一種微渦流除硬度裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型是有關(guān)一種微渦流除硬度裝置，包括：絮凝一區(qū)、絮凝二區(qū)、過渡區(qū)、斜管區(qū)、清水區(qū)、出水渠及沉淀區(qū)；其中，絮凝一區(qū)的下部設(shè)有進(jìn)水管，在絮凝一區(qū)的中下部設(shè)有提升攪拌機(jī)；絮凝二區(qū)設(shè)置于絮凝一區(qū)的外側(cè)，與絮凝一區(qū)在頂部連通，在絮凝二區(qū)內(nèi)填充有微渦流球；過渡區(qū)與斜管區(qū)設(shè)置于絮凝二區(qū)的外側(cè)，過渡區(qū)與絮凝二區(qū)的底部連通；斜管區(qū)位于過渡區(qū)的上方，與過渡區(qū)的頂部連通；清水區(qū)設(shè)置于斜管區(qū)的上方，與斜管區(qū)的頂部連通，在清水區(qū)的上部設(shè)有出水堰；出水渠設(shè)置于清水區(qū)的外側(cè)，通過出水堰與清水區(qū)連通，在出水渠的底部設(shè)有出水管；沉淀區(qū)設(shè)置于絮凝一區(qū)、絮凝二區(qū)及過渡區(qū)的下方，在沉淀區(qū)的下部設(shè)有濃縮機(jī)。
【專利說明】—種微渦流除硬度裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及水處理領(lǐng)域的除硬度裝置，特別是涉及一種微渦流除硬度裝置?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]隨著我國對(duì)工業(yè)廢水排放及回用的要求更加嚴(yán)格，廢水回用已經(jīng)成為工業(yè)企業(yè)用水的主要途徑。而去除廢水的硬度則是廢水回用處理工藝中重要的一步。
[0003]在水處理技術(shù)中，常用的去除水硬度的工藝主要有藥劑軟化法、離子交換法和膜分離法。其中，藥劑軟化法廣泛應(yīng)用的主要有石灰軟化法、石灰一純堿軟化法和石灰一石膏軟化法等；離子交換法廣泛應(yīng)用的主要有Na離子交換法、H離子交換法和H-Na離子交換脫堿軟化法等；膜分離法廣泛應(yīng)用的主要有利用電位差的電滲析法、利用壓力差的反滲透法和超濾等。
[0004]在上述常用的去除水硬度的工藝中，應(yīng)用最為廣泛和經(jīng)濟(jì)可行的為藥劑軟化法。其中，常用的藥劑軟化法通常是利用高密度澄清池(例如專利申請(qǐng)?zhí)?200910136149.1的專利申請(qǐng)案)或者其變型構(gòu)筑物來去除水的硬度。這種去除水硬度的構(gòu)筑物具有投資總體高，機(jī)械設(shè)備多，施工難度較大，能耗大，運(yùn)行管理復(fù)雜等不足。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)所存在的缺陷，本實(shí)用新型的目的在于，提供一種微渦流除硬度裝置，使其裝置結(jié)構(gòu)簡單，施工方便，操作便捷，能耗低，投資省，同時(shí)硬度去除效率高，沉淀分離效果顯著，出水水質(zhì)穩(wěn)定。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種微渦流除硬度裝置，其包括:絮凝一區(qū)、絮凝二區(qū)、過渡區(qū)、斜管區(qū)、清水區(qū)、出水渠以及沉淀區(qū)；其中，所述絮凝一區(qū)的下部設(shè)有進(jìn)水管，在所述絮凝一區(qū)的中下部設(shè)有提升攪拌機(jī)；所述絮凝二區(qū)設(shè)置于所述絮凝一區(qū)的外側(cè)，與所述絮凝一區(qū)在頂部連通，在所述絮凝二區(qū)內(nèi)填充有微渦流球；所述過渡區(qū)設(shè)置于所述絮凝二區(qū)的外側(cè)，與所述絮凝二區(qū)的底部連通；所述斜管區(qū)設(shè)置于所述絮凝二區(qū)的外側(cè)，