專利名稱：一種電鍍工件清洗及所產(chǎn)生廢水處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于電鍍工件在電鍍前后進(jìn)行清洗的裝置以及清洗后所產(chǎn)生廢水的處理裝置。
背景技術(shù)：
電鍍操作過(guò)程中，在電鍍前以及電鍍后都要對(duì)電鍍工件徹底清洗，現(xiàn)有電鍍行業(yè)都是采用流動(dòng)清洗排放方式進(jìn)行清洗，干凈的水在流動(dòng)的過(guò)程中對(duì)電鍍工件進(jìn)行清洗，一般水的流速較慢，因此將電鍍工件清洗干凈需要耗費(fèi)大量的水，當(dāng)然這將產(chǎn)生大量的廢水。這些廢水中含有大量有害的重金屬離子、氰化物及各種化學(xué)物料，這些廢水不能重復(fù)使用，當(dāng)其向外排放時(shí)，會(huì)對(duì)植物、動(dòng)物及人類都構(gòu)成嚴(yán)重危害，如在自然界累積將產(chǎn)生可達(dá)到災(zāi)難性的級(jí)別，受到國(guó)家環(huán)保局的嚴(yán)格監(jiān)管。然后，由于這些廢水量巨大，對(duì)廢水的凈化處理需要耗費(fèi)很大的人力、物力和財(cái)力，因此，這些廢水的凈化處理很難實(shí)現(xiàn)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種能夠大大降低用水量的電鍍工件清洗裝置。同時(shí)，本實(shí)用新型還提供一種對(duì)采用所述清洗裝置對(duì)電鍍工件清洗所產(chǎn)生廢水進(jìn)行處理的廢水風(fēng)干處理裝置。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為:一種電鍍工件清洗裝置，所述電鍍工件清洗裝置包括清洗承水容器、高壓泵以及與所述高壓泵出水口連接的噴射水槍。所述清洗承水容器可為圓柱體、長(zhǎng)方體、正方體等各種形狀，其大小可根據(jù)需要清洗的電鍍工件的大小及實(shí)際需要等合理選擇。使用時(shí)，將各種需要清洗的電鍍工件掛在支架上，然后將掛有電鍍工件的支架置于所述清洗承水容器中，啟動(dòng)高壓泵，由于噴射水槍與高壓泵的出水口連接，因此，從噴水水槍噴出的水具有較大的沖擊力。將噴水水槍的出水口向清洗承水容器中掛在支架上的電鍍工件噴水，實(shí)現(xiàn)對(duì)電鍍工件的清洗。因?yàn)閺膰娚渌畼尦隹趪姵龅乃哂休^高的沖擊力，因此只需少量的水即可實(shí)現(xiàn)對(duì)電鍍工件的徹底清洗。實(shí)際操作中，可將噴水水槍固定在所述清洗承水容器的頂板上，也可將噴射水槍活動(dòng)設(shè)置在清洗承水容器的頂板上，亦可人工操作噴射水槍向從清洗承水容器的上方、上部等各方位向電鍍工件噴水清洗。較佳地，所述噴射水槍在噴水的過(guò)程中可全方位搖擺，從而能夠噴射沖洗清洗承水容器中電鍍工件的隱蔽位置，使得對(duì)電鍍工件的清洗更加干凈徹底。上述所述電鍍工件清洗裝置，由于采用高壓水對(duì)電鍍工件噴射沖洗，與現(xiàn)有采用干凈的水不停流動(dòng)清洗排放的方式對(duì)電鍍工件清洗相比，采用上述所述清洗裝置的用水量為采用現(xiàn)有裝置用水量的5%以下，如采用自動(dòng)生產(chǎn)線方式，本發(fā)明所述方法的用水量為現(xiàn)有方法用水量的30%以下，顯著地降低了清洗用水量，節(jié)約水資源，同時(shí)大大減少了清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水。在具體的實(shí)施方式中，所述噴射水槍可設(shè)置一支、兩支或多支，根據(jù)清洗承水容器中電鍍工件的大小、數(shù)量 等選擇噴射水槍的數(shù)量。所使用的水可為清潔用水或純水。[0007]作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述清洗承水容器中設(shè)置間隔板，所述間隔板將所述清洗承水容器分割為用于清洗電鍍工件的上半部分以及用于盛裝清洗所產(chǎn)生廢水的下半部分。在清洗承水容器中設(shè)置間隔板，所述間隔板用于承載掛有電鍍工件的支架，將掛有電鍍工件的支架置于所述間隔板上。所述間隔板將所述清洗承水容器分為上下兩部分，上半部分用于電鍍工件的清洗，下半部分用于盛放清洗過(guò)程中所產(chǎn)生的廢水。間隔板的高度可根據(jù)實(shí)際需要及電鍍工件的數(shù)量及大小等設(shè)計(jì)，間隔板越高，清洗承水容器中上半部分用于清洗電鍍工件的空間越小，下半部分用于盛放清洗廢水的空間則越大，可根據(jù)需要靈活選擇間隔板的高度，使清洗承水容器被其分割成的上半部分和下半部分具有合理大小的空間。