本技術(shù)涉及銅箔生產(chǎn),尤其是涉及一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備。
背景技術(shù):
1、在發(fā)展低碳經(jīng)濟(jì)的大環(huán)境下,鋰離子電池市場(chǎng)迎來快車道,而鋰電銅箔作為鋰電池的負(fù)極集流體材料,電解銅箔的抗拉強(qiáng)度、延伸率、致密性、表面粗糙度及外觀質(zhì)量等因素均會(huì)影響鋰電池的電化學(xué)性能和電池負(fù)極制備工藝。
2、生箔機(jī)是生產(chǎn)電解銅箔的關(guān)鍵設(shè)備,其由陰極輥、陽極槽板、擠水輥和收卷輥等結(jié)構(gòu)組成。在實(shí)際生產(chǎn)中,陰極輥附近的軸承及其它配件的表面會(huì)出現(xiàn)大量的硫酸銅結(jié)晶,硫酸銅結(jié)晶的存在會(huì)影響銅箔的生產(chǎn),甚至?xí)?dǎo)致銅箔撕邊等情況。現(xiàn)有技術(shù)中,為減少或去除陰極輥附近重要部位出現(xiàn)的硫酸銅結(jié)晶,一般會(huì)選擇在陰極輥的o型圈附近增加滴水裝置,或者生產(chǎn)人員用噴水壺及時(shí)沖洗清理。
3、但是,如若采用滴水裝置來完成對(duì)硫酸銅結(jié)晶的清理,由于對(duì)應(yīng)于各個(gè)結(jié)晶位置均需單獨(dú)設(shè)置滴水裝置,會(huì)導(dǎo)致安裝成本較高,且會(huì)占用較大空間,并且無法保證能清理到所有的硫酸銅結(jié)晶位置。另外,如若采用人工清理,難免會(huì)有生產(chǎn)人員未發(fā)現(xiàn)或者未及時(shí)處理導(dǎo)致硫酸銅結(jié)晶的情況出現(xiàn),在此過程中,還需生產(chǎn)人員俯身低頭去沖洗結(jié)晶物,受傷風(fēng)險(xiǎn)較大,另外沖洗過程中,電解液中含有硫酸會(huì)直接腐蝕陰極輥及其它配件,進(jìn)而造成陰極輥壽命縮減,長時(shí)間如此操作,會(huì)造成生箔機(jī)的損壞。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為解決上述問題,本實(shí)用新型提出了一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備。
2、本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備,安裝生箔機(jī)的機(jī)架上,且位于陰極輥的周圍,所述噴淋設(shè)備包括:
3、安裝座,固定在所述機(jī)架上,所述安裝座上設(shè)有外接供水管的連接頭,所述安裝座中設(shè)有導(dǎo)流通道,所述導(dǎo)流通道的一端延伸至所述連接頭;
4、節(jié)水閥,安裝在所述供水管上;
5、切換閥,通過萬向接頭轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在所述安裝座上,所述切換閥用于調(diào)節(jié)所述導(dǎo)流通道輸出端的水流大小,且至少包括有噴霧檔;
6、噴淋頭,安裝在所述切換閥一側(cè);
7、控制機(jī)構(gòu),安裝在所述機(jī)架上或所述安裝座上,所述節(jié)水閥和所述控制機(jī)構(gòu)電連接。
8、以下還提供了若干可選方式,但并不作為對(duì)上述總體方案的額外限定,僅僅是進(jìn)一步的增補(bǔ)或優(yōu)選,在沒有技術(shù)或邏輯矛盾的前提下,各可選方式可單獨(dú)針對(duì)上述總體方案進(jìn)行組合,還可以是多個(gè)可選方式之間進(jìn)行組合。
9、優(yōu)選的,所述供水管的一端連接至供水設(shè)備,所述供水管中的水流溫度為50~60℃。
10、優(yōu)選的,所述控制機(jī)構(gòu)包括中央處理器、觸控面板和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊,其中,所述觸控面板和所述數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊均連接在所述中央處理器上,所述切換閥為電控切換閥,所述中央處理器用于控制所述電控切換閥工作。
11、優(yōu)選的,所述噴淋設(shè)備還包括監(jiān)控模塊,所述監(jiān)控模塊和所述中央處理器電連接。
12、優(yōu)選的,所述噴淋設(shè)備還包括物聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)關(guān),所述物聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)關(guān)用于接收所述中央處理器發(fā)出的信號(hào),并將信號(hào)上傳至大數(shù)據(jù)監(jiān)控系統(tǒng),所述大數(shù)據(jù)監(jiān)控系統(tǒng),所述大數(shù)據(jù)監(jiān)控系統(tǒng)用于對(duì)采集到的信號(hào)進(jìn)行分析,并調(diào)控?cái)?shù)據(jù)顯示到所述運(yùn)維終端。
13、更優(yōu)選的,所述噴淋頭的前端設(shè)有若干噴淋孔。
14、本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較,其具有以下有益效果:
15、本實(shí)用新型的噴淋設(shè)備可通過數(shù)字自控系統(tǒng)來控制其噴淋方式、噴淋方向以及噴淋的流量大小,采用監(jiān)控模塊來識(shí)別硫酸銅結(jié)晶的情況和位置,并將該信息通過中央處理器傳輸?shù)綌?shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊,中央處理器處理數(shù)據(jù)后,可控制切換閥工作,進(jìn)而可針對(duì)陰極輥及其附近配件上不同位置形成的硫酸銅結(jié)晶進(jìn)行定時(shí)的快速清洗,可減少人工受傷的風(fēng)險(xiǎn),工作效率高,另外也可有效預(yù)防電解液中含有的硫酸會(huì)直接腐蝕陰極輥及其它配件,不會(huì)影響陰極輥的使用壽命,更進(jìn)一步地提高了生產(chǎn)的良品率。
1.一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備,安裝生箔機(jī)的機(jī)架上,且位于陰極輥的周圍,其特征在于,所述噴淋設(shè)備包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備,其特征在于,所述供水管的一端連接至供水設(shè)備,所述供水管中的水流溫度為50~60℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備,其特征在于,所述噴淋設(shè)備還包括監(jiān)控模塊,所述監(jiān)控模塊和所述中央處理器電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的一種針對(duì)陰極輥附近硫酸銅結(jié)晶的噴淋設(shè)備,其特征在于,所述噴淋頭的前端設(shè)有若干噴淋孔。