專利名稱：澄清反應(yīng)池的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及澄清反應(yīng)池，特別涉及去除結(jié)晶體的澄清反應(yīng)池。
背景技術(shù)：
化學(xué)氣相沉積(CVD)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積多種材料 的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。在化學(xué)氣 相沉積工藝中，需要應(yīng)用到含氟的氣體，燃燒后會(huì)產(chǎn)生含氟離子的廢氣，需經(jīng) 氣體洗滌裝置(Local Scrubber)處理，將氣相污染轉(zhuǎn)化成液相污染。氣體洗滌 裝置的內(nèi)部設(shè)有噴淋裝置，可使含氟離子的廢氣與噴淋水大面積接觸后溶解于 水，通過排水管道將廢水排放到相應(yīng)的廢水收集站，再進(jìn)行液相污染的治理。 在半導(dǎo)體生產(chǎn)制造過程中，經(jīng)常發(fā)生排水管道排水不暢的現(xiàn)象，這會(huì)間接導(dǎo)致 化學(xué)氣相沉積設(shè)備出現(xiàn)故障，帶來極大的損失。
經(jīng)檢查發(fā)現(xiàn)產(chǎn)生排水管道排水不暢的原因，是因?yàn)榛瘜W(xué)氣相沉積工藝上產(chǎn) 生的含氟離子的廢氣被高硬度的自來水洗滌后溶解于水，產(chǎn)生的廢水中含有氟 離子，與高硬度的自來水中的鈣鎂離子結(jié)合，發(fā)生結(jié)晶反應(yīng)。最嚴(yán)重的結(jié)晶反 應(yīng)發(fā)生排水管道中，結(jié)晶體附著在排水管道內(nèi)壁，而導(dǎo)致排水管道堵塞，這需 要設(shè)備人員頻繁更換排水管道，成本高、效率低，且無法取得理想的效果。

實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此，本實(shí)用新型提供一種澄清反應(yīng)池，用于去除廢水中的結(jié)晶體， 從而解決排水管道因結(jié)晶體附著在管道內(nèi)壁，造成排水管道堵塞，并導(dǎo)致化學(xué) 氣相沉積(CVD)設(shè)備出現(xiàn)故障的問題。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種澄清反應(yīng)池，包括沉淀槽， 為上部開口容器，包括側(cè)壁及底部；以及集水槽，設(shè)置于上述側(cè)壁內(nèi)面的上部，由溢流堰與上述側(cè)壁圍成。
可選的，上述溢流堰的上沿部為鋸齒狀，上述集水槽底部與水平方向的傾
斜角為5。。
可選的，上述澄清反應(yīng)池還包括進(jìn)水管，與上述沉淀槽連通；出水管， 與上述集水槽連通，
可選的，上述出水管連接于上述集水槽的最低處。
可選的，上述進(jìn)水管與上述沉淀槽為法蘭連接，上述出水管與上述集水槽 為法蘭連接。
可選的，上述沉淀槽下部具有一排水口，通過一排水閥門與上述出水管連通。
可選的，上述澄清反應(yīng)池還包括一密封蓋，大小與上述沉淀槽開口相匹配。 可選的，上述沉淀槽的側(cè)壁設(shè)有可拆卸的觀察板，上述觀察板上設(shè)有透明 的觀察孔。
由于采用了上述澄清反應(yīng)池，廢氣洗滌設(shè)備排放的廢水先流經(jīng)所述澄清反 應(yīng)池，通過在澄清反應(yīng)池內(nèi)填充填料，使廢水中結(jié)晶反應(yīng)快速的結(jié)束，結(jié)晶體 沉積在澄清反應(yīng)池底部和填料表面，然后再將澄清反應(yīng)后的廢水排放到排水管 道，從而解決排水管道因結(jié)晶反應(yīng)產(chǎn)生的結(jié)晶體附著在內(nèi)壁，而導(dǎo)致排水管道 堵塞的問題，并可保證化學(xué)氣相沉積設(shè)備正常運(yùn)行。


圖1A為本實(shí)用新型的一實(shí)施例所提供的澄清^—應(yīng)池的立體結(jié)構(gòu)圖； 圖1B為本實(shí)用新型的一實(shí)施例所提供的澄清反應(yīng)池的俯視圖； 圖1C為本實(shí)用新型的一實(shí)施例所提供的澄清反應(yīng)池的側(cè)視圖； 圖2為本實(shí)用新型的一實(shí)施例所提供的澄清反應(yīng)池的安裝示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型提出的澄清反應(yīng)池作進(jìn)一步詳細(xì) 說明。
