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      石英晶片清洗裝置的制造方法

      文檔序號:9047696閱讀:357來源:國知局
      石英晶片清洗裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實用新型屬于石英機械設(shè)備領(lǐng)域,具體涉及石英晶片清洗裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]石英晶片清洗機是一種振動頻率高于聲波的機械波,由換能晶片在電壓的激勵下發(fā)生振動產(chǎn)生的,它具有頻率高、波長短、繞射現(xiàn)象小,特別是方向性好、能夠成為射線而定向傳播等特點。它利用超聲波對液體、固體的穿透本領(lǐng)很大,尤其是在陽光不透明的固體中,它可穿透幾十米的深度,超聲波碰到雜質(zhì)或分界面會產(chǎn)生顯著反射形成反射成回波,碰到活動物體能產(chǎn)生多普勒效應(yīng)。因此超聲波檢測廣泛應(yīng)用在工業(yè)、國防、生物醫(yī)學等方面。但現(xiàn)今大多數(shù)石英晶片清洗裝置容易發(fā)生電化學腐蝕,降低使用壽命,清洗過程容易留下殘留污垢,工作過程中發(fā)熱量大,容易產(chǎn)生大量粉塵,污染環(huán)境。
      【實用新型內(nèi)容】
      [0003]本實用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供石英晶片清洗裝置。
      [0004]本實用新型通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)上述目的:
      [0005]石英晶片清洗裝置,包括底座、液壓軸、電機和散熱箱體,所述底座上方設(shè)置有支撐架,所述支撐架上方設(shè)置有超聲波發(fā)生器,所述超聲波發(fā)生器設(shè)置在所述支撐架與所述液壓軸之間,所述液壓軸上方設(shè)置有超聲波震動清洗器,所述超聲波震動清洗器與石英晶片的中軸線處在同一直線上,所述石英晶片與所述電機的中軸線處在同一直線上,所述電機下方設(shè)置有三腳架,所述三腳架下方設(shè)置有減震軸,所述散熱箱體上方設(shè)置有熱敏電阻,所述熱敏電阻上方設(shè)置有變壓器,所述變壓器與軸承的中軸線處在同一直線上。
      [0006]上述結(jié)構(gòu)中,所述液壓軸可以為裝置提供動力,所述超聲波發(fā)生器可以產(chǎn)生超聲波,利用震動來清洗工件,所述超聲波震動清洗器可以對工件進行震動清潔,并對粉塵進行過濾,所述熱敏電阻可以防止裝置內(nèi)部過熱,調(diào)節(jié)內(nèi)部電壓大小。
      [0007]為了進一步提高其超聲波清洗能力,所述底座與所述支撐架通過夾板連接,所述支撐架與所述超聲波發(fā)生器通過導線連接,
      [0008]為了進一步提高其超聲波清洗能力,所述超聲波發(fā)生器與所述液壓軸相連接,所述所述超聲波震動清洗器與所述石英晶片通過夾板連接,
      [0009]為了進一步提高其超聲波清洗能力,所述石英晶片與所述電機通過導線連接,所述三腳架與所述減震軸通過導線連接,
      [0010]為了進一步提高其超聲波清洗能力,所述散熱箱體與所述熱敏電阻通過導線連接,所述變壓器與所述軸承通過導線連接。
      [0011]有益效果:可以有效增加內(nèi)部壓強,通過石英晶片提高耐磨程度,減小粉塵的排放,通過調(diào)節(jié)電流大小,可以有效清除殘余污垢,避免發(fā)生電化學腐蝕,延長裝置的使用壽命,裝置工作過程中可以有效散熱,提高工作效率。
      【附圖說明】
      [0012]圖1是本實用新型所述石英晶片清洗裝置的主視圖;
      [0013]圖2是本實用新型所述石英晶片清洗裝置的左視圖。
      [0014]1、底座;2、支撐架;3、超聲波發(fā)生器;4、液壓軸;5、超聲波震動清洗器;6、石英晶片、電機;8、三腳架;9、減震軸;10、散熱箱體;11、熱敏電阻;12、變壓器;13、軸承。
      【具體實施方式】
      [0015]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明:
      [0016]如圖1-圖2所不,石英晶片清洗裝置,包括底座1、液壓軸4、電機7和散熱箱體10,底座I上方設(shè)置有支撐架2,可以提高裝置的穩(wěn)定性,支撐架2上方設(shè)置有超聲波發(fā)生器3,可以產(chǎn)生大量超聲波,超聲波發(fā)生器3設(shè)置在支撐架2與液壓軸4之間,可以調(diào)節(jié)內(nèi)部的緩沖壓力,調(diào)節(jié)零件之間的液壓平衡,液壓軸4上方設(shè)置有超聲波震動清洗器5,可以利用超聲波震動對工件進行深層清潔處理,超聲波震動清洗器5與石英晶片6的中軸線處在同一直線上,可以降低裝置內(nèi)部的磨擦,石英晶片6與電機7的中軸線處在同一直線上,可以為裝置提供電能,電機7下方設(shè)置有三腳架8,可以增強裝置的穩(wěn)定性,避免發(fā)生振顫,三腳架8下方設(shè)置有減震軸9,可以起到減震的作用,散熱箱體10上方設(shè)置有熱敏電阻11,可以避免裝置內(nèi)部發(fā)生過熱,還可以調(diào)節(jié)電流大小,熱敏電阻11上方設(shè)置有變壓器12,可以調(diào)節(jié)內(nèi)部電壓大小,變壓器12與軸承13的中軸線處在同一直線上,可以為裝置內(nèi)部提供大量的動能。
