專(zhuān)利名稱(chēng):小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種飲用水制造裝置,特別是涉及一種用于制造使飲用水具有較小分子團(tuán)的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)。
背景技術(shù):
[0002]水分子在氫鍵的作用下,會(huì)形成較大的分子團(tuán),而較大的分子團(tuán)不利于人體對(duì)水的吸收。水的分子團(tuán)越小,水的滲透力就越強(qiáng),更易進(jìn)入細(xì)胞膜,運(yùn)送養(yǎng)料,帶出細(xì)胞的垃圾。因此人們致力于通過(guò)減小飲用水的分子團(tuán)而改善人體的健康。[0003]現(xiàn)有技術(shù)中,用于制作小分子開(kāi)水一般包括兩個(gè)步驟,一是將水燒開(kāi),二是將開(kāi)水制成小分子水。這個(gè)步驟分別由獨(dú)立的開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器完成,存在比較明顯的技術(shù)缺陷一是開(kāi)水器非常容易結(jié)水垢,使用一段時(shí)間后,水垢將堵塞水流通道;二是小分子水發(fā)生器制作小分子水的時(shí)間較長(zhǎng),并且分子團(tuán)仍然較大;三是開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器之間沒(méi)有聯(lián)動(dòng)關(guān)系,因此操作麻煩。[0004]小分子水發(fā)生器包括殼體,在殼體內(nèi)設(shè)置多組磁鐵,磁鐵置于上下兩塊導(dǎo)流盤(pán)之間。導(dǎo)流盤(pán)包括一底盤(pán),在底盤(pán)上設(shè)置若干導(dǎo)流肋,相鄰導(dǎo)流肋之間形成導(dǎo)流槽,從而引導(dǎo)水流經(jīng)磁鐵的表面,使磁力線(xiàn)切割水,打斷水的氫鍵,形成小分子水。但是,由于小分子水發(fā)生器中的導(dǎo)流盤(pán)不能充分利用磁極表面,并且由于導(dǎo)流肋過(guò)高,從而只能制得約^Hz的水分子。[0005]另一方面,現(xiàn)有技術(shù)中的小分子水發(fā)生器,水在其內(nèi)的流通過(guò)程中,流道各處的橫截面積不匹配,因此出水速度非常慢,通常獲得500ml的小分子水需要8分鐘左右的時(shí)間。[0006]因此本領(lǐng)域技術(shù)人員致力于開(kāi)發(fā)一種能使水分子團(tuán)被磁極切割的更小、制作時(shí)間更短的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)。實(shí)用新型內(nèi)容[0007]有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種操作簡(jiǎn)便的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)。[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),包括開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器;所述小分子水發(fā)生器包括殼體;所述殼體上設(shè)置有進(jìn)水孔和出水孔;所述殼體中設(shè)置有至少一組切割單元;所述切割單元包括相對(duì)設(shè)置的第一導(dǎo)流盤(pán)和第二導(dǎo)流盤(pán);所述第一導(dǎo)流盤(pán)和第二導(dǎo)流盤(pán)之間設(shè)置有磁鐵;所述第一導(dǎo)流盤(pán)和第二導(dǎo)流盤(pán)均包括底盤(pán)和導(dǎo)流肋;所述底盤(pán)上設(shè)置有中心孔;所述導(dǎo)流肋的尾端位于所述底盤(pán)的邊緣處設(shè)置有第一出水擋塊;所述開(kāi)水器的出水口下方設(shè)置有所述小分子水發(fā)生器;所述小分子水發(fā)生器固定在所述開(kāi)水器的殼體上;所述開(kāi)水器的殼體位于所述小分子水發(fā)生器的下方處設(shè)置有用于容納水杯的空間。