請參考圖1A至圖1C，其中，圖1A為本實(shí)用新型一實(shí)施例所提供的澄清反
4應(yīng)池的立體結(jié)構(gòu)圖，圖1B為俯視圖，圖1C為側(cè)視圖。如圖所示，上述澄清反 應(yīng)池100包括沉淀槽110、集水槽120、進(jìn)水管130、出水管140。
其中，沉淀槽110為上部開口容器，包括側(cè)壁111及底部112。集水槽120， 設(shè)置于沉淀槽110的側(cè)壁111內(nèi)面的上部，由溢流堰121與上述側(cè)壁111圍成， 溢流堰121的上沿為鋸齒狀。進(jìn)水管130，與上述沉淀槽110連通，連接方式為 法蘭連接，進(jìn)水管130向下延伸至接近上述沉淀槽110的底部112的位置。出 水管140與上述集水槽120連通，連接方式為法蘭連接。沉淀槽110的側(cè)壁111 上設(shè)有一可拆卸的觀察板113，觀察板113上設(shè)有一透明的觀察孔114，可用于 觀察沉淀槽110內(nèi)部的狀態(tài)。觀察板113上還設(shè)有把手115,可方便觀察板113 的拆卸。觀察板113通過螺釘固定在沉淀槽110的側(cè)壁111上。在本實(shí)施例中， 觀察板113設(shè)置為方形，透明觀察孔114設(shè)置為橢圓形，透明觀察孔114由有機(jī) 玻璃制成。在本實(shí)用新型的其它實(shí)施例中，觀察板113及有機(jī)玻璃觀察孔114 也可為其它形狀，透明觀察孔114也可由其它透明材料制成。
沉淀槽110下部具有一排水口 (未圖示)，通過排水閥門150與出水管140 連通。當(dāng)澄清反應(yīng)池100需要清洗維護(hù)時(shí)，可打開排水閥門150,清洗用水可經(jīng) 由此排水閥門150排放到出水管140內(nèi)。當(dāng)澄清反應(yīng)池100處于使用狀態(tài)時(shí)， 排水閥門150關(guān)閉。
澄清反應(yīng)池IOO還包括密封蓋160，密封蓋160的大小與沉淀槽110的開口 大小相配合，沉淀槽側(cè)壁111具有一固定沿116,密封蓋160可通過螺釘固定在 固定沿116上。密封蓋160上還設(shè)有把手161,可便于密封蓋160的拆卸。在本 實(shí)施例中，沉淀槽IIO設(shè)置為方形，相應(yīng)地，密封蓋160為方形。在本實(shí)用新 型的其它實(shí)施例中，沉淀槽IIO以及密封蓋160也可為其它形狀。
參考圖2,其為本實(shí)用新型的一實(shí)施例所提供的澄清反應(yīng)池的安裝示意圖， 并結(jié)合圖1A至圖1C?；瘜W(xué)氣相沉積(CVD)設(shè)備10產(chǎn)生的含氟離子的廢氣，經(jīng) 氣體洗滌裝置(Local Scrubber) 20處理后，含氟離子的廢氣溶解到水中，產(chǎn)生 的廢水中含有氟離子及4丐鎂離子。澄清反應(yīng)池100的進(jìn)水管130與氣體洗滌裝 置20相連接，氣體洗滌裝置20的廢水經(jīng)進(jìn)水管130，流至沉淀槽110內(nèi)部，沉 淀槽110內(nèi)部填充有可增大廢水接觸面積的填料(未圖示)，使廢水中的氟離子 與鈣鎂離子的結(jié)晶反應(yīng)快速的結(jié)束，結(jié)晶體沉積在沉淀槽110內(nèi)部和填料表面，經(jīng)澄清反應(yīng)后的廢水越過所述集水槽120的溢流堰121進(jìn)入所述集水槽120中。 出水管140與排水管道30相連接，集水槽120內(nèi)的廢水通過出水管140排放到 排水管道30中，最后流至廢水處理設(shè)備40，這樣，經(jīng)澄清反應(yīng)后的廢水不會(huì)造 成排水管道30堵塞。
在本實(shí)施例中，集水槽120的底部與水平方向的傾斜角為5° ，出水管140 連接于集水槽120的最低處，可保證集水槽120內(nèi)的廢水快速的經(jīng)出水管140 排放到排水管道30中。在本實(shí)用新型的其它實(shí)施例中，也可結(jié)合需要將集水槽 120的底部與水平方向的傾斜角度設(shè)置為其它角度。