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述間隔板為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。所述間隔板設(shè)計(jì)為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，此設(shè)計(jì)便于清洗承水容器上半部分清洗電鍍工件所產(chǎn)生廢水的通過(guò)間隔板的網(wǎng)孔流入清洗承水容器的下半部分。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述清洗承水容器的下半部分設(shè)有排水管。在所述清洗承水容器的下半部分設(shè)置排水管，當(dāng)廢水在所述清洗承水容器下半部分積累到一定量時(shí)，可通過(guò)所述排水管排至廢水處理裝置。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述間隔板的上方設(shè)置有轉(zhuǎn)盤。在所述間隔板的上方設(shè)置轉(zhuǎn)盤，所述掛有電鍍工件的支架置于所述間隔板上方的轉(zhuǎn)盤上，所述掛有電鍍工件的支架在轉(zhuǎn)盤的作用下可旋轉(zhuǎn)，支架的旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)其上的電鍍工件旋轉(zhuǎn)，可對(duì)電鍍工件進(jìn)行全方位的噴射沖洗，不僅使操作更加靈活，尤其有利于噴射沖洗電鍍工件的隱蔽位置，使得電鍍工件的清洗更加干凈徹底。本實(shí)用新型還提供一種與上述所述電鍍工件清洗裝置配合使用的廢水處理裝置，所述廢水處理裝置包括:廢水處理平臺(tái)；設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)下部的廢水槽；
`[0014]設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)中部的棉布；以及設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)上部的淋水裝置，所述淋水裝置包括中心管以及與中心管連通的淋水管，所述淋水管上設(shè)有淋水孔；所述廢水處理平臺(tái)的上方設(shè)置有太陽(yáng)能裝置；所述廢水槽上方設(shè)有抽水裝置，所述抽水裝置的抽水管連接到太陽(yáng)能裝置的進(jìn)水口，所述太陽(yáng)能裝置的出水口設(shè)有熱水輸送管，所述熱水輸送管連接至所述淋水裝置的中心管。所述廢水處理裝置包括廢水處理平臺(tái)，在廢水處理平臺(tái)的下部設(shè)置廢水槽，用于盛裝從清洗裝置的清洗承水容器排出的廢水，實(shí)踐中，通常將清洗承水容器下半部分的排水管連接至所述廢水槽，通過(guò)所述排水管將廢水由清洗承水容器排至廢水槽，排至廢水槽中的廢水，在廢水槽上方設(shè)置的抽水裝置的作用下抽至太陽(yáng)能裝置中，并在太陽(yáng)能裝置中加熱，廢水一般在太陽(yáng)能裝置中加熱至30-45°C即可排出，加熱后的廢水通過(guò)與太陽(yáng)能出水口連接的熱水輸送管排至淋水裝置的中心管，由于所述淋水裝置的中心管與淋水管連通，因此加熱后的廢水進(jìn)入到淋水管中，并通過(guò)淋水管上設(shè)置的淋水孔淋灑到淋水裝置的下方，因?yàn)樗隽芩b置設(shè)于廢水處理平臺(tái)的上部，所述廢水處理平臺(tái)的中部設(shè)有棉布，因此棉布位于所述淋水裝置的下方，進(jìn)入到淋水管中的加熱后廢水通過(guò)淋水管的淋水孔淋灑到淋水裝置下方的棉布上，廢水在棉布上不斷蒸發(fā)風(fēng)干，干凈的水蒸發(fā)直接進(jìn)入到大氣，不需設(shè)置排水道，廢水中的重金屬等物質(zhì)留在棉布上，可回收利用，完成廢水的處理。因?yàn)椴捎帽緦?shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置對(duì)電鍍工件清洗時(shí)，所產(chǎn)生的廢水量非常少，僅為現(xiàn)有技術(shù)所產(chǎn)生廢水量的5%以下，如采用自動(dòng)生產(chǎn)線方式，因自動(dòng)生產(chǎn)數(shù)量較大，所產(chǎn)生的廢水量與現(xiàn)有方法相比在30%以下，因此采用本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置對(duì)電鍍工件清洗所產(chǎn)生的少量廢水可采用上述所述廢水處理裝置進(jìn)行處理，處理后，干凈的水直接風(fēng)干進(jìn)入大氣，不用設(shè)置排水道，廢水中的重金屬等留在棉布上，可回收利用，有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中電鍍工業(yè)產(chǎn)生大量清洗廢水、難以處理的難題。