[0009]采用上述結(jié)構(gòu),由于將開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器設(shè)置為一整體結(jié)構(gòu),因此開(kāi)水器制得的開(kāi)水可直接流入小分子水發(fā)生器中獲得小分子開(kāi)水,從而使得制作小分子開(kāi)水的過(guò)程變得簡(jiǎn)單方便。[0010] 為避免開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器結(jié)水垢,所述開(kāi)水器的進(jìn)水管路上設(shè)置有凈水O[0011 ] 為避免開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器的水流通的橫截面積不兼容,使開(kāi)水器流出的開(kāi)水倒灌回開(kāi)水器,從而燒毀開(kāi)水器的相關(guān)元件,所述開(kāi)水器的出水口與所述小分子水發(fā)生器之間設(shè)置有暫存容器;所述暫存容器的出水口與小分子水發(fā)生器的進(jìn)水孔相連。[0012]為使相鄰導(dǎo)流肋形成的導(dǎo)流槽的各處槽寬基本相等,從而充分利用磁極表面,使水分子團(tuán)被切割的更小,所述導(dǎo)流肋的形狀為與所述中心孔同心的一虛擬圓為基圓的漸開(kāi)線(xiàn)。[0013]較佳的,所述導(dǎo)流肋以與所述中心孔同心的一虛擬圓為基圓。[0014]較佳的,所述底盤(pán)上均布設(shè)置有四根所述導(dǎo)流肋。[0015]為延長(zhǎng)水在磁極表面的流通路徑,各所述第一出水擋塊之間位于所述底盤(pán)邊緣處設(shè)置有第二出水擋塊。[0016]較佳的,所述第二出水擋塊位于所述第一出水擋塊一側(cè)的端部朝所述第一出水擋塊的方向斜向設(shè)置有第三出水擋塊。[0017]由于靠磁極表面越近,磁力越強(qiáng),為使切割水分子團(tuán)的磁力更大,從而產(chǎn)生更小分子團(tuán)的水,所述導(dǎo)流肋的高度為2mm。[0018]為使導(dǎo)流槽的流通橫截面積與小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)的進(jìn)水和出水通道橫截面積相匹配,所述進(jìn)水孔的直徑為8mm ;所述出水孔的直徑為5. 5mm ;所述中心孔的直徑為7mm ; 所述導(dǎo)流肋的高度為2mm ;相鄰導(dǎo)流肋之間的距離為4 mm。[0019]較佳的,所述第二導(dǎo)流盤(pán)的邊緣設(shè)置有與所述底盤(pán)一體的擋水壁。[0020]本實(shí)用新型的有益效果是[0021](1)操作簡(jiǎn)單方便;[0022](2)使水分子團(tuán)被切割的更小,達(dá)到小于50Hz、或40Hz甚至30Hz的水平;[0023](3)使小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)的出水速度更快,制得500ml小分子開(kāi)水只需要3分鐘左右的時(shí)間;[0024](4)開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器不易結(jié)水垢,增強(qiáng)了系統(tǒng)的可靠性。
[0025]圖1是本實(shí)用新型一具體實(shí)施方式
的結(jié)構(gòu)示意圖。[0026]圖2是本實(shí)用新型一具體實(shí)施方式
中小分子水發(fā)生器的結(jié)構(gòu)示意圖。[0027]圖3是本實(shí)用新型一具體實(shí)施方式
中上導(dǎo)流盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。[0028]圖4是本實(shí)用新型一具體實(shí)施方式
中下導(dǎo)流盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
[0029]
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明[0030]如圖1所示,一種小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),包括開(kāi)水器500和小分子水發(fā)生器600,開(kāi)水器500的進(jìn)水管路503上設(shè)置有凈水器700。整個(gè)系統(tǒng)的進(jìn)水由閥門(mén)504控制。[0031 ] 本實(shí)施例中,開(kāi)水器500直接與市政水管路相連,凈水器700置于開(kāi)水器的進(jìn)水管路503上。在其他具體實(shí)施方式
