一種赤泥沉降分離洗滌工序的設(shè)備配置方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于氧化鋁生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，主要涉及一種赤泥沉降分離洗滌工序的配置方法，尤其適用于拜耳法氧化鋁廠分離和洗滌均采用相同規(guī)格深錐沉降槽的工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]拜耳法氧化鋁廠生產(chǎn)過程中赤泥沉降分離洗滌工序常用設(shè)備為深錐沉降槽，根據(jù)赤泥量及相關(guān)實(shí)驗(yàn)報(bào)告選擇合適規(guī)格的沉降槽，因該設(shè)備直徑較大，赤泥沉降分離洗滌工序占地面積亦較大。目前分離和洗滌通常選用相同規(guī)格沉降槽，設(shè)一臺(tái)分離和洗滌共同備用的公備沉降槽即可。此種工藝通常采用的配置方法有以下兩種:一種為“帶狀”配置，即所有沉降槽中心點(diǎn)設(shè)置在一條直線上，排成一列，在沉降槽進(jìn)料口方向單側(cè)設(shè)置一排管架用于布管，在低于沉降槽進(jìn)料口約I米處借助沉降槽槽壁與管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，平臺(tái)邊距槽體邊緣最近點(diǎn)距離需滿足操作空間，通常Φ20米沉降槽相應(yīng)的距離約8米，該距離隨著沉降槽直徑的增大而增大。在赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰，圍堰內(nèi)區(qū)域又細(xì)又長(zhǎng)，不適用于地坪高差較大的氧化鋁廠；另一種為“八餅狀”配置，即所有沉降槽分兩列且并列配置，在兩排沉降槽中間設(shè)置一排管架用于布管，沉降槽進(jìn)料口設(shè)置在管架方向，在低于沉降槽進(jìn)料口約I米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，兩列沉降槽最近點(diǎn)距離需滿足操作空間，通常Φ20米沉降槽相應(yīng)的距離約15米，該距離隨著沉降槽直徑的增大而增大。赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰，圍堰內(nèi)區(qū)域通常為矩形，因兩列沉降槽并列配置，兩列沉降槽中心距離較大，赤泥沉降分離洗滌區(qū)域占地面積亦較大。
[0003]以上兩種配置方法存在占地面積大，配置不夠靈活，投資高的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明就是為了解決上述問題而提供的一種赤泥沉降分離洗滌工序的配置方法，其目的是實(shí)現(xiàn)減小赤泥沉降分離洗滌工序占地面積，節(jié)省投資。
[0005]為達(dá)上述目的，本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0006]一種赤泥沉降分離洗滌工序的配置方法，所有沉降槽分兩列且交錯(cuò)設(shè)置；兩列沉降槽中間設(shè)置一排管架用于布管，管架下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道；在低于沉降槽進(jìn)料口 0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰。
[0007]所述的沉降槽分兩列且交錯(cuò)設(shè)置，使兩列沉降槽中心點(diǎn)位于“W”的拐點(diǎn)上。
[0008]所述的兩列沉降槽中間設(shè)置一排管架用于布管，管架下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道，管架最底層標(biāo)高和管架寬度的保證能通過中小型檢修車。
[0009]所述的沉降槽進(jìn)料口設(shè)置在管架方向。
[0010]在低于沉降槽進(jìn)料口約0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，該距離隨著沉降槽直徑的增大而增大。
[0011]所述的赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰，圍堰兩端設(shè)坡道，便于赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道進(jìn)車。
[0012]所述的圍堰內(nèi)區(qū)域?yàn)槠叫兴倪呅巍?br>[0013]所述的圍堰內(nèi)區(qū)域?yàn)樘菪巍?br>[0014]在低于沉降槽進(jìn)料口約I米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼
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[0015]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和效果是:本技術(shù)方案配置靈活，占地面積小，節(jié)省投資。
【附圖說明】
[0016]圖1是本發(fā)明一種赤泥沉降分離洗滌工序的配置方法的配置圖；
[0017]圖2是操作平臺(tái)平面示意圖；
[0018]附圖中:1、沉降槽；2、管架；3、圍堰；4、沉降槽進(jìn)料口 ；5、操作鋼平臺(tái)；6、坡道A;7、坡道B。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明加以詳細(xì)描述，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不受實(shí)施例所限。本發(fā)明的沉降槽數(shù)量不僅僅限于實(shí)施例所公開的形式，如沉降槽可設(shè)置為奇數(shù)個(gè)，其圍堰形狀相應(yīng)為梯形。
