專(zhuān)利名稱(chēng)：用于分布載有細(xì)固體顆粒的氣體的分布器底板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種分布器底板，特別是噴嘴式的分布器底板，它用于分布載有細(xì)固體顆粒的氣體，優(yōu)選用于流化床裝置中，特別是用于還原含金屬氧化物的固體顆粒，其中在分布器底板上設(shè)置有至少一個(gè)可移動(dòng)的凈化裝置，該裝置可在分布器底板運(yùn)行過(guò)程中減少在分布器底板上，特別是噴嘴式分布器底板的噴嘴上的沉積物形成和/或至少部分去除已形成的沉積物。本發(fā)明還涉及一種減少在分配器底板上沉積物形成和/或至少部分去除沉積物的方法。
專(zhuān)業(yè)人員可從公開(kāi)件EP 0444614 A2已知一種通過(guò)可移動(dòng)的凈化裝置去除沉積物的噴嘴式分布器底板。該所述裝置及方法實(shí)際上表明是昂貴的，并且需要高的工程及費(fèi)用支出。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種權(quán)利要求1前序部分的裝置以及權(quán)利要求5前序部分的方法，由此能實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)的和可靠的方法以及相應(yīng)的裝置。
本發(fā)明的目的是通過(guò)權(quán)利要求1的特征部分的裝置以及權(quán)利要求5的特征部分的方法達(dá)到的。
由于該凈化裝置具有一種通過(guò)在分布器底板、特別是噴嘴式分布器底板的噴嘴上的直接的機(jī)械的、特別是沖擊式的作用來(lái)凈化該分布器底板的設(shè)備，所以可確保簡(jiǎn)單而適合地凈化該噴嘴式分布器底板。
按本發(fā)明裝置的一個(gè)具體實(shí)施方案，該用于凈化分布器底板的設(shè)備是如此設(shè)計(jì)的，即該用于凈化分布器底板的設(shè)備可在氣流中吸收能達(dá)凈化作用的足夠的動(dòng)能。
按本發(fā)明裝置的一個(gè)具體實(shí)施方案，該用于凈化分布器底板的設(shè)備是繩和/或鏈和/或可移動(dòng)裝置的桿。
按本發(fā)明裝置的一個(gè)具體實(shí)施方案，該用于凈化分布器底板的設(shè)備安置在分布器底板上，特別是在分布器底板的至少一個(gè)噴嘴中。
按本發(fā)明裝置的一個(gè)具體實(shí)施方案，對(duì)至少一個(gè)噴嘴存在該凈化裝置，并該凈化裝置可固定在該噴嘴中和/或在分布底板上和/或在流化床裝置的其它位置上。
按本發(fā)明裝置的一個(gè)具體實(shí)施方案，該凈化裝置固定在噴嘴的旁邊和/或里面和/或上面和/或下面。
按一個(gè)具體的實(shí)施方案，本發(fā)明的特征在于一種用于分布載有細(xì)固體顆粒的氣體的噴嘴式分布器底板，優(yōu)選是用于還原含金屬氧化物的固體顆粒的流化床裝置中，其中，在該噴嘴式分布器底板上安置有至少一個(gè)可移動(dòng)的凈化裝置，該裝置可減少在噴嘴中和/或在分布器底板上的沉積物形成和/或至少部分去除已形成的沉積物，其中所述凈化裝置是繩和/或鏈和/或可移動(dòng)安裝的桿，其例如安裝在噴嘴分布器底板上和/或至少一個(gè)噴嘴的噴嘴中。
本發(fā)明的特征還在于權(quán)利要求5的方法。
按本發(fā)明方法的一個(gè)具體實(shí)施方案，通過(guò)氣流給該凈化裝置輸入用于達(dá)到凈化作用的足夠的動(dòng)能。
按本發(fā)明方法的一個(gè)具體實(shí)施方案，所述噴嘴式分布器底板通過(guò)凈化裝置處于振動(dòng)狀態(tài)。
按本發(fā)明方法的一個(gè)具體實(shí)施方案，所述凈化裝置至少部分安置特別是固定在分布器底板的至少一個(gè)噴嘴中。
例如在流化床技術(shù)中使用的氣體分布器底板的噴嘴，該噴嘴是用載粉塵的氣體入流，并易于通過(guò)隨氣體所夾帶的粉塵的粘附而堵塞。為凈化噴嘴就需高的維修費(fèi)用。
按本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施方案，因此在噴嘴中和/或噴嘴上面和/或噴嘴下面和/或噴嘴旁邊固定一條或多條鏈、繩或可移動(dòng)安裝的例如與鏈和/或繩相固定的桿或類(lèi)似物。該物體通過(guò)流動(dòng)氣體的擾動(dòng)而處于運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，并沖擊噴嘴上粘附的顆?；蚴乖搰娮斐收駝?dòng)狀態(tài)，使得剝落粘附的顆粒和/或減少粘附物的形成。
本發(fā)明目的的各種實(shí)施方案借助多幅但非限制性的示意圖來(lái)加以說(shuō)明。