中,開(kāi)水器500也可直接使用桶裝水,以達(dá)到基本相同的技術(shù)效果。[0032]開(kāi)水器500的出水口 501下方設(shè)置有小分子水發(fā)生器600。小分子水發(fā)生器600 固定在開(kāi)水器500的殼體502上,開(kāi)水器500的殼體502位于小分子水發(fā)生器600的下方處設(shè)置有用于容納水杯90的空間900。開(kāi)水器500的出水口 501與小分子水發(fā)生器600之間設(shè)置有暫存容器800,暫存容器800的出水口 801與小分子水發(fā)生器600的進(jìn)水孔101相連。[0033]如圖2所示,小分子水發(fā)生器600包括殼體100,殼體100上設(shè)置有進(jìn)水孔101和出水孔102。殼體100中上下依次疊放有四組切割單元,各切割單元包括兩塊相對(duì)設(shè)置的上導(dǎo)流盤(pán)200和下導(dǎo)流盤(pán)400,兩塊導(dǎo)流盤(pán)之間設(shè)置有磁鐵300。[0034]如圖3所示,上導(dǎo)流盤(pán)200包括底盤(pán)1和在底盤(pán)1上均布設(shè)置的四根導(dǎo)流肋2,底盤(pán)1上設(shè)置有中心孔3。導(dǎo)流肋2的形狀為以與中心孔3同心的一虛擬圓4為基圓的漸開(kāi)線(xiàn)。[0035]導(dǎo)流肋2的尾端位于底盤(pán)1的邊緣處設(shè)置有第一出水擋塊5,各第一出水擋塊5之間位于底盤(pán)1邊緣處設(shè)置有第二出水擋塊6。第二出水擋塊6位于第一出水擋塊5 —側(cè)的端部,并朝第一出水擋塊5的方向斜向設(shè)置有第三出水擋塊7。[0036]本實(shí)施例中作為一較佳的實(shí)施方式,進(jìn)水孔101的直徑為8mm,出水孔102的直徑為5. 5mm,中心孔3的直徑為7mm,導(dǎo)流肋2的高度(圖中未示出)為2mm,相鄰導(dǎo)流肋2之間的距離L為4 mm。[0037]小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)工作時(shí),水從進(jìn)水孔101流入切割單元,從上導(dǎo)流盤(pán)的中心孔3中流入,沿相鄰導(dǎo)流肋2形成的導(dǎo)流槽流動(dòng),被磁力切割,形成小分子水。當(dāng)水流至第一擋水塊5和第三擋水塊7時(shí),大部分的水從此處流至下導(dǎo)流盤(pán)中。同時(shí),一部分水在第三擋水塊7的作用下,繼續(xù)向前流動(dòng)至第二擋水塊6處,使水進(jìn)一步被切割,最后流至下導(dǎo)流盤(pán)中。[0038]如圖4所示,本實(shí)施例中,上導(dǎo)流盤(pán)200和下導(dǎo)流盤(pán)400的結(jié)構(gòu)基本相同,區(qū)別在于,相對(duì)上導(dǎo)流盤(pán)200,下導(dǎo)流盤(pán)400的底盤(pán)面積稍微大些,在底盤(pán)的邊緣設(shè)置有與底盤(pán)1 一體結(jié)構(gòu)的擋水壁8。在其他具體實(shí)施方式
中,也可省略擋水壁8,以達(dá)到基本相同的技術(shù)效果,但這種實(shí)施方式中,對(duì)下導(dǎo)流盤(pán)400與殼體100之間的密封性能要求更高。[0039]在下導(dǎo)流盤(pán)中,水的流動(dòng)路徑與上導(dǎo)流盤(pán)中的流動(dòng)路徑正好相反,水從下導(dǎo)流盤(pán)的中心孔流出,進(jìn)入下一切割單元,最后從出水孔102流入盛裝小分子開(kāi)水的容器中。[0040]由于導(dǎo)流肋為漸開(kāi)線(xiàn)形狀,因此相鄰導(dǎo)流肋形成的導(dǎo)流槽的各處槽寬L基本相等,從而可充分利用磁極表面,使水分子團(tuán)被切割的更小。并且,由于第二擋水塊6和第三擋水塊7的設(shè)置,可進(jìn)一步延長(zhǎng)水的流動(dòng)路徑,使水分子團(tuán)被切割的更小。