專利名稱：液體磁處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是涉及一種對液體進(jìn)行磁化處理的液體磁處理裝置，采用本實(shí)用新型可以制成磁化杯、磁化壺等名種磁處理系列產(chǎn)品。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的液體磁處理裝置，多數(shù)采用環(huán)狀磁體，讓液體從磁環(huán)中部的孔通過進(jìn)行磁處理，由于液體流動僅通過磁環(huán)中部一小段，因而磁化效果差。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的就是提供一種可對液體進(jìn)行高效率磁處理的液體磁處理裝置。本實(shí)用新型的解決方案是在殼體內(nèi)至少有兩層磁體以小間距迭層放置，在相鄰磁體間設(shè)置有隔離片，隔離片上開有孔，使隔離片與殼體形成放置磁體的空間。采用上述方案，液體進(jìn)入后會沿磁體的表面流動，形成相對動磁場，而且流動路徑長，磁塊間距小磁性強(qiáng)，因而具有的優(yōu)點(diǎn)是磁化效果好。


附圖是本實(shí)用新型的實(shí)施例。
附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖2是本實(shí)用新型制成磁處理壺時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型在殼體4內(nèi)至少有兩層磁體1以小間距迭層放置，在相鄰磁體間設(shè)置有隔離片2，隔離片2上開有孔3，使隔離片2與殼體4形成放置磁體1的空間。
所述的磁體1是放置在由隔離片2與殼體4形成的空間中部。
所述的隔離片2和殼體4是采用非導(dǎo)磁材料制成本實(shí)施例中，相鄰磁塊的間距一般不大于1厘米。在實(shí)施中，相鄰兩塊磁體之間距離的大小是受處理液體所需磁場而定，最大距離不超過工作磁塊的南北極能產(chǎn)生相互吸引力的距離。隔離片2最下部孔3小于其余隔離片的孔，以調(diào)節(jié)流速。
本實(shí)施例中，隔離片2的孔3是開在中部。磁體1是采用永磁塊。
本實(shí)用新型磁體1可以用永磁體，也可以采用電磁鐵。
本實(shí)用新型可以讓液體在流動過程中能以最長的路徑通過磁塊間的磁力線，以取得較好的磁化效果。
權(quán)利要求1.一種液體磁處理裝置，其特征在于在殼體(4)內(nèi)至少有兩層磁體(1)以小間距迭層放置，在相鄰磁體間設(shè)置有隔離片(2)，隔離片(2)上開有孔(3)，使隔離片(2)與殼體(4)形成放置磁體(1)的空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體磁處理裝置，其特征在于隔離片(2)的孔(3)是開在中部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體磁處理裝置，其特征在于所述的磁體(1)是放置在由隔離片(2)與殼體(4)形成的空間中部。
4.根據(jù)權(quán)利在要求1、2、3所述的液體處理裝置，其特征在于所述的隔離片(2)和殼體(4)是采用非導(dǎo)磁材料制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3所述的液體磁處理裝置，其特征在于最下部隔離片的孔(3)小于其余隔離片上的孔。
專利摘要一種液體磁處理裝置,其特點(diǎn)是在殼體內(nèi)至少有兩層磁體以小間距迭層放置,在相鄰磁體間設(shè)置有隔離片,隔離片上開有孔,使隔離片與殼體形成放置磁體的空間。采用上述方案,液體進(jìn)入后會沿磁體的表面流動,形成相對動磁場,而且流動路徑長,磁塊間距小磁性強(qiáng),因而具有的優(yōu)點(diǎn)是磁化效果好?？芍瞥纱呕⒋呕瘔氐让N磁處理系列產(chǎn)品。
文檔編號C02F1/48GK2494825SQ0126381
公開日2002年6月12日 申請日期2001年9月11日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月11日
發(fā)明者甘宏宇 申請人:甘宏宇, 甘東洪