圖1是噴嘴式分布器底板的示2是帶有噴嘴式分布器底板的流化床裝置圖3是實(shí)施本發(fā)明的分布器底板的不同的其它實(shí)施方案圖1示出一種噴嘴式分布器底板1，它具有一定數(shù)目的噴嘴2。在噴嘴式分布器底板上安置有凈化裝置，特別是鏈3，它以合適的固定點(diǎn)4固定在噴嘴式分布器底板上。鏈3通過(guò)氣流5產(chǎn)生運(yùn)動(dòng)，結(jié)果沖擊噴嘴式分布器底板1或噴嘴2。通過(guò)這種機(jī)械作用力去除在噴嘴式分布器底板上的粘附物。按本發(fā)明的另一實(shí)施方案，該噴嘴式分布器底板通過(guò)凈化裝置呈振動(dòng)狀態(tài)，由此進(jìn)一步減少粘附的形成。為了簡(jiǎn)化起見(jiàn)，在圖1中僅示出在所選噴嘴上的凈化裝置。該凈化裝置在噴嘴式分布器底板上的固定也可任意實(shí)現(xiàn)。
圖2中再次示出在流化床裝置6中，例如用于還原細(xì)粒狀的鐵礦的流體床裝置中的噴嘴式分布器底板1。在噴嘴式分布器底板1的下面有鼓風(fēng)室7，反應(yīng)氣體經(jīng)氣體導(dǎo)入管8通過(guò)該鼓風(fēng)室7導(dǎo)入。該氣體在反應(yīng)室經(jīng)反應(yīng)后再經(jīng)排出管9從流化床裝置排出。另外經(jīng)導(dǎo)入管10將固體狀態(tài)加料加到流化床裝置中，并經(jīng)排出管11再次排出。
圖3示出實(shí)施分布器底板的其它不同實(shí)施例，它們還可相互組合。
詳細(xì)示出各種類(lèi)型的裝置，特別是用于凈化分布器底板的設(shè)備3’或3”在分布器底板1’或1”上，特別是在分布器底板的噴嘴2’或2”上的固定4’或4”。
權(quán)利要求
1.一種分布器底板(1)，特別是噴嘴式分布器底板，它用于分布載有細(xì)固體顆粒的氣體，優(yōu)選用于流化床裝置中，特別是用于還原含金屬氧化物的固體顆粒，其中在分布器底板(1)上設(shè)置有至少一個(gè)可移動(dòng)的凈化裝置，該凈化裝置可在分布器底板的運(yùn)行過(guò)程中減少在分布器底板上，特別是噴嘴式分布器底板的噴嘴(2)上的沉積物形成和/或至少部分去除已形成的沉積物，其特征在于，所述凈化裝置具有設(shè)備(3)，它通過(guò)在分布器底板上、特別是在噴嘴式分布器底板的噴嘴上的直接機(jī)械作用、特別是沖擊作用來(lái)凈化該分布器底板。
2.權(quán)利要求1的分布器底板，其特征在于，用于凈化分布器底板的設(shè)備(3)的設(shè)計(jì)方式使得所述用于凈化分布器底板的設(shè)備在氣流中吸收能達(dá)凈化作用的足夠的動(dòng)能。
3.權(quán)利要求1的分布器底板，其特征在于，所述用于凈化分布器底板的設(shè)備(3)是繩和/或鏈和/或可移動(dòng)的安裝的桿。
4.權(quán)利要求1-3中一項(xiàng)或多項(xiàng)的分布器底板，其特征在于，所述用于凈化分布器底板的設(shè)備(3)安置在分布器底板上，特別是在分布器底板的至少一個(gè)噴嘴中。
5.一種在分布器底板上，特別是在噴嘴式分布器底板的噴嘴上用于減少沉積物形成和/或至少部分去除沉積物的方法，其中在分布器底板上設(shè)置有至少一個(gè)可移動(dòng)的凈化裝置，其特征在于，在分布器底板運(yùn)行過(guò)程中，通過(guò)該凈化裝置在分布器底板上，特別是在噴嘴式分布器底板的噴嘴上或在這些部位的相應(yīng)的沉積物上的直接機(jī)械作用，特別是沖擊作用實(shí)現(xiàn)凈化該分布器底板。
6.權(quán)利要求5的方法，其特征在于，通過(guò)氣流給所述凈化裝置輸入達(dá)到凈化的足夠的動(dòng)能。
7.權(quán)利要求5或6的方法，其特征在于，所述噴嘴式分布器底板通過(guò)所述凈化裝置呈振動(dòng)狀態(tài)。
8.權(quán)利要求5-7中一項(xiàng)或多項(xiàng)的方法，其特征在于，所述凈化裝置至少部分安置、特別是固定在分布器底板的至少一個(gè)噴嘴中。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種分布器底板(1)，特別是噴嘴式分布器底板，它用于分布載有細(xì)固體顆粒的氣體，優(yōu)選用于流化床裝置中，特別是用于還原含金屬氧化物的固體顆粒，其中在分布器底板(1)上設(shè)置有至少一個(gè)可移動(dòng)的凈化裝置，它可在分布器底板的運(yùn)行過(guò)程中減少在分布器底板上，特別是噴嘴式分布器底板的噴嘴(2)上的沉積物形成和/或至少部分去除已形成的沉積物。該凈化裝置具有設(shè)備(3)，它通過(guò)在分布器底板上，特別是在噴嘴式分布器底板的噴嘴上的直接機(jī)械的，特別是沖擊作用來(lái)凈化該分布器底板。本發(fā)明還涉及一種在分布器底板上用于減少沉積物形成和/或至少部分去除該沉積物的方法。
文檔編號(hào)B01J8/44GK1633332SQ03803855
公開(kāi)日2005年6月29日 申請(qǐng)日期2003年2月10日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月14日
發(fā)明者F·豪岑伯格 申請(qǐng)人:沃斯特-阿爾派因工業(yè)設(shè)備制造股份有限公司, 浦項(xiàng)綜合制鐵株式會(huì)社, 工業(yè)科學(xué)與技術(shù)研究所財(cái)團(tuán)