié)構(gòu)簡單、加工時間短、使用方便、能耗低和加工成本低的優(yōu)點?？赏茝V使用。
【主權(quán)項】
1.一種牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，由步進電機、控制鍵盤、爐體和加熱棒所組成，其特征在于:底座上端的爐體為前部開有環(huán)形口的爐體，底座內(nèi)中空，轉(zhuǎn)盤的上端面封閉開有環(huán)形口爐體的下端面，轉(zhuǎn)盤的上端面設(shè)有隔熱材料層，轉(zhuǎn)盤上端面的爐體內(nèi)設(shè)有環(huán)形爐膛通道，環(huán)形爐膛通道的進口和出口相通爐體前部開有的環(huán)形口，環(huán)形口為取放材料空間段，轉(zhuǎn)盤的上端面邊部對應(yīng)環(huán)形爐膛通道設(shè)有能橫向封閉環(huán)形爐膛通道的五個呈間隔等距離設(shè)置的隔板，呈間隔等距離設(shè)置的五個隔板分割轉(zhuǎn)盤的上端面的環(huán)形口和環(huán)形爐膛通道空間依次為取放材料空間段、加溫空間段、高溫空間段、降溫空間段和冷卻空間段，底座內(nèi)中部設(shè)有步進電機，轉(zhuǎn)盤的下端面中部與步進電機軸連接，受計算機程序控制的步進電機帶動轉(zhuǎn)盤上端五個隔板之間的空間依次通過各空間段，環(huán)形爐膛通道內(nèi)壁上設(shè)有隔熱材料層，加溫空間段和高溫空間段及降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)的上端及兩側(cè)壁上的隔熱材料層上設(shè)有供加熱棒放置的凹槽，凹槽內(nèi)設(shè)有加熱棒。2.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的相鄰的兩隔板在轉(zhuǎn)盤靜止時封閉環(huán)形爐膛通道的進口和出口。3.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的控制鍵盤位于底座的前部面上。4.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的加溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為800°C。5.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的高溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為1530°C。6.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的降溫空間段的環(huán)形爐膛通道內(nèi)溫度為800°C。7.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的隔板為矩形板，隔板用耐熱材料制成或隔板外周面上設(shè)隔熱材料層。8.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的加熱棒為硅鉬加熱棒。9.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的相鄰的隔板之間夾角為75度。10.按權(quán)利要求1所述的牙科用氧化鋯轉(zhuǎn)椅式快速燒結(jié)爐，其特征在于:所述的環(huán)形爐膛通道的橫截面為矩形。
【文檔編號】F27B17/02GK106017096SQ201610315918
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月16日
【發(fā)明人】武家強
【申請人】武家強