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述棉布的一端設(shè)有用于向棉布抽氣的抽氣裝置。所述抽氣裝置可用于不斷向棉布抽氣，加快棉布中廢水的蒸發(fā)風(fēng)干速度，且當(dāng)自然風(fēng)較小時(shí)，所述抽氣裝置的設(shè)置能夠彌補(bǔ)自然風(fēng)的不足，使得整個(gè)廢水處理裝置不會(huì)因?yàn)樽匀伙L(fēng)的不足而停止工作，避免了天氣因素的影響。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述棉布的另一端設(shè)有用于向廢水槽中廢水加熱的制熱裝置。當(dāng)白天陽(yáng)光不足或夜晚需要對(duì)廢水進(jìn)行處理時(shí)，使用所述制熱裝置對(duì)廢水槽中的廢水進(jìn)行加熱至30-35°C，使加熱后的廢水抽至太陽(yáng)能裝置并輸送到淋水裝置中，淋灑到淋水裝置下方的棉布上蒸發(fā)風(fēng)干。所述制熱裝置的設(shè)置使得本實(shí)用新型所述廢水處理裝置不受陽(yáng)光的限制。所述制熱裝置和上述抽氣裝置的設(shè)置可使本實(shí)用新型所述廢水處理裝置全年不斷的運(yùn)作，避免了天氣因素的影響，更加適于工業(yè)化。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述淋水裝置的淋水管中部與所述中心管連通。所述淋水管的中部與所述中心管連通，所述淋水管沿所述中心管對(duì)稱，此種結(jié)構(gòu)更有利于中心管中的廢水進(jìn)入到淋水管中。所述淋水管上 的淋水孔一般設(shè)置于所述淋水管的側(cè)壁上，使用時(shí)，所述淋水管水平放置，進(jìn)入到淋水管中的廢水通過(guò)淋水管側(cè)壁上的淋水孔淋灑到淋水裝置下方的棉布上。一般地，所述棉布豎直放置，淋灑到棉布中的廢水沿棉布逐漸向下移動(dòng)，在移動(dòng)的過(guò)程中不斷蒸發(fā)風(fēng)干，棉布豎直放置使得廢水具有較長(zhǎng)的蒸發(fā)風(fēng)干時(shí)間，廢水不易從棉布中滴落?？筛鶕?jù)水平放置的淋水管側(cè)壁上淋水孔的數(shù)量多少，設(shè)置一排、兩排或多排豎直放置的棉布，以能夠不讓通過(guò)淋水孔淋灑到下方的廢水直接滴落到廢水中為宜，實(shí)踐中根據(jù)需要合理選擇。作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述太陽(yáng)能裝置為太陽(yáng)能管或太陽(yáng)能板。所述太陽(yáng)能裝置用于為通過(guò)抽水裝置的抽水管進(jìn)入到太陽(yáng)能裝置中的廢水進(jìn)行加熱，只要能實(shí)現(xiàn)對(duì)廢水加熱的目的即可，實(shí)踐中，一般采用太陽(yáng)能管或太陽(yáng)能板。本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置，只需少量的水即可實(shí)現(xiàn)對(duì)被清洗電鍍工件徹底清洗，與采用現(xiàn)有技術(shù)的清洗裝置相比，本實(shí)用新型所述清洗裝置所產(chǎn)生的廢水僅為現(xiàn)有技術(shù)的5%以下，如采用自動(dòng)生產(chǎn)線方式，因自動(dòng)生產(chǎn)數(shù)量較大，所產(chǎn)生的廢水量與現(xiàn)有方法相比在30%以下，顯著降低了用水量和所產(chǎn)生的廢水量，不僅節(jié)約了用水，而且減輕了后續(xù)廢水處理工作的負(fù)擔(dān)。本實(shí)用新型所述廢水處理裝置，與本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置配合使用，用于處理電鍍工件清洗裝置中對(duì)電鍍工件清洗所產(chǎn)生的少量廢水，廢水在處理裝置中加熱，然后通過(guò)淋水裝置淋灑到淋水裝置下方的棉布上，加熱后的廢水在棉布上蒸發(fā)風(fēng)干，干凈的水直接蒸發(fā)風(fēng)干進(jìn)入大氣，不需設(shè)置排水道，廢水中的重金屬等物質(zhì)留在棉布上，可回收利用，實(shí)現(xiàn)對(duì)廢水的處理，解決了現(xiàn)有技術(shù)中電鍍工業(yè)產(chǎn)生大量清洗廢水、難以處理的難題。