并位于所述過渡區(qū)的上方，與所述過渡區(qū)的頂部連通；所述清水區(qū)設(shè)置于所述斜管區(qū)的上方，與所述斜管區(qū)的頂部連通，在所述清水區(qū)的上部設(shè)有出水堰；所述出水渠設(shè)置于所述清水區(qū)的外側(cè)，通過所述出水堰與所述清水區(qū)連通，在所述出水渠的底部設(shè)有出水管；所述沉淀區(qū)設(shè)置于所述絮凝一區(qū)、所述絮凝二區(qū)及所述過渡區(qū)的下方，與所述絮凝一區(qū)、所述絮凝二區(qū)及所述過渡區(qū)連通，在所述沉淀區(qū)的下部設(shè)有濃縮機(jī)，在所述濃縮機(jī)下方的所述沉淀區(qū)的底部的中央設(shè)有排泥管。
[0007]本實(shí)用新型還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0008]前述的微渦流除硬度裝置，其中所述絮凝一區(qū)的底部為漏斗型斜坡狀，在所述漏斗型斜坡狀的底部的中央設(shè)有圓孔，所述濃縮機(jī)的主軸穿過所述圓孔，所述絮凝一區(qū)通過所述圓孔與所述沉淀區(qū)連通。
[0009]前述的微渦流除硬度裝置，其中在所述絮凝二區(qū)的中下部設(shè)有強(qiáng)力曝氣環(huán)。[0010]前述的微渦流除硬度裝置，其中在所述強(qiáng)力曝氣環(huán)的干管中設(shè)有高壓水沖洗管旁路。
[0011]前述的微渦流除硬度裝置，其中所述出水堰為變流量出水堰。
[0012]前述的微渦流除硬度裝置，其中在所述出水渠設(shè)有防氣阻導(dǎo)氣管，所述防氣阻導(dǎo)氣管的一端伸出所述出水渠的水面上，另一端伸入所述出水管內(nèi)。
[0013]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的一種微渦流除硬度裝置，至少具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0014]本實(shí)用新型的微渦流除硬度裝置結(jié)構(gòu)簡單，施工方便，操作便捷，能耗低，投資省，同時(shí)硬度去除效率高，沉淀分離效果顯著，出水水質(zhì)穩(wěn)定，易于工程實(shí)際應(yīng)用推廣。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型一種微渦流除硬度裝置的一較佳實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]
10:絮凝一區(qū)11:進(jìn)水管
12:提升攪拌機(jī)13:底部
14:圓孔20:絮凝二區(qū)
21:微渦流球22:強(qiáng)力曝氣環(huán)
30:過渡區(qū)40:斜管區(qū)
50:清水區(qū)51:出水堰
60:出水渠61:出水管
62:防氣阻導(dǎo)氣管設(shè)70:沉淀區(qū)
71:濃縮機(jī)72:排泥管
【具體實(shí)施方式】
[0017]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種微渦流除硬度裝置其【具體實(shí)施方式】、步驟、結(jié)構(gòu)、特征及其功效詳細(xì)說明。
[0018]請(qǐng)參閱圖1所示，是本實(shí)用新型一種微渦流除硬度裝置的一較佳實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型的一種微渦流除硬度裝置主要由絮凝一區(qū)10、絮凝二區(qū)20、過渡區(qū)30、斜管區(qū)40、清水區(qū)50、出水渠60以及沉淀區(qū)70構(gòu)成。
