適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]—種清洗裝置，特別是一種適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子體技術(shù)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域，現(xiàn)有的離子源主要包括考夫曼離子源、射頻離子源、冷陰極離子源和無柵離子源，這些離子源的最大特點(diǎn)是可以將離子從等離子體源引出并施加到需要的基材上，但是針對(duì)可擾曲的材料我們完全不必大費(fèi)周章地將離子從離子源引出而同樣達(dá)到清洗的目的。為此，我們提出了一種全新的等離子體源結(jié)構(gòu)并設(shè)計(jì)了相應(yīng)的清洗裝置，可以方便地獲得高密度等離子體，實(shí)現(xiàn)對(duì)可擾曲材料的高效清洗。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種根據(jù)等離子體源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的清洗裝置，可以方便且高效的獲得高密度等離子體，實(shí)現(xiàn)對(duì)可擾曲材料的高效且全面的清洗。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目標(biāo)，本發(fā)明采用如下的技術(shù)方案:
適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，包括:真空腔體，置于真空腔體內(nèi)并安裝可繞曲材料的卷輪，等離子氣體管道，傳送可繞曲材料使得可繞曲材料得到均勻清洗的傳送組件。
[0005]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，傳送組件包括:至少一個(gè)等離子源軸；等離子氣體管道的出口對(duì)準(zhǔn)等離子源軸的可繞曲材料。
[0006]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，傳送組件包括:兩個(gè)平行放置的等離子源軸；可擾曲材料的正反兩面分別緊貼一個(gè)等離子源軸的上端和另一個(gè)等離子源軸的下端。
[0007]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，等離子源軸包括:不銹鋼外圓筒，置于不銹鋼外圓筒內(nèi)的不銹鋼內(nèi)圓筒，置于不銹鋼內(nèi)圓筒內(nèi)的鐵質(zhì)磁靴，置于鐵質(zhì)磁靴上的磁體。
[0008]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，不銹鋼外圓筒和不銹鋼內(nèi)圓筒之間設(shè)有空隙。
[0009]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，空隙的厚度為0.
[0010]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，磁體的置于靠近可擾曲材料的鐵質(zhì)磁靴一側(cè)。
[0011]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，等離子氣體管道正對(duì)于等離子源軸的方向開有一條通風(fēng)縫隙。
[0012]前述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，通風(fēng)縫隙的寬度為1-lOOOum。
[0013]本發(fā)明的有益之處在于:本發(fā)明提供一種根據(jù)等離子體源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的清洗裝置，可以方便且高效的獲得高密度等離子體，實(shí)現(xiàn)對(duì)可擾曲材料的高效且全面的清洗。
【附圖說明】
[0014]圖1是本發(fā)明的一種實(shí)施例的截面示意圖；
圖2是本發(fā)明等離子源軸的一種實(shí)施例的截面示意圖；
圖中附圖標(biāo)記的含義:
1真空腔體，2卷輪，3等離子氣體管道，4等離子源軸，41不銹鋼外圓筒，42不銹鋼內(nèi)圓筒，43鐵質(zhì)磁靴，44磁體，45空隙，5可擾曲材料。
【具體實(shí)施方式】
[0015]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作具體的介紹。
[0016]適用于可擾曲材料5的等離子清洗裝置，包括:真空腔體1，置于真空腔體1內(nèi)并安裝可繞曲材料的卷輪2，等離子氣體管道3，傳送可繞曲材料使得可繞曲材料得到均勻清洗的傳送組件。等離子氣體管道3正對(duì)于等離子源軸4的方向開有一條通風(fēng)縫隙；通風(fēng)縫隙的寬度為Ι-lOOOum ;這樣的設(shè)計(jì)可以使清洗氣體均勻吹向緊貼在等離子源軸4上的可擾曲材料5上。
[0017]傳送組件包括:至少一個(gè)等離子源軸4 ;等離子氣體管道3的出口對(duì)準(zhǔn)等離子源軸4的可繞曲材料。作為另一種實(shí)施例，傳送組件包括:兩個(gè)平行放置的等離子源軸4 ;可擾曲材料5的正反兩面分別緊貼一個(gè)等離子源軸4的上端和另一個(gè)等離子源軸4的下端。需要說明的是，等離子源軸4的數(shù)量是沒有限制的，作為一種優(yōu)選，選用兩個(gè)。