圖1為本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置的一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1所示電鍍工件清洗裝置中清洗承水容器的頂板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗所產(chǎn)生廢水處理裝置的一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖3所示廢水處理裝置中太陽(yáng)能裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為圖3所示廢水處理裝置中淋水裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖6為圖3所示廢水處理裝置中抽氣裝置的左視結(jié)構(gòu)示意圖。圖7為圖3所示廢水處理裝置中制熱裝置的右視結(jié)構(gòu)示意圖。圖8為圖1所示電鍍工件清洗裝置與圖3所示廢水處理裝置配合使用的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為更好的說(shuō)明本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)，下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一·步說(shuō)明。一種電鍍工件清洗裝置，如附圖1所示，所述電鍍工件清洗裝置100包括清洗承水容器10、高壓泵30以及與所述高壓泵30出水口連接的噴射水槍20。所述清洗承水容器10可為圓柱體、長(zhǎng)方體、正方體等各種形狀，附圖1所示的清洗承水容器10為正方體，其大小可根據(jù)需要清洗的電鍍工件的大小及實(shí)際需要等合理選擇。使用時(shí)，將各種需要清洗的電鍍工件(圖中未畫出)掛在支架(圖中未畫出)上，然后將掛有電鍍工件的支架置于所述清洗承水容器10中，啟動(dòng)高壓泵30，由于噴射水槍20與高壓泵30的出水口連接，因此，從噴水水槍20噴出的水具有較大的沖擊力。將噴水水槍20的出水口向清洗承水容器10中掛在支架上的電鍍工件噴水，實(shí)現(xiàn)對(duì)電鍍工件的清洗。因?yàn)閺膰娚渌畼?0出口噴出的水具有較高的沖擊力，因此只需少量的水即可實(shí)現(xiàn)對(duì)電鍍工件的徹底清洗。實(shí)際操作中，可將噴水水槍20固定在所述清洗承水容器10的頂板14上，也可將噴射水槍20活動(dòng)設(shè)置在清洗承水容器10的頂板14上,亦可人工靈活地操作噴射水槍20向電鍍工件噴水清洗。較佳地，所述噴射水槍20在噴水的過(guò)程中可全方位搖擺，從而能夠噴射沖洗清洗承水容器10中電鍍工件的隱蔽位置，使得對(duì)電鍍工件的清洗更加干凈徹底。上述所述電鍍工件清洗裝置100，由于采用高壓水對(duì)電鍍工件噴射沖洗，與現(xiàn)有采用干凈的水不停流動(dòng)排放的方式對(duì)電鍍工件清洗相比，采用上述所述清洗裝置100的用水量為采用現(xiàn)有裝置用水量的5%以下，如采用自動(dòng)生產(chǎn)線方式，用水量為現(xiàn)有方法用水量的30%以下。顯著地降低了清洗用水量，節(jié)約水資源，同時(shí)大大減少了清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水。較佳地，所述噴射水槍20可設(shè)置一支、兩支或多支，根據(jù)清洗承水容器10中電鍍工件的大小、數(shù)量等選擇噴射水槍20的數(shù)量。所使用的水可為清潔用水或純水。較佳地，如附圖1所示，所述清洗承水容器10中設(shè)置間隔板12，所述間隔板12將所述清洗承水容器10分割為用于清洗電鍍工件的上半部分以及用于盛裝清洗所產(chǎn)生廢水的下半部分。在清洗承水容器10中設(shè)置間隔板12，所述間隔板12用于承載掛有電鍍工件的支架，將掛有電鍍工件的支架置于所述間隔板12上。所述間隔板12將所述清洗承水容器10分為上下兩部分，上半部分用于電鍍工件的清洗，下半部分用于盛放清洗過(guò)程中所產(chǎn)生的廢水。間隔板12的高度可根據(jù)實(shí)際需要及電鍍工件的數(shù)量及大小等設(shè)計(jì)，間隔板12越高，清洗承水容器10中上半部分用于清洗電鍍工件的空間越小，下半部分用于盛放清洗廢水的空間則越大，可根據(jù)需要靈活選擇間隔板12的高度，使清洗承水容器10被其分割成的上半部分和下半部分具有合理大小的空間。