一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及化工污水處理領(lǐng)域，具特別是涉及一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前現(xiàn)有技術(shù)中地下灌區(qū)中含硫化鈉堿性污水會(huì)與酸性水反應(yīng)生成硫化氫有毒氣體，而這種有毒氣體在目前的生產(chǎn)中不好收集，大多數(shù)都會(huì)被排放到大氣中去造成污染，并且由于現(xiàn)有技術(shù)中的排污道設(shè)計(jì)不合理的問題，在生產(chǎn)停車，或者緊急情況的時(shí)候無法有效的使排放的污水達(dá)到環(huán)保的標(biāo)準(zhǔn)。
[0003]如專利號(hào)為:CN02110109.4專利名稱為:一種堿性污水處理工藝，公開了將堿性污水(或濃縮后)降溫結(jié)晶生產(chǎn)九水偏硅酸鈉，多余堿液濃縮回收，生產(chǎn)液體燒堿或固堿。雖然實(shí)現(xiàn)了堿性污水處理，但是各種細(xì)節(jié)做的不是很好，在生產(chǎn)的時(shí)候有失效率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，提出一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)。本實(shí)用新型通過加熱器有效地提高了對(duì)化工生產(chǎn)中廢水的凈化率和利用率，同時(shí)在處理廢水的時(shí)候，不僅減少了二氧化碳的排放，還會(huì)獲得多余的熱量，從而節(jié)約了能源，使得整個(gè)化工系統(tǒng)的生產(chǎn)效率得到提高，利于環(huán)保。
[0005]本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
[0006]—種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:包括第一罐區(qū)和第二罐區(qū)，所述第一罐區(qū)與第二罐區(qū)通過連通器相連接，所述連通器上設(shè)置有連通閥，所述第一罐區(qū)上方設(shè)置有污水入口，所述第一罐區(qū)的上方設(shè)置有中和液入口，所述第一罐區(qū)的下方設(shè)置有沉淀區(qū)，所述沉淀區(qū)上設(shè)置有第一雜質(zhì)出口，所述第二罐區(qū)上設(shè)置有泄壓閥，所述第二罐區(qū)側(cè)面設(shè)置有加水口，所述第二罐區(qū)上設(shè)置有過濾層，所述過濾層上設(shè)置有第二雜質(zhì)出口，所述第二罐區(qū)的底部設(shè)置有排水口，所述第一罐區(qū)的底部設(shè)置有加熱器，所述加熱器的半徑與第一罐區(qū)的半徑之比為6比5。
[0007]所述過濾層為活性炭層。
[0008]所述泄壓閥是工作壓強(qiáng)為0.2-0.5MPa的泄壓閥。
[0009]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，其優(yōu)點(diǎn)在于:
[0010]1、本實(shí)用新型通過加熱器有效地提高了對(duì)化工生產(chǎn)中廢水的凈化率和利用率，同時(shí)在處理廢水的時(shí)候，不僅減少了二氧化碳的排放，還會(huì)獲得多余的熱量，從而節(jié)約了能源，使得整個(gè)化工系統(tǒng)的生產(chǎn)效率得到提高，利于環(huán)保。
[0011]2、本實(shí)用新型采用過濾層為活性炭層，活性炭可以不斷吸附水中溶質(zhì)，直到吸附平衡即溶質(zhì)濃度不再改變時(shí)為止，處理程度高，效果穩(wěn)定。
[0012]【附圖說明】:
[0013]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]附圖標(biāo)記:1、第一罐區(qū)，2、第二罐區(qū)，3、泄壓閥，301、加水口，4、污水入口，5、中和液入口，6、連通器，601、連通閥，7、過濾層，8、第一雜質(zhì)出口，9、第二雜質(zhì)出口，10、排水口，
11、沉淀區(qū)，12、加熱器。
[0015]【具體實(shí)施方式】:
[0016]實(shí)施例1:
[0017]一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)I和第二罐區(qū)2，所述第一罐區(qū)I與第二罐區(qū)2通過連通器6相連接，所述連通器6上設(shè)置有連通閥601，所述第一罐區(qū)I上方設(shè)置有污水入口 4，所述第一罐區(qū)I的上方設(shè)置有中和液入口 5，所述第一罐區(qū)I的下方設(shè)置有沉淀區(qū)11，所述沉淀區(qū)11上設(shè)置有第一雜質(zhì)出口 8，所述第二罐區(qū)2上設(shè)置有泄壓閥3，所述第二罐區(qū)2側(cè)面設(shè)置有加水口 301，所述第二罐區(qū)2上設(shè)置有過濾層7，所述過濾層7上設(shè)置有第二雜質(zhì)出口 9，所述第二罐區(qū)2的底部設(shè)置有排水口 10，所述第一罐區(qū)I的底部設(shè)置有加熱器12，所述加熱器12的半徑與第一罐區(qū)I的半徑之比為6比5。
[0018]本實(shí)施例中，所述過濾層7為活性炭層。
[0019]本實(shí)施例中，所述泄壓閥3是工作壓強(qiáng)為0.2MPa的泄壓閥。