      [0017]上述結(jié)構(gòu)中,液壓軸4可以為裝置提供動力,超聲波發(fā)生器3可以產(chǎn)生超聲波,利用震動來清洗工件,超聲波震動清洗器5可以對工件進行震動清潔,并對粉塵進行過濾,熱敏電阻11可以防止裝置內(nèi)部過熱,調(diào)節(jié)內(nèi)部電壓大小。
      [0018]為了進一步提高其超聲波清洗能力,底座I與支撐架2通過夾板連接,可以固定底座1,提高穩(wěn)定性,支撐架2與超聲波發(fā)生器3通過導線連接,可以產(chǎn)生超聲波,超聲波發(fā)生器3與液壓軸4相連接,可以提高液壓傳動力,超聲波震動清洗器5與石英晶片6通過夾板連接,可以提高裝置的耐磨程度,避免發(fā)生過熱,石英晶片6與電機7通過導線連接,可以為裝置提供電能,三腳架8與減震軸9通過導線連接,可以對裝置起到減震效果,散熱箱體10與熱敏電阻11通過導線連接,可以調(diào)節(jié)裝置的電流大小,變壓器12與軸承13通過導線連接,可以調(diào)節(jié)內(nèi)部電壓大小。
      [0019]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實用新型不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理,在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下,本實用新型還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型要求保護范圍由所附的權(quán)利要求書及其效物界定。
      【主權(quán)項】
      1.石英晶片清洗裝置,其特征在于:包括底座、液壓軸、電機和散熱箱體,所述底座上方設(shè)置有支撐架,所述支撐架上方設(shè)置有超聲波發(fā)生器,所述超聲波發(fā)生器設(shè)置在所述支撐架與所述液壓軸之間,所述液壓軸上方設(shè)置有超聲波震動清洗器,所述超聲波震動清洗器與石英晶片的中軸線處在同一直線上,所述石英晶片與所述電機的中軸線處在同一直線上,所述電機下方設(shè)置有三腳架,所述三腳架下方設(shè)置有減震軸,所述散熱箱體上方設(shè)置有熱敏電阻,所述熱敏電阻上方設(shè)置有變壓器,所述變壓器與軸承的中軸線處在同一直線上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英晶片清洗裝置,其特征在于:所述底座與所述支撐架通過夾板連接,所述支撐架與所述超聲波發(fā)生器通過導線連接。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英晶片清洗裝置,其特征在于:所述超聲波發(fā)生器與所述液壓軸相連接,所述所述超聲波震動清洗器與所述石英晶片通過夾板連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英晶片清洗裝置,其特征在于:所述石英晶片與所述電機通過導線連接,所述三腳架與所述減震軸通過導線連接。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英晶片清洗裝置,其特征在于:所述散熱箱體與所述熱敏電阻通過導線連接,所述變壓器與所述軸承通過導線連接。
      【專利摘要】本實用新型公開了石英晶片清洗裝置,包括底座、液壓軸、電機和散熱箱體,所述底座上方設(shè)置有支撐架,所述支撐架上方設(shè)置有超聲波發(fā)生器,所述超聲波發(fā)生器設(shè)置在所述支撐架與所述液壓軸之間,所述液壓軸上方設(shè)置有超聲波震動清洗器,所述超聲波震動清洗器與石英晶片的中軸線處在同一直線上,所述石英晶片與所述電機的中軸線處在同一直線上,所述電機下方設(shè)置有三腳架,所述三腳架下方設(shè)置有減震軸。有益效果:可以有效增加內(nèi)部壓強,通過石英晶片提高耐磨程度,減小粉塵的排放,通過調(diào)節(jié)電流大小,可以有效清除殘余污垢,避免發(fā)生電化學腐蝕,延長裝置的使用壽命,裝置工作過程中可以有效散熱,提高工作效率。
      【IPC分類】B08B13/00, B08B3/12
      【公開號】CN204699994
      【申請?zhí)枴緾N201520284831
      【發(fā)明人】李海豐
      【申請人】梅州元芯科技有限公司
      【公開日】2015年10月14日
      【申請日】2015年5月6日
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