較佳地，所述間隔板12為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。附圖1所示的間隔板12為間隔條結(jié)構(gòu)。所述間隔板12設(shè)計(jì)為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，此設(shè)計(jì)便于清洗承水容器0上半部分清洗電鍍工件所產(chǎn)生廢水的通過(guò)間隔板12的網(wǎng)孔流入清洗承水容器10的下半部分。較佳地，如附圖1所示，所述清洗承水容器10的下半部分設(shè)有排水管16。在所述清洗承水容器10的下半部分設(shè)置排水管16，當(dāng)廢水在所述清洗承水容器10下半部分積累到一定量時(shí)，可通過(guò)所述排水管16排至廢水處理裝置200。較佳地，所述間隔板12的上方設(shè)置有轉(zhuǎn)盤(圖中未畫出)。在所述間隔板12的上方設(shè)置轉(zhuǎn)盤，所述掛有電鍍工件的支架置于所述間隔板12上方的轉(zhuǎn)盤上，所述掛有電鍍工件的支架在轉(zhuǎn)盤的作用下可旋轉(zhuǎn)，支架的旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)其上的電鍍工件旋轉(zhuǎn)，可對(duì)電鍍工件進(jìn)行全方位的噴射沖洗，不僅使操作更加靈活，尤其有利于噴射沖洗電鍍工件的隱蔽位置，使得電鍍工件的清洗更加干凈徹底。一種與上述所述電鍍工件清洗裝置配合使用的廢水處理裝置200，如附圖3所示，所述廢水處理裝置200包括:廢水處理平臺(tái)201 ；設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)201下部的廢水槽40 ；設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)201中部的棉布70 ；以及設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)201上部的淋水裝置60，所述淋水裝置60包括中心管62以及與中心管62連通的淋水管64，所述淋水管64上設(shè)有淋水孔66 ；所述廢水處理平臺(tái)201的上方設(shè)置有太陽(yáng)能裝置50 ；所述廢水槽40上方設(shè)有抽水裝置42，所述抽水裝置42的抽水管44連接到太陽(yáng)能裝置50的進(jìn)水口，所述太陽(yáng)能裝置50的出水口設(shè)有熱水輸送管52，所述熱水輸送管52連接至所述淋水裝置60的中心管62。所述廢水處理裝置200包括廢水處理平臺(tái)201，在廢水處理平臺(tái)201的下部設(shè)置廢水槽40，用于盛裝從清洗裝置100的清洗承水容器10排出的廢水，實(shí)踐中，通常將清洗承水容器10下半部分的排水管16連接至所述廢水槽40，通過(guò)所述排水管16將廢水由清洗承水容器10排至廢水槽40，排至廢水槽40中的廢水，在廢水槽40上方設(shè)置的抽水裝置42的作用下抽至太陽(yáng)能裝置50中，并在太陽(yáng)能裝置50中加熱，廢水一般在太陽(yáng)能裝置50中加熱至30-45°C即可排出，加熱后的廢水通過(guò)與太陽(yáng)能裝置50出水口連接的熱水輸送管52排至淋水裝置60的中心管62,由于所述淋水裝置60的中心管62與淋水管64連通，因此加熱后的廢水進(jìn)入到淋水管64中，并通過(guò)淋水管64上設(shè)置的淋水孔66淋灑到淋水裝置60的下方，因?yàn)樗隽芩b置60設(shè)于廢水處理平臺(tái)201的上部，所述廢水處理平臺(tái)201的中部設(shè)有棉布70，因此棉布70位于所述淋水裝置60的下方，進(jìn)入到淋水管64中的加熱后廢水通過(guò)淋水管64的淋水孔66淋灑到淋水裝置60下方的棉布70上，廢水在棉布70上不斷蒸發(fā)風(fēng)干，干凈的水蒸發(fā)直接進(jìn)入到大氣，不需設(shè)置排水道，廢水中的重金屬等物質(zhì)留在棉布上，可回收利用，完成廢水的處理。因?yàn)椴捎帽緦?shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置100對(duì)電鍍工件清洗時(shí)，所產(chǎn)生的廢水量非常少，僅為現(xiàn)有技術(shù)所產(chǎn)生廢水量的5%以下，因此采用本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置100對(duì)電鍍工件清洗所產(chǎn)生的少量廢水可采用上述所述廢水處理裝置200進(jìn)行處理，處理后，干凈的水直接風(fēng)干進(jìn)入大氣，不用設(shè)置排水道，廢水中的重金屬等留在棉布上，可回收利用，有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中電鍍工業(yè)產(chǎn)生大量清洗廢水、難以處理的難題。