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      一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):4880452閱讀:504來源:國知局
      專利名稱:一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備,屬于水處理技術(shù)領(lǐng)域。
      背景技術(shù)
      污垢問題對(duì)于換熱系統(tǒng)來說一直是最大的難題,換熱系統(tǒng)中的污垢主要分為化學(xué)污垢和微生物污垢兩種。處理化學(xué)污垢,主要使用投加阻垢劑來緩解系統(tǒng)結(jié)垢,配合定期酸洗清除。但是化學(xué)阻垢劑使用效果的好壞和阻垢劑的選擇密切相關(guān),通常阻垢劑很難達(dá)到理論上的效果。 阻垢劑在水中還會(huì)增加電導(dǎo)率,相應(yīng)的降低了濃縮倍數(shù),同時(shí)一部分阻垢劑是難降解有機(jī)物,會(huì)使后續(xù)處理難度加大。傳統(tǒng)的物理阻垢技術(shù)有主要有電場阻垢和磁場阻垢兩種,主要是利用電場或磁場作用改變碳酸鈣結(jié)晶結(jié)構(gòu),使其更容易被水流沖走。首先,改變了結(jié)晶形狀的碳酸鈣結(jié)晶會(huì)更難粘附在光滑管道表面,但是隨著時(shí)間的推移,總會(huì)有一部分碳酸鈣結(jié)晶或者顆粒物粘附在管道表面上形成晶核,之后晶核就會(huì)逐漸長大形成水垢。因此這些物理方法只是推遲了水垢的形成時(shí)間,等使用一段時(shí)間后水垢就會(huì)像平時(shí)那樣大量形成。其次,水垢形成之后改變了結(jié)晶形態(tài),形成了松散的文石結(jié)構(gòu),因此更容易被水流沖走。但是由于不是所有的結(jié)晶都能改變成文石結(jié)構(gòu),所以隨著結(jié)晶的逐漸增大,松散的文石被沖走了,留下致密的方解石結(jié)構(gòu)沉淀,水垢還是很牢固的粘附在管道上。由上述問題可知,傳統(tǒng)物理阻垢法在使用了一段時(shí)間后都會(huì)發(fā)現(xiàn)效果越來越差。處理微生物污垢,主要是投加殺菌劑和緩蝕劑。循環(huán)水的溫度適宜微生物生長,當(dāng)微生物大量繁殖后會(huì)引起水體濁度上升,并且附著在碳酸鈣結(jié)晶上會(huì)引起垢下腐蝕,管道被微生物腐蝕后又會(huì)進(jìn)一步提高濁度和色度。因此必須要投加大量的殺菌劑和緩蝕劑來清除微生物,降低水體中的鐵離子含量。通常使用的殺菌劑都是氧化性殺菌劑,這些殺菌劑本身對(duì)管道具有腐蝕性,會(huì)降低緩蝕劑效果。因此,使用化學(xué)藥劑很難達(dá)到除垢、緩蝕、殺菌效果的平衡。

      實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備,利用電解原理,將水中暫時(shí)硬度降低的同時(shí),降低水體PH值,析出氯氣,實(shí)現(xiàn)了除垢、緩蝕、殺菌效果的動(dòng)態(tài)平衡。可以取消化學(xué)藥劑的投加,提高循環(huán)水濃縮倍數(shù)。本實(shí)用新型是通過以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種除垢緩蝕殺菌設(shè)備,包括反應(yīng)器主體、電極系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng),所述反應(yīng)器主體是一個(gè)具有蓋板的循環(huán)水金屬承載罐,電極系統(tǒng)包括陽極和陰極,所述陽極設(shè)置在所述蓋板上,并延伸至金屬承載罐內(nèi)部,所述陰極為金屬承載罐本身;所述排氣系統(tǒng)為排氣管,設(shè)置在金屬承載罐蓋板頂部;所述控制系統(tǒng)控制水循環(huán)系統(tǒng)的進(jìn)水與出水、電解的開始與結(jié)束、電解過程的電流控制。所述金屬承載罐的本體上設(shè)置進(jìn)水閥、出水閥和排水閥。所述金屬承載罐本體上設(shè)置除垢電極。所述除垢緩蝕殺菌設(shè)備可以是一個(gè)或者一個(gè)以上并聯(lián)使用。具體的工作流程為在陰極端,將HCO3-電解為CO/-,與水中的Ca2+進(jìn)行結(jié)合形成CaCO3結(jié)垢并析出在陰極上,具體為2H20 — 2Η++20ΙΓ — H2 個(gè) +20ΓHCO3^Or — CO廣+H2OCa2++C0廣一CaCO3 I ;在陽極端,采用電極催化循環(huán)水中的氯離子生成氯氣,氯氣溶于水進(jìn)行殺菌防腐,具體為2CF — Cl2 C12+H20 — HC1+HC10 ;所述電解步驟析出在陰極上的CaCO3結(jié)垢由一個(gè)控制系統(tǒng)控制在CaCO3結(jié)垢-腐蝕的平衡點(diǎn)附近;將析出的CaCO3結(jié)垢從陰極上脫落,并將脫落的水垢排出所述金屬承載罐本體外部。本實(shí)用新型的有益效果為1.通過電解水的方式來降低循環(huán)水體的pH值,并同時(shí)生成氯氣進(jìn)行殺菌,形成了一個(gè)除垢、緩蝕、殺菌效果的動(dòng)態(tài)平衡。2.形成的CaCO3水垢較為松散,后處理簡單,使電解運(yùn)行效率高。3.配套設(shè)備完整,取消化學(xué)試劑投放,提高循環(huán)水濃縮倍數(shù)。

