專(zhuān)利名稱(chēng)：氣－液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，具體地說(shuō)是涉及一種應(yīng)用于氣-液兩相流或氣-液-固三相流中的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置。
背景技術(shù)：
氣-液兩相流或氣-液-固三相流廣泛應(yīng)用于化學(xué)工業(yè)中，在各種化工單元操作中具有非常重要的地位，例如在氣-液和氣-液-固反應(yīng)器的設(shè)計(jì)和操作中，氣體分布裝置的效果直接影響著反應(yīng)器的流體力學(xué)特性，如氣泡的大小、氣含率的多少和分布及液相和氣相的混合程度等等，進(jìn)而影響反應(yīng)收率和選擇性。在生物化工領(lǐng)域，特別是食品和生物發(fā)酵工業(yè)，氣-液兩相流或氣-液-固三相流也經(jīng)常遇到。在分離科學(xué)與工程領(lǐng)域，氣-液兩相流或氣-液-固三相流也顯得尤為重要，例如在水處理、浮選和溶劑氣浮等技術(shù)中，需要利用微氣泡來(lái)完成分離和純化任務(wù)。氣-液兩相流或氣-液-固三相流的流體力學(xué)特性是決定技術(shù)優(yōu)化的決定因素之一，也常常決定著其工業(yè)應(yīng)用，所以微氣泡的產(chǎn)生與分布裝置一直是一個(gè)重要的研究課題，迄今為止，氣-液兩相流和氣-液-固三相流微氣泡的產(chǎn)生裝置大體上有以下幾類(lèi)1)利用噴嘴或多孔材料產(chǎn)生微氣泡裝置。
2)攪拌法產(chǎn)生微氣泡裝置。
3)溶氣-析出產(chǎn)生微氣泡裝置。
4)電解法產(chǎn)生微氣泡裝置等。
這些產(chǎn)生微氣泡的方法較和裝置為常見(jiàn)，也比較成熟，但存在以下幾方面的缺點(diǎn)1)利用噴嘴或多孔材料產(chǎn)生的微氣泡一般大于50微米，受到設(shè)備的限制，布?xì)庋b置較為單一，改善設(shè)備內(nèi)的流體力學(xué)特性較困難。
2)攪拌裝置產(chǎn)生的微氣泡一般大于50微米，能耗大，適應(yīng)面較窄，在化工分離領(lǐng)域中應(yīng)用較少。
3)溶氣-析出和電解法裝置產(chǎn)生微氣泡皆小于50微米，但設(shè)備復(fù)雜，投資大，能耗也大一些。
所以對(duì)氣-液兩相流和氣-液-固三相流中微氣泡的產(chǎn)生和分布裝置的研究和改進(jìn)就很有應(yīng)用前景，這對(duì)改善設(shè)備的流體力學(xué)特性、節(jié)約能耗和促進(jìn)其工業(yè)化等方面具有重大的意義，特別是現(xiàn)在常用的利用噴嘴或多孔材料產(chǎn)生微氣泡裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于開(kāi)發(fā)新型的氣-液兩相流或氣-液-固三相流氣體分布裝置，以改善其流體力學(xué)特性，例如氣泡的產(chǎn)生方式和液相的返混，并且簡(jiǎn)化設(shè)備，使其易于加工、安裝和檢修等，更加方便和有效地應(yīng)用多孔材料來(lái)產(chǎn)生微氣泡。
本發(fā)明的目的是通過(guò)如下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的本發(fā)明提供一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，包括塔體11和5，氣體分布器4、10、12、20、21和23，磁傳動(dòng)裝置6、7、8和9，分布器支撐盤(pán)1，其特征在于，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器通過(guò)分布器支撐盤(pán)1直接在塔底進(jìn)行旋轉(zhuǎn)布?xì)?；氣體分布器的分布板(附圖1)10為多孔燒結(jié)板或安裝在平板上的垂直型多孔圓筒(附圖2)25，并在其側(cè)面的支撐壁上安裝有兩塊固定永磁鐵9；氣體導(dǎo)入管孔2在氣體分布器的支撐盤(pán)1中，依靠支撐盤(pán)1中的環(huán)狀布?xì)馇皇?4和空心轉(zhuǎn)軸12上的進(jìn)氣圓孔23進(jìn)行布?xì)?；氣體分布器依靠磁傳動(dòng)裝置6、7、8和9產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)永磁場(chǎng)傳動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)布?xì)獾哪康摹?br> 本發(fā)明的優(yōu)益之處在于1)本發(fā)明提供的一種應(yīng)用于氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，磁傳動(dòng)的旋轉(zhuǎn)氣體分布器直接在塔底進(jìn)行旋轉(zhuǎn)布?xì)?。靜止式的多孔材料氣體分布器，氣體依靠本身的壓力在液相中形成微小的氣泡群，而旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置在布?xì)鈺r(shí)，由于氣體分布器的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，使氣泡在離開(kāi)分布板時(shí)受到另外一附加在水平方向上的剪切力，使氣泡更容易離開(kāi)分布板，改變了離開(kāi)分布板的氣泡群的運(yùn)動(dòng)途徑和速度，相對(duì)于同等面積的靜止式的分布板，離開(kāi)分布板的氣泡群分布范圍更廣泛，同時(shí)減少了氣泡的大小，改善塔內(nèi)的流體力學(xué)特性，可利用較小的氣體分布板對(duì)大直徑搭進(jìn)行布?xì)?，易于工業(yè)放大。