較佳地，如附圖3和6所不,所述棉布70的一端設(shè)有用于向棉布70抽氣的抽氣裝置80。所述抽氣裝置80可用于不斷向棉布70抽氣，加快棉布70中廢水的蒸發(fā)風(fēng)干速度，且當(dāng)自然風(fēng)較小時(shí)，所述抽氣裝置80的設(shè)置能夠彌補(bǔ)自然風(fēng)的不足，使得整個(gè)廢水處理裝置200不會(huì)因?yàn)樽匀伙L(fēng)的不足而停止工作，避免了天氣因素的影響。較佳地，如附圖3和7所示，所述棉布70的另一端設(shè)有用于向廢水槽40中廢水加熱的制熱裝置90。當(dāng)白天陽(yáng)光不足或夜晚需要對(duì)廢水進(jìn)行處理時(shí)，使用所述制熱裝置90對(duì)廢水槽40中的廢水進(jìn)行加熱至30-35°C，使加熱后的廢水抽至太陽(yáng)能裝置50并輸送到淋水裝置60中，淋灑到淋水裝置60下方的棉布70上蒸發(fā)風(fēng)干。所述制熱裝置90的設(shè)置使得本實(shí)用新型所述廢水處理裝置 200不受陽(yáng)光的限制。所述制熱裝置90和上述抽氣裝置80的設(shè)置可使本實(shí)用新型所述廢水處理裝置200全年不斷的運(yùn)作，避免了天氣因素的影響，更加適于工業(yè)化。較佳地，如附圖5所示，所述淋水裝置60的淋水管64中部與所述中心管62連通。所述淋水管64的中部與所述中心管62連通，所述淋水管64沿所述中心管62對(duì)稱，此種結(jié)構(gòu)更有利于中心管62中的廢水進(jìn)入到淋水管64中。如附圖5所示，所述淋水管64上的淋水孔66 —般設(shè)置于所述淋水管64的側(cè)壁上，使用時(shí)，所述淋水管64水平放置，進(jìn)入到淋水管64中的廢水通過(guò)淋水管64側(cè)壁上的淋水孔66淋灑到淋水裝置60下方的棉布70上。一般地，所述棉布70豎直放置，淋灑到棉布70中的廢水沿棉布70逐漸向下移動(dòng)，在移動(dòng)的過(guò)程中不斷蒸發(fā)風(fēng)干，棉布70豎直放置使得廢水具有較長(zhǎng)的蒸發(fā)風(fēng)干時(shí)間，廢水不易從棉布70中滴落?？筛鶕?jù)水平放置的淋水管64側(cè)壁上淋水孔66的數(shù)量多少，設(shè)置一排、兩排或多排豎直放置的棉布70，以能夠不讓通過(guò)淋水孔66淋灑到下方的廢水直接滴落到廢水槽40中為宜，實(shí)踐中根據(jù)需要合理選擇。較佳地，如附圖4所示，所述太陽(yáng)能裝置50為太陽(yáng)能管或太陽(yáng)能板。所述太陽(yáng)能裝置50用于為通過(guò)抽水裝置42的抽水管44進(jìn)入到太陽(yáng)能裝置50中的廢水進(jìn)行加熱，只要能實(shí)現(xiàn)對(duì)廢水加熱的目的即可，實(shí)踐中，一般采用太陽(yáng)能管或太陽(yáng)能板。實(shí)施例1分別采用現(xiàn)有技術(shù)和本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置對(duì)同樣的電鍍工件進(jìn)行清洗?，F(xiàn)有技術(shù)是采用干凈的水不停流動(dòng)清洗，排放至清洗干凈為止。而采用圖1所示本實(shí)用新型所述清洗裝置對(duì)電鍍工件清洗的過(guò)程，包括以下步驟:(I)將電鍍工件掛在支架上，把掛有電鍍工件的支架置于清洗承水容器中的間隔板上；[0059]( 2 )采用一支與高壓泵出水口連接的噴射水槍固定在所述清洗承水容器下方的頂板上，對(duì)掛在支架上的電鍍工件進(jìn)行清洗，至清洗干凈為止。分別測(cè)量采用現(xiàn)有技術(shù)和本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水量，結(jié)果為:采用現(xiàn)有技術(shù)清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水量為500m3/天，而采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水量為24m3/天。由此可知，采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水是采用現(xiàn)有技術(shù)的4.8%。