綜上所述，上述澄清反應(yīng)池包括沉淀槽以及集水槽，廢氣洗滌裝置排放的 廢水流入所述澄清反應(yīng)池的沉淀槽內(nèi)，沉淀槽內(nèi)填充有填料，使廢水中結(jié)晶反 應(yīng)快速的結(jié)束，結(jié)晶體沉積在沉淀槽的底部和填料表面，澄清反應(yīng)后的廢水溢 流到集水槽內(nèi)，再排放到排水管道中，從而解決了排水管道因結(jié)晶反應(yīng)產(chǎn)生的 結(jié)晶體附著在管道內(nèi)壁，而導(dǎo)致排水管道堵塞的問題，保證化學(xué)氣相沉積設(shè)備 正常運(yùn)轉(zhuǎn)，確保工藝生產(chǎn)順利進(jìn)行。
本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí) 用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng) 和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種澄清反應(yīng)池，其特征在于，包括沉淀槽，為上部開口容器，包括側(cè)壁及底部；以及集水槽，設(shè)置于上述側(cè)壁內(nèi)面的上部，由溢流堰與上述側(cè)壁圍成。
2、 如權(quán)利要求1所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述溢流堰的上沿部為 鋸齒狀。
3、 如權(quán)利要求1所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述集水槽底部與水平 方向的傾斜角為5。。
4、 如權(quán)利要求1所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，還包括 進(jìn)水管，與上述沉淀槽連通；出水管，與上述集水槽連通。
5、 如權(quán)利要求4所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述出水管連接于集水 槽的最低處。
6、 如權(quán)利要求4所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述進(jìn)水管與上述沉淀 槽為法蘭連接。
7、 如權(quán)利要求4所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述出水管與上述集水 槽為法蘭連接。
8、 如權(quán)利要求1所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述沉淀槽下部具有一 排水口，通過一排水閥門與上述出水管連通。
9、 如權(quán)利要求1所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，還包括一密封蓋，大小 與上述沉淀槽開口相匹配。
10、 如權(quán)利要求1所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述沉淀槽的側(cè)壁設(shè) 有可拆卸的觀察板。
11、 如權(quán)利要求IO所述的澄清反應(yīng)池，其特征在于，上述觀察板上設(shè)有透 明的觀察孔。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種澄清反應(yīng)池，目的在于去除廢水中的結(jié)晶體，所述廢水是由氣體洗滌設(shè)備排放到排水管道中的。所述澄清反應(yīng)池包括沉淀槽以及集水槽，所述沉淀槽為一開口容器，所述集水槽設(shè)置于沉淀槽側(cè)壁內(nèi)面的上部。氣體洗滌設(shè)備產(chǎn)生的廢水流入沉淀槽內(nèi)，沉淀槽內(nèi)部填充有填料，使廢水內(nèi)的結(jié)晶反應(yīng)快速結(jié)束，結(jié)晶體沉積在沉淀槽底部和填料表面，澄清反應(yīng)后的廢水溢流到集水槽內(nèi)，再排放到排水管道中，從而解決了排水管道因結(jié)晶體附著在管道內(nèi)壁而造成排水管道堵塞的問題，可保障工藝生產(chǎn)順利進(jìn)行。
文檔編號C02F1/52GK201321399SQ20082015568
公開日2009年10月7日 申請日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月20日
發(fā)明者津 鄭, 健 郭 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司