[0020]如圖1、圖2所示，所有沉降槽I分兩列且交錯(cuò)設(shè)置；兩列沉降槽I中間設(shè)置一排管架2用于布管，管架2下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道；在低于沉降槽進(jìn)料口0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽I槽壁與管架2支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)5，赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰3。
[0021]所述的沉降槽I分兩列且交錯(cuò)設(shè)置，使兩列沉降槽中心點(diǎn)位于“W”的拐點(diǎn)上。
[0022]所述的兩列沉降槽I中間設(shè)置一排管架2用于布管，管架下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道，管架2最底層標(biāo)高和管架寬度的保證能通過中小型檢修車。
[0023]所述的沉降槽進(jìn)料口 4設(shè)置在管架2方向。
[0024]在低于沉降槽進(jìn)料口約0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽I槽壁與管架2支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)5，平臺(tái)邊距槽體邊緣最近點(diǎn)距離需滿足操作空間，通常Φ20米沉降槽對(duì)應(yīng)的距離約8米，該距離隨著沉降槽直徑的增大而增大。
[0025]所述的赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰3，圍堰3兩端設(shè)坡道A6和坡道B7，便于赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道進(jìn)車。
[0026]所述的圍堰3內(nèi)區(qū)域?yàn)槠叫兴倪呅巍?br>[0027]所述的圍堰3內(nèi)區(qū)域?yàn)樘菪巍?br>[0028]本實(shí)施例在低于沉降槽進(jìn)料口約I米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)。該距離還可以為0.8米或I米。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種赤泥沉降分離洗滌工序的設(shè)備配置方法，其特征在于:所有沉降槽分兩列且交錯(cuò)設(shè)置；兩列沉降槽中間設(shè)置一排管架用于布管，管架下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道；在低于沉降槽進(jìn)料口 0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:所述的沉降槽分兩列且交錯(cuò)設(shè)置，使兩列沉降槽中心點(diǎn)位于“W”的拐點(diǎn)上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:所述的兩列沉降槽中間設(shè)置一排管架用于布管，管架下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道，管架最底層標(biāo)高和管架寬度的保證能通過中小型檢修車。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:所述的沉降槽進(jìn)料口設(shè)置在管架方向。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:在低于沉降槽進(jìn)料口約0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，該距離隨著沉降槽直徑的增大而增大。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:所述的赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰，圍堰兩端設(shè)坡道，便于赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道進(jìn)車。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:所述的圍堰內(nèi)區(qū)域?yàn)槠叫兴倪呅巍?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:所述的圍堰內(nèi)區(qū)域?yàn)樘菪巍?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備配置方法，其特征在于:在低于沉降槽進(jìn)料口約I米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種赤泥沉降分離洗滌工序的設(shè)備配置方法，所有沉降槽分兩列且交錯(cuò)設(shè)置；兩列沉降槽中間設(shè)置一排管架用于布管，管架下通道作為赤泥沉降分離洗滌區(qū)域檢修通道；在低于沉降槽進(jìn)料口0.8-1.2米處借助兩側(cè)沉降槽槽壁與中間管架支柱設(shè)置操作鋼平臺(tái)，赤泥沉降分離洗滌區(qū)域四周設(shè)圍堰。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和效果是：本技術(shù)方案配置靈活，占地面積小，節(jié)省投資。
【IPC分類】C02F11/00
【公開號(hào)】CN105217903
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410294100
【發(fā)明人】郭英姿, 田金隆, 李志國(guó)
【申請(qǐng)人】沈陽(yáng)鋁鎂設(shè)計(jì)研究院有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請(qǐng)日】2014年6月26日