      圖1是單個(gè)除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備的結(jié)構(gòu)主視圖圖2是單個(gè)除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖
      具體實(shí)施方式
      以下結(jié)合附圖與實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。如圖1和圖2,是單個(gè)除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備的結(jié)構(gòu)主視圖和側(cè)視圖,包括反應(yīng)器主體、電極系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng),其中反應(yīng)器主體是一個(gè)具有蓋板101的循環(huán)水金屬承載罐1,電極系統(tǒng)包括陽極2和陰極,陽極設(shè)置在蓋板101上,并延伸至金屬承載罐I內(nèi)部,陰極為金屬承載罐I本身;所述排氣系統(tǒng)為排氣管3,設(shè)置在金屬承載罐蓋板頂部;所述控制系統(tǒng)控制水循環(huán)系統(tǒng)的進(jìn)水與出水、電解的開始與結(jié)束、電解過程的電流控制。金屬承載罐的本體上設(shè)置進(jìn)水閥4、出水閥5和排水閥6。進(jìn)水閥4、出水閥5控制循環(huán)水進(jìn)入和離開金屬承載罐,排水閥6控制水垢和一部分循環(huán)水離開金屬承載罐。金屬承載罐本體上還設(shè)置了除垢電極7。當(dāng)采用短路的方式進(jìn)行除垢時(shí),可以采用除垢電極作為陽極,進(jìn)行電解短路,從而達(dá)到除垢效果。本設(shè)備在工作時(shí)可以是一個(gè)使用,也可以是一個(gè)以上并聯(lián)使用。[0032]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要 求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等同物界定。
      權(quán)利要求1.一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備,其特征在于包括反應(yīng)器主體、電極系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng),所述反應(yīng)器主體是一個(gè)具有蓋板的循環(huán)水金屬承載罐,電極系統(tǒng)包括陽極和陰極, 所述陽極設(shè)置在所述蓋板上,并延伸至金屬承載罐內(nèi)部,所述陰極為金屬承載罐本身;所述排氣系統(tǒng)為排氣管,設(shè)置在金屬承載罐蓋板頂部;所述控制系統(tǒng)控制水循環(huán)系統(tǒng)的進(jìn)水與出水、電解的開始與結(jié)束、電解過程的電流控制。
      2.如權(quán)利要求1所述的一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備,其特征在于所述金屬承載罐的本體上設(shè)置進(jìn)水閥、出水閥和排水閥;所述金屬承載罐本體上設(shè)置除垢電極。
      3.如權(quán)利要求1所述的一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備,其特征在于所述除垢緩蝕殺菌設(shè)備可以是一個(gè)或者一個(gè)以上并聯(lián)使用。
      專利摘要本實(shí)用新型公開了一種除垢緩蝕殺菌專用設(shè)備,包括反應(yīng)器主體、電極系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng),所述反應(yīng)器主體是一個(gè)具有蓋板的循環(huán)水金屬承載罐,電極系統(tǒng)包括陽極和陰極,所述陽極設(shè)置在所述蓋板上,并延伸至金屬承載罐內(nèi)部,所述陰極為金屬承載罐本身;所述排氣系統(tǒng)為排氣管,設(shè)置在金屬承載罐蓋板頂部;所述控制系統(tǒng)控制反應(yīng)器主體的進(jìn)水與出水、電解的開始與結(jié)束、電解過程的電流控制。本系統(tǒng)采用控制系統(tǒng)將循環(huán)水控制在“結(jié)垢-腐蝕”平衡點(diǎn)附近,使生成的水垢再次被溶解,循環(huán)處理。常用于換熱設(shè)備,可以取消化學(xué)藥劑的投加,提高循環(huán)水的濃縮倍數(shù),達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡的殺菌。
      文檔編號(hào)C02F1/461GK202849169SQ20122049147
      公開日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2012年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月24日
      發(fā)明者喬治·王陶, 鄭巍 申請(qǐng)人:江蘇江華水處理設(shè)備有限公司
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