[0019]其中，絮凝一區(qū)10的下部設(shè)有進(jìn)水管11，在絮凝一區(qū)10的中下部設(shè)有提升攪拌機(jī)12。通過提升攪拌機(jī)12的作用可以改變流體的狀態(tài)，使絮凝一區(qū)10內(nèi)的水流旋流上升，從而增加除硬藥劑與 待處理水的接觸，提升絮凝效果。絮凝二區(qū)20設(shè)置于絮凝一區(qū)10的外偵牝與絮凝一區(qū)10在頂部連通，在絮凝二區(qū)20內(nèi)填充有微渦流球21。過渡區(qū)30設(shè)置于絮凝二區(qū)20的外側(cè)，與絮凝二區(qū)20的底部連通。斜管區(qū)40置于絮凝二區(qū)20的外側(cè)，并位于過渡區(qū)30的上方，與過渡區(qū)30的頂部連通。清水區(qū)50置于斜管區(qū)40的上方，與述斜管區(qū)40的頂部連通，在清水區(qū)50的上部設(shè)有出水堰51。出水渠60設(shè)置于清水區(qū)50的外側(cè)，通過出水堰51與清水區(qū)50連通，在出水渠60的底部設(shè)有出水管61。沉淀區(qū)70置于絮凝一區(qū)10、絮凝二區(qū)20及過渡區(qū)30的下方，與絮凝一區(qū)10、絮凝二區(qū)20及過渡區(qū)30連通，在沉淀區(qū)70的下部設(shè)有濃縮機(jī)71，在濃縮機(jī)71下方的沉淀區(qū)70的底部的中央設(shè)有排泥管72。
[0020]如圖1所示，本實(shí)用新型的微渦流除硬裝置在使用時(shí)，待處理水是從進(jìn)水管11進(jìn)入裝置內(nèi)，并依次經(jīng)絮凝一區(qū)10、絮凝二區(qū)20、過渡區(qū)30、斜管區(qū)40、清水區(qū)50及出水渠60由出水管61排除，污泥則進(jìn)入沉淀區(qū)70，在沉淀后脫水由排泥管72外排。
[0021]本實(shí)用新型的絮凝一區(qū)10的底部13可以為漏斗型斜坡狀。在漏斗型斜坡狀的底部13的中央可設(shè)有圓孔14，濃縮機(jī)71的王軸可芽過圓孔14，絮凝一區(qū)10可通過圓孔14與沉淀區(qū)70連通。當(dāng)待處理的水與除硬藥劑(如石灰)混合后從進(jìn)水管11進(jìn)入絮凝一區(qū)10，絮凝一區(qū)10的漏斗型斜坡狀的底部13可以避免水中的懸浮顆粒在絮凝一區(qū)10死角的累計(jì)。并且在提升攪拌機(jī)12的作用下，絮凝一區(qū)10內(nèi)的水流呈旋流上升狀態(tài)，水中較大的顆粒物會(huì)沉降于絮凝一區(qū)10底部的中心，此時(shí)沉降的較大的顆粒物便可以直接通過漏斗型斜坡狀的底部13中央設(shè)置的圓孔14排出至下方的沉淀區(qū)70。
[0022]在本實(shí)用新型的絮凝二區(qū)20的中下部可設(shè)有強(qiáng)力曝氣環(huán)22。強(qiáng)力曝氣環(huán)22可以解決現(xiàn)有的微渦流絮凝堵塞的現(xiàn)象。通過定期開啟強(qiáng)力曝氣環(huán)22，對(duì)微渦流球21之間淤積的懸浮物進(jìn)行空氣攪拌，可以使之隨水流進(jìn)入下方的沉淀區(qū)70，從而可以有效的保證絮凝二區(qū)20的處理效果。為了防止強(qiáng)力曝氣環(huán)22里淤積懸浮物而致使曝氣孔堵塞，本實(shí)用新型還可以在強(qiáng)力曝氣環(huán)22的干管中設(shè)置高壓水沖洗管旁路，定期對(duì)強(qiáng)力曝氣環(huán)22進(jìn)行沖洗。
[0023]本實(shí)用新型的出水堰51為變流量出水堰，即在一個(gè)出水堰中相鄰兩個(gè)堰口之間的距離不同。這種變流量出水堰使不同流量同時(shí)存在，由于出水堰服務(wù)的面積不同，出水堰流量也不相同。如圖1所示，本實(shí)用新型的變流量出水堰是一種星形輻射狀出水堰，其越靠近外邊緣堰口之間的距離越小，堰口的密度越高，出水堰服務(wù)的面積越大，出水堰流量也就越大；而越靠近中心的絮凝區(qū)堰口之間的距離越大，堰口的密度越低，出水堰服務(wù)的面積越小，出水堰流量也就越小。本實(shí)用新型采用變流量出水堰可以使整個(gè)清水區(qū)50的出水區(qū)的出水負(fù)荷保持一致，保證出水區(qū)由內(nèi)向外出水均勻，從而保證斜管區(qū)40的沉淀效果更好，而不會(huì)有短流現(xiàn)象以及因負(fù)荷不同而造成的局部淤堵。