本實(shí)施例中采用本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水，因?yàn)閺U水量比較少，可采用本實(shí)用新型所述的廢水處理裝置進(jìn)行處理。實(shí)施例2本實(shí)施例的條件及方法與實(shí)施例1相同，唯一不同的是采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件時(shí)，步驟(2)為:采用兩支與高壓泵出水口連接的噴射水槍，且噴射水槍在所述清洗承水容器的上方可搖擺，對(duì)掛在支架上的電鍍工件進(jìn)行清洗，至清洗干凈為止。此實(shí)施例中，采用現(xiàn)有技術(shù)清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水量仍為500m3/天，而采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水量為23m3/天。采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水是采用現(xiàn)有技術(shù)的4.6%。本實(shí)施例中采用本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水，因?yàn)閺U水量比較少，可采用本實(shí)用新型所述的廢水處理裝置進(jìn)行處理。實(shí)施例3本實(shí)施例與實(shí)施例2的條件及方法相同，唯一不同的是采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件時(shí)，步驟(I)中清洗承水容器中間隔板的上方設(shè)有轉(zhuǎn)盤(附圖1中未畫出)，所述掛有電鍍工件的支架置于所述間隔板上方的轉(zhuǎn)盤上，所述轉(zhuǎn)盤以0.5轉(zhuǎn)/分鐘的速度不斷轉(zhuǎn)動(dòng)，即掛有電·鍍工件的支架也隨轉(zhuǎn)盤以0.5轉(zhuǎn)/分鐘的速度不斷轉(zhuǎn)動(dòng)。此實(shí)施例中，采用現(xiàn)有技術(shù)清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水量仍為500m3/天，而采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水量為20m3/天。采用本實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水是采用現(xiàn)有技術(shù)的4%。本實(shí)施例中采用本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置清洗電鍍工件產(chǎn)生的廢水，因?yàn)閺U水量比較少，可采用本實(shí)用新型所述的廢水處理裝置進(jìn)行處理。由上述實(shí)施例可知，采用實(shí)用新型所述清洗裝置清洗電鍍工件所產(chǎn)生的廢水，是采用現(xiàn)有技術(shù)所產(chǎn)生廢水的5%以下。本實(shí)用新型所述電鍍工件清洗裝置100及所產(chǎn)生廢水處理裝置200可配合使用，其配合使用時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖如附圖8所示。電鍍工件(圖中未畫出)在清洗裝置100中采用與高壓泵30出水口連接的噴射水槍20進(jìn)行清洗，清洗所產(chǎn)生的少量廢水流入所述清洗承水容器10的下半部分，并通過(guò)清洗承水容器10下部設(shè)置的排水管16排入到所述廢水處理裝置100的廢水槽40中，所述廢水通過(guò)廢水槽40上方的抽水裝置42抽到太陽(yáng)能裝置50中進(jìn)行加熱至30-45°C ;當(dāng)太陽(yáng)不足時(shí)，采用所述制熱裝置90對(duì)廢水槽40中的廢水進(jìn)行加熱至30-35°C，然后通過(guò)所述抽水裝置42抽到太陽(yáng)能裝置50中。太陽(yáng)能裝置50中加熱后的廢水通過(guò)所述熱水輸送管52輸送到淋水裝置60的中心管62中，進(jìn)而進(jìn)入到淋水裝置60的多個(gè)淋水管64中，通過(guò)淋水管64上設(shè)置的多個(gè)淋水孔66淋灑到淋水裝置60下方的棉布70上，淋灑在棉布70上的廢水在自然風(fēng)或所述抽氣裝置80的作用下迅速蒸發(fā)風(fēng)干，廢水中的干凈水蒸發(fā)進(jìn)入大氣，廢水中的重金屬等物質(zhì)留在棉布上，可回收利用。