[0020]實(shí)施例2:
[0021]—種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)I和第二罐區(qū)2，所述第一罐區(qū)I與第二罐區(qū)2通過連通器6相連接，所述連通器6上設(shè)置有連通閥601，所述第一罐區(qū)I上方設(shè)置有污水入口 4，所述第一罐區(qū)I的上方設(shè)置有中和液入口 5，所述第一罐區(qū)I的下方設(shè)置有沉淀區(qū)11，所述沉淀區(qū)11上設(shè)置有第一雜質(zhì)出口 8，所述第二罐區(qū)2上設(shè)置有泄壓閥3，所述第二罐區(qū)2側(cè)面設(shè)置有加水口 301，所述第二罐區(qū)2上設(shè)置有過濾層7，所述過濾層7上設(shè)置有第二雜質(zhì)出口 9，所述第二罐區(qū)2的底部設(shè)置有排水口 10，所述第一罐區(qū)I的底部設(shè)置有加熱器12，所述加熱器12的半徑與第一罐區(qū)I的半徑之比為6比5。
[0022]本實(shí)施例中，所述過濾層7為活性炭層。
[0023]本實(shí)施例中，所述泄壓閥3是工作壓強(qiáng)為0.3MPa的泄壓閥。
[0024]實(shí)施例3:
[0025]一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)I和第二罐區(qū)2，所述第一罐區(qū)I與第二罐區(qū)2通過連通器6相連接，所述連通器6上設(shè)置有連通閥601，所述第一罐區(qū)I上方設(shè)置有污水入口 4，所述第一罐區(qū)I的上方設(shè)置有中和液入口 5，所述第一罐區(qū)I的下方設(shè)置有沉淀區(qū)11，所述沉淀區(qū)11上設(shè)置有第一雜質(zhì)出口 8，所述第二罐區(qū)2上設(shè)置有泄壓閥3，所述第二罐區(qū)2側(cè)面設(shè)置有加水口 301，所述第二罐區(qū)2上設(shè)置有過濾層7，所述過濾層7上設(shè)置有第二雜質(zhì)出口 9，所述第二罐區(qū)2的底部設(shè)置有排水口 10，所述第一罐區(qū)I的底部設(shè)置有加熱器12，所述加熱器12的半徑與第一罐區(qū)I的半徑之比為6比5。
[0026]本實(shí)施例中，所述過濾層7為活性炭層。
[0027]本實(shí)施例中，所述泄壓閥3是工作壓強(qiáng)為0.5MPa的泄壓閥。
[0028]本實(shí)用新型不限于上述實(shí)施例，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:包括第一罐區(qū)(I)和第二罐區(qū)(2)，所述第一罐區(qū)(I)與第二罐區(qū)(2)通過連通器(6)相連接，所述連通器(6)上設(shè)置有連通閥(601)，所述第一罐區(qū)(I)上方設(shè)置有污水入口(4)，所述第一罐區(qū)(I)的上方設(shè)置有中和液入口(5)，所述第一罐區(qū)(I)的下方設(shè)置有沉淀區(qū)(11)，所述沉淀區(qū)(11)上設(shè)置有第一雜質(zhì)出口(8)，所述第二罐區(qū)(2)上設(shè)置有泄壓閥(3)，所述第二罐區(qū)(2)側(cè)面設(shè)置有加水口(301)，所述第二罐區(qū)(2)上設(shè)置有過濾層(7)，所述過濾層(7)上設(shè)置有第二雜質(zhì)出口(9)，所述第二罐區(qū)(2)的底部設(shè)置有排水口(10)，所述第一罐區(qū)(I)的底部設(shè)置有加熱器(12)，所述加熱器(12)的半徑與第一罐區(qū)(I)的半徑之比為6比5。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:所述過濾層(7)為活性炭層。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，其特征在于:所述泄壓閥(3)是工作壓強(qiáng)為0.5MPa的泄壓閥。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種設(shè)有加熱器的化工污水處理系統(tǒng)，包括第一罐區(qū)和第二罐區(qū)，所述第一罐區(qū)與第二罐區(qū)通過連通器相連接，所述連通器上設(shè)置有連通閥，所述第一罐區(qū)上方設(shè)置有污水入口，所述第一罐區(qū)的上方設(shè)置有中和液入口，所述第一罐區(qū)的下方設(shè)置有沉淀區(qū)，所述沉淀區(qū)上設(shè)置有第一雜質(zhì)出口，所述第二罐區(qū)上設(shè)置有泄壓閥，所述第二罐區(qū)側(cè)面設(shè)置有加水口，所述第二罐區(qū)上設(shè)置有過濾層，所述過濾層上設(shè)置有第二雜質(zhì)出口，所述第二罐區(qū)的底部設(shè)置有排水口，所述第一罐區(qū)的底部設(shè)置有加熱器，本實(shí)用新型通過加熱器有效地提高了對(duì)化工生產(chǎn)中廢水的凈化率和利用率，減少了二氧化碳的排放，利于環(huán)保。
【IPC分類】C02F9/10
【公開號(hào)】CN205368014
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201620178935
【發(fā)明人】季云浩
【申請(qǐng)人】季云浩
【公開日】2016年7月6日
【申請(qǐng)日】2016年3月9日