[0024]在本實(shí)用新型的出水渠60可設(shè)有防氣阻導(dǎo)氣管62。防氣阻導(dǎo)氣管62的一端伸出出水渠60的水面上，另一端伸入出水管61內(nèi)。通過防氣阻導(dǎo)氣管62設(shè)置可以將出水管61中的氣體導(dǎo)出，從而使裝置下游的單體進(jìn)水穩(wěn)定。
[0025]雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然并非用以限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍，依據(jù)本實(shí)用新型的權(quán)利要求書及說明內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種微渦流除硬度裝置，其特征在于其包括: 絮凝一區(qū)，其下部設(shè)有進(jìn)水管，在所述絮凝一區(qū)的中下部設(shè)有提升攪拌機(jī)； 絮凝二區(qū)，設(shè)置于所述絮凝一區(qū)的外側(cè)，與所述絮凝一區(qū)在頂部連通，在所述絮凝二區(qū)內(nèi)填充有微渦流球； 過渡區(qū)，設(shè)置于所述絮凝二區(qū)的外側(cè)，與所述絮凝二區(qū)的底部連通； 斜管區(qū)，設(shè)置于所述絮凝二區(qū)的外側(cè)，并位于所述過渡區(qū)的上方，與所述過渡區(qū)的頂部連通； 清水區(qū)，設(shè)置于所述斜管區(qū)的上方，與所述斜管區(qū)的頂部連通，在所述清水區(qū)的上部設(shè)有出水堰； 出水渠，設(shè)置于所述清水區(qū)的外側(cè)，通過所述出水堰與所述清水區(qū)連通，在所述出水渠的底部設(shè)有出水管；以及 沉淀區(qū)，設(shè)置于所述絮凝一區(qū)、所述絮凝二區(qū)及所述過渡區(qū)的下方，與所述絮凝一區(qū)、所述絮凝二區(qū)及所述過渡區(qū)連通，在所述沉淀區(qū)的下部設(shè)有濃縮機(jī)，在所述濃縮機(jī)下方的所述沉淀區(qū)的底部的中央設(shè)有排泥管。
2.如權(quán)利要求1所述的微渦流除硬度裝置，其特征在于其中所述絮凝一區(qū)的底部為漏斗型斜坡狀，在所述漏斗型斜坡狀的底部的中央設(shè)有圓孔，所述濃縮機(jī)的主軸穿過所述圓孔，所述絮凝一區(qū)通過所述圓孔與所述沉淀區(qū)連通。
3.如權(quán)利要求1所述的微渦流除硬度裝置，其特征在于其中在所述絮凝二區(qū)的中下部設(shè)有強(qiáng)力曝氣環(huán)。
4.如權(quán)利要求3所述的微渦流除硬度裝置，其特征在于其中在所述強(qiáng)力曝氣環(huán)的干管中設(shè)有高壓水沖洗管旁路。
5.如權(quán)利要求1所述的微渦流除硬度裝置，其特征在于其中所述出水堰為變流量出水堰。
6.如權(quán)利要求1所述的微渦流除硬度裝置，其特征在于其中在所述出水渠設(shè)有防氣阻導(dǎo)氣管，所述防氣阻導(dǎo)氣管的一端伸出所述出水渠的水面上，另一端伸入所述出水管內(nèi)。
【文檔編號(hào)】C02F9/04GK203568925SQ201320737159
【公開日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2013年11月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月20日
【發(fā)明者】遲娟, 劉凱男, 劉曉磊, 俞彬 申請(qǐng)人:博天環(huán)境集團(tuán)股份有限公司, 博天（北京）環(huán)境設(shè)計(jì)研究院有限公司