所述整個(gè)裝置對(duì)廢水處理后，廢水中的干凈水直接風(fēng)干進(jìn)入大氣，不用設(shè)置排水道，而廢水中的重金屬等物質(zhì)在風(fēng)干的過(guò)程中留在棉布上，可回收利用，節(jié)能環(huán)保，實(shí)現(xiàn)對(duì)廢水的處理，解決了現(xiàn)有技術(shù)中電鍍工業(yè)產(chǎn)生大量清洗廢水、難以處理的難題。最后所應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制，盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的實(shí) 質(zhì)和范圍。
權(quán)利要求1.一種電鍍工件清洗裝置，其特征在于，所述電鍍工件清洗裝置包括清洗承水容器、高壓泵以及與所述高壓泵出水口連接的噴射水槍。
2.如權(quán)利要求1所述的電鍍工件清洗裝置，其特征在于，所述清洗承水容器中設(shè)置間隔板，所述間隔板將所述清洗承水容器分割為用于清洗電鍍工件的上半部分以及用于盛裝清洗所產(chǎn)生廢水的下半部分。
3.如權(quán)利要求2所述的電鍍工件清洗裝置，其特征在于，所述間隔板為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求2所述的電鍍工件清洗裝置，其特征在于，所述清洗承水容器的下半部分設(shè)有排水管。
5.如權(quán)利要求2所述的電鍍工件清洗裝置，其特征在于，所述間隔板的上方設(shè)置有轉(zhuǎn)盤。
6.一種與權(quán)利要求1所述電鍍工件清洗裝置配合使用的廢水處理裝置，其特征在于，所述廢水處理裝置包括: 廢水處理平臺(tái)； 設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)下部的廢水槽； 設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)中部的棉布；以及 設(shè)于所述廢水處理平臺(tái)上部的淋水裝置，所述淋水裝置包括中心管以及與中心管連通的淋水管，所述淋水管上設(shè)有淋水孔； 所述廢水處理平臺(tái)的上方設(shè)置有太陽(yáng)能裝置； 所述廢水槽上方設(shè)有抽水裝置，所述抽水裝置的抽水管連接到太陽(yáng)能裝置的進(jìn)水口，所述太陽(yáng)能裝置的出水口設(shè)有熱水輸送管，所述熱水輸送管連接至所述淋水裝置的中心管。
7.如權(quán)利要求6所述的廢水處理裝置，其特征在于，所述棉布的一端設(shè)有用于向棉布抽氣的抽氣裝置。
8.如權(quán)利要求7所述的廢水處理裝置，其特征在于，所述棉布的另一端設(shè)有用于向廢水槽中廢水加熱的制熱裝置。
9.如權(quán)利要求6所述的廢水處理裝置，其特征在于，所述淋水裝置的淋水管中部與所述中心管連通。
10.如權(quán)利要求6所述的廢水處理裝置，其特征在于，所述太陽(yáng)能裝置為太陽(yáng)能管或太陽(yáng)能板。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種用于對(duì)電鍍工件在鍍前、鍍后進(jìn)行清洗的清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗承水容器、高壓泵以及與所述高壓泵出水口連接的噴射水槍，所述噴射水槍設(shè)于所述清洗承水容器的上方。所述清洗裝置能夠采用高壓水射流對(duì)電鍍工件清洗，與現(xiàn)有采用干凈的水不停流動(dòng)排放的方式對(duì)電鍍工件清洗相比，采用上述所述清洗裝置的用水量為采用現(xiàn)有裝置用水量的5%以下，顯著地降低了清洗用水量，節(jié)約水資源。本實(shí)用新型還公開了一種與所述電鍍工件清洗裝置配合使用的廢水處理裝置，所述廢水處理裝置能夠?qū)U水中的干凈水直接蒸發(fā)風(fēng)干進(jìn)入大氣，不需設(shè)置排水道，有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中電鍍工業(yè)產(chǎn)生大量清洗廢水、難以處理的難題。
文檔編號(hào)C02F1/14GK203108845SQ20132002276
公開日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2013年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月16日
發(fā)明者黎永鏗 申請(qǐng)人:金蘋果國(guó)際有限公司