[0018]等離子源軸4包括:不銹鋼外圓筒41，置于不銹鋼外圓筒41內(nèi)的不銹鋼內(nèi)圓筒42，置于不銹鋼內(nèi)圓筒42內(nèi)的鐵質(zhì)磁靴43，置于鐵質(zhì)磁靴43上的磁體44。不銹鋼外圓筒41和不銹鋼內(nèi)圓筒42之間設(shè)有空隙45。空隙45的厚度為0.磁體44的置于靠近可擾曲材料5的鐵質(zhì)磁靴43 —側(cè)。
[0019]可擾曲材料5的等離子清洗裝置在工作時(shí)，可以選擇在真空腔體1后直接接上后續(xù)處理腔體，以磁控濺射鍍膜為例，可擾曲材料5經(jīng)過等離子體處理后直接進(jìn)入后續(xù)腔體鍍膜，鍍完膜后再在同一真空腔體1內(nèi)通過卷輪2將其卷起，實(shí)現(xiàn)同一真空的等離子清洗和鍍膜。參考圖1，卷輪2和等離子源軸4都為從動(dòng)裝置，在可擾曲材料5的帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)。等離子體源軸上接入射頻電源，且空隙45內(nèi)通入冷卻水冷卻，不銹鋼內(nèi)圓筒42作為定子不發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)。當(dāng)可擾曲材料5分別經(jīng)過等離子體源軸時(shí)則實(shí)現(xiàn)了等離子轟擊清洗。如果只需要清洗一個(gè)面，則可以使用一個(gè)等離子源軸4。根據(jù)以上原理，本發(fā)明提供一種根據(jù)等離子體源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的清洗裝置，可以方便且高效的獲得高密度等離子體，實(shí)現(xiàn)對(duì)可擾曲材料5的高效且全面的清洗。
[0020]以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，上述實(shí)施例不以任何形式限制本發(fā)明，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術(shù)方案，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，包括:真空腔體，置于上述真空腔體內(nèi)并安裝可繞曲材料的卷輪，等離子氣體管道，傳送上述可繞曲材料使得上述可繞曲材料得到均勻清洗的傳送組件。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，上述傳送組件包括:至少一個(gè)等離子源軸；上述等離子氣體管道的出口對(duì)準(zhǔn)上述等離子源軸的可繞曲材料。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，上述傳送組件包括:兩個(gè)平行放置的等離子源軸；上述可擾曲材料的正反兩面分別緊貼上述一個(gè)等離子源軸的上端和另一個(gè)等離子源軸的下端。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，上述等離子源軸包括:不銹鋼外圓筒，置于上述不銹鋼外圓筒內(nèi)的不銹鋼內(nèi)圓筒，置于上述不銹鋼內(nèi)圓筒內(nèi)的鐵質(zhì)磁靴，置于上述鐵質(zhì)磁靴上的磁體。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，上述不銹鋼外圓筒和不銹鋼內(nèi)圓筒之間設(shè)有空隙，上述空隙厚度為0.1mm-0.3mm6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，上述磁體置于靠近可擾曲材料的鐵質(zhì)磁靴一側(cè)。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置，其特征在于，上述等離子氣體管道正對(duì)于上述等離子源軸的方向開有一條通風(fēng)縫隙，上述通風(fēng)縫隙的寬度為.1-lOOOum。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種適用于可擾曲材料的等離子清洗裝置,包括：真空腔體，置于真空腔體內(nèi)并安裝可繞曲材料的卷輪，等離子氣體管道，傳送可繞曲材料使得可繞曲材料得到均勻清洗的傳送組件。本發(fā)明提供一種根據(jù)等離子體源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的清洗裝置，可以方便且高效的獲得高密度等離子體，實(shí)現(xiàn)對(duì)可擾曲材料的高效且全面的清洗。
【IPC分類】B08B7/00
【公開號(hào)】CN105234130
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510684849
【發(fā)明人】馮斌, 金浩, 王德苗, 李東濱
【申請(qǐng)人】蘇州求是真空電子有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請(qǐng)日】2015年10月22日