本實(shí)施例中,可使水分子團(tuán)的大小達(dá)到小于50Hz、或40Hz甚至30Hz的水平。[0041]同時(shí),由于本實(shí)施例減小了導(dǎo)流肋的肋高,因此使水流動(dòng)的過(guò)程中,所受的磁力更強(qiáng),這更有利于水分子團(tuán)的切割。[0042]另夕卜,由于進(jìn)水孔101的直徑為8mm,出水孔102的直徑為5. 5mm,中心孔3的直徑為7mm,導(dǎo)流肋2的高度為2mm,相鄰導(dǎo)流肋2之間的距離L為4 mm,因此使水在小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng)中各處的流通橫截面積基本匹配,從而提高了出水的速度。本實(shí)施例中,制得500ml小分子開(kāi)水的時(shí)間約為3分鐘。[0043]本實(shí)施例中,開(kāi)水器500、凈水器700以及小分子水發(fā)生器的其他結(jié)構(gòu)均為現(xiàn)有技術(shù),在此不再贅述。[0044]本系統(tǒng)工作時(shí),打開(kāi)閥門(mén)504,通過(guò)市政管道接入的自來(lái)水經(jīng)凈水器700過(guò)濾后, 進(jìn)入開(kāi)水器500中,然后進(jìn)入小分子水發(fā)生器600中。整個(gè)過(guò)程約3分鐘,水杯90中便可獲得小分子開(kāi)水,直接飲用即可。需要再次獲得小分子開(kāi)水時(shí),通過(guò)操作開(kāi)水器500的操作面板,即可決定是否有開(kāi)水流入小分子水發(fā)生器600,從而獲得小分子開(kāi)水。[0045]此外,現(xiàn)有技術(shù)的開(kāi)水器中,用其他方法獲得50Hz以上的小分子開(kāi)水,再進(jìn)入本發(fā)明的小分子水發(fā)生器,將獲得更小分子團(tuán)、品質(zhì)更高的小分子開(kāi)水。[0046]以上詳細(xì)描述了本實(shí)用新型的較佳具體實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)理解,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員無(wú)需創(chuàng)造性勞動(dòng)就可以根據(jù)本實(shí)用新型的構(gòu)思作出諸多修改和變化。因此,凡本技術(shù)領(lǐng)域中技術(shù)人員依本實(shí)用新型的構(gòu)思在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上通過(guò)邏輯分析、推理或者有限的實(shí)驗(yàn)可以得到的技術(shù)方案,皆應(yīng)在由權(quán)利要求書(shū)所確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),包括開(kāi)水器(500)和小分子水發(fā)生器(600);所述小分子水發(fā)生器(600)包括殼體(100);所述殼體(100)上設(shè)置有進(jìn)水孔(101)和出水孔(102); 所述殼體(100)中設(shè)置有至少一組切割單元;所述切割單元包括相對(duì)設(shè)置的第一導(dǎo)流盤(pán) (200)和第二導(dǎo)流盤(pán)(400);所述第一導(dǎo)流盤(pán)(200)和第二導(dǎo)流盤(pán)(400)之間設(shè)置有磁鐵 (300);所述第一導(dǎo)流盤(pán)(200)和第二導(dǎo)流盤(pán)(400)均包括底盤(pán)(1)和導(dǎo)流肋(2);所述底盤(pán) (1)上設(shè)置有中心孔(3);所述導(dǎo)流肋(2)的尾端位于所述底盤(pán)(1)的邊緣處設(shè)置有第一出水擋塊(5);其特征是所述開(kāi)水器(500)的出水口(501)下方設(shè)置有所述小分子水發(fā)生器 (600);所述小分子水發(fā)生器(600)固定在所述開(kāi)水器(500)的殼體(502)上;所述開(kāi)水器(500)的殼體(502)位于所述小分子水發(fā)生器(600)的下方處設(shè)置有用于容納水杯(90)的空間(900)。
2.如權(quán)利要求1所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述開(kāi)水器(500)的進(jìn)水管路 (503 )上設(shè)置有凈水器(700 )。
3.如權(quán)利要求1所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述開(kāi)水器(500)的出水口(501)與所述小分子水發(fā)生器(600)之間設(shè)置有暫存容器(800);所述暫存容器(800)的出水口(801)與小分子水發(fā)生器(600)的進(jìn)水孔(101)相連。
4.如權(quán)利要求3所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述導(dǎo)流肋(2)的形狀為與所述中心孔(3)同心的一虛擬圓(4)為基圓的漸開(kāi)線(xiàn)。
5.如權(quán)利要求4所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述底盤(pán)(1)上均布設(shè)置有四根所述導(dǎo)流肋(2)。
6.如權(quán)利要求5所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是各所述第一出水擋塊(5)之間位于所述底盤(pán)(1)邊緣處設(shè)置有第二出水擋塊(6 )。
7.如權(quán)利要求6所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述第二出水擋塊(6)位于所述第一出水擋塊(5) —側(cè)的端部朝所述第一出水擋塊(5)的方向斜向設(shè)置有第三出水擋塊 (7)。
8.如權(quán)利要求5所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述導(dǎo)流肋(2)的高度為2mm ο
9.如權(quán)利要求8所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述進(jìn)水孔(101)的直徑為 8mm ;所述出水孔(102)的直徑為5. 5mm ;所述中心孔(3)的直徑為7mm ;相鄰導(dǎo)流肋(2)之間的距離(L)為4 mm。
10.如權(quán)利要求1所述的小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),其特征是所述第二導(dǎo)流盤(pán)(400)的邊緣設(shè)置有與所述底盤(pán)(1) 一體的擋水壁(8)。
專(zhuān)利摘要一種小分子開(kāi)水發(fā)生系統(tǒng),包括開(kāi)水器和小分子水發(fā)生器;小分子水發(fā)生器包括殼體;殼體上設(shè)置有進(jìn)水孔和出水孔;殼體中設(shè)置有至少一組切割單元;切割單元包括相對(duì)設(shè)置的第一導(dǎo)流盤(pán)和第二導(dǎo)流盤(pán);第一導(dǎo)流盤(pán)和第二導(dǎo)流盤(pán)之間設(shè)置有磁鐵;第一導(dǎo)流盤(pán)和第二導(dǎo)流盤(pán)均包括底盤(pán)和導(dǎo)流肋;底盤(pán)上設(shè)置有中心孔;導(dǎo)流肋的尾端位于底盤(pán)的邊緣處設(shè)置有第一出水擋塊;開(kāi)水器的出水口下方設(shè)置有小分子水發(fā)生器;小分子水發(fā)生器固定在開(kāi)水器的殼體上;開(kāi)水器的殼體位于小分子水發(fā)生器的下方處設(shè)置有用于容納水杯的空間。本實(shí)用新型操作簡(jiǎn)單,可使開(kāi)水分子團(tuán)被切割的更小,達(dá)到小于50Hz、或40Hz甚至30Hz的水平,并且出水速度更快,制得500ml小分子開(kāi)水只需要3分鐘的時(shí)間。
文檔編號(hào)C02F1/48GK202272762SQ201120370200
公開(kāi)日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2011年10月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月8日
發(fā)明者張代林, 張興海 申請(qǐng)人:重慶小康工業(yè)集團(tuán)股份有限公司