2)本發(fā)明提供的一種應(yīng)用于氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，由于分布板的旋轉(zhuǎn)依靠旋轉(zhuǎn)的磁場(chǎng)來(lái)驅(qū)動(dòng)，可避免直接機(jī)械傳動(dòng)應(yīng)用于大的分布板時(shí)傳動(dòng)設(shè)備復(fù)雜、轉(zhuǎn)軸力矩小且轉(zhuǎn)動(dòng)不易穩(wěn)定等缺點(diǎn)，同時(shí)可較容易地實(shí)現(xiàn)分布板的清洗和板下空間的排污，簡(jiǎn)化了裝置，易于加工制造和檢修。
3)本發(fā)明提供的一種應(yīng)用于氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，氣體導(dǎo)入管孔在氣體分布器的支撐盤(pán)中，依靠支撐盤(pán)中的環(huán)狀布?xì)馇皇液涂招妮S上的進(jìn)氣圓孔進(jìn)行布?xì)猓c磁驅(qū)動(dòng)裝置的設(shè)計(jì)一起減少了技術(shù)難度較大的需密封的轉(zhuǎn)動(dòng)接觸面，減少進(jìn)氣裝置對(duì)分布器旋轉(zhuǎn)的影響，而且使設(shè)備緊湊，易于檢修。


圖1為本發(fā)明氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置(平板式)結(jié)構(gòu)示意圖；其中1、分布器支撐盤(pán)2、氣體導(dǎo)入管孔 3、緊固發(fā)蘭4、分布板支架 5、旋轉(zhuǎn)支架 6、電機(jī)7、旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)8、驅(qū)動(dòng)永磁鐵 9、被驅(qū)動(dòng)永磁鐵10、多孔燒結(jié)板 11、塔體12、轉(zhuǎn)動(dòng)軸13、排污管閥門(mén) 14、緊固鏍孔15、排污管16、密封支撐圈 17、密封填料18、填料壓圈19、密封壓圈 20、分布板支承框架 21、分布板上壓板22、分布板清洗排污閥 23、空心轉(zhuǎn)軸中氣體導(dǎo)入孔24、環(huán)狀布?xì)馇皇覉D2為本發(fā)明氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置(圓筒式)結(jié)構(gòu)示意圖；其中1、分布器支撐盤(pán) 2、氣體導(dǎo)入管孔3、緊固發(fā)蘭4、分布板支架 5、旋轉(zhuǎn)支架6、電機(jī)7、旋轉(zhuǎn)圓盤(pán) 8、驅(qū)動(dòng)永磁鐵 9、被驅(qū)動(dòng)永磁鐵10、多孔圓筒支撐板 11、塔體 12、轉(zhuǎn)動(dòng)軸13、排污管閥門(mén) 14、緊固鏍孔 15、排污管16、密封支撐圈 17、密封填料 18、填料壓圈19、密封壓圈20、分布板支承框架 21、分布板上壓板22、分布板清洗排污閥23、空心軸中氣體導(dǎo)入孔 24、環(huán)狀布?xì)馇皇?5、多孔圓筒
具體實(shí)施例方式
下面通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述1、實(shí)施例1～2為制作氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置如圖1所示，本發(fā)明提供一種應(yīng)用于氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其為一包括塔體11和5，氣體分布器4、10、12、20、21和23，磁傳動(dòng)裝置6、7、8和9，分布器支撐盤(pán)1，其特征在于，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器通過(guò)分布器支撐盤(pán)1直接在塔底進(jìn)行旋轉(zhuǎn)布?xì)?；氣體分布器的分布板(附圖1)10為多孔燒結(jié)板或安裝在平板上的垂直型多孔圓筒(附圖2)25，并在其側(cè)面的支撐壁上安裝有兩塊固定永磁鐵9；氣體導(dǎo)入管孔2在氣體分布器的支撐盤(pán)1中，依靠支撐盤(pán)1中的環(huán)狀布?xì)馇皇?4和空心軸12上的進(jìn)氣圓孔23進(jìn)行布?xì)?；氣體分布器依靠磁傳動(dòng)裝置6、7、8和9產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)永磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)布?xì)獾哪康?，分布器支撐盤(pán)1和轉(zhuǎn)動(dòng)空心軸12上分別安裝有清洗排污閥。
實(shí)施例1、按附圖1，用不銹鋼制作分布板支架4和旋轉(zhuǎn)空心軸12，并在分布板支架4上焊接分布板支承框架20，在支承框架20上通過(guò)分布板上壓板21密封固定一平均孔徑為10微米、直徑為80mm的多孔燒結(jié)鈦板10作為氣體分布板，在分布板支架4的側(cè)壁上對(duì)稱(chēng)地安裝兩塊永磁鐵9，在旋轉(zhuǎn)空心軸12上開(kāi)兩個(gè)氣體導(dǎo)入孔23，制作分布器支撐盤(pán)1，在支撐盤(pán)1上開(kāi)出氣體導(dǎo)入管孔2、帶外鏍紋密封支撐圈16和排污管孔，分布板支架4和轉(zhuǎn)動(dòng)軸12通過(guò)密封填料17、填料壓圈18和帶內(nèi)鏍紋密封壓圈19與分布器托盤(pán)1密封聯(lián)接，用內(nèi)徑為10cm高為1m的塔11作為塔器主體，塔器主體通過(guò)法蘭15與分布器支撐盤(pán)1密封聯(lián)接，在塔與氣體分布器側(cè)壁上永磁鐵9相適應(yīng)的高度上安裝磁傳動(dòng)裝置6、7、8和9，兩塊驅(qū)動(dòng)永磁鐵8與被驅(qū)動(dòng)永磁鐵9的對(duì)應(yīng)面極性相反，安裝排污管閥15和13，安裝分布板清洗排污閥22。
實(shí)施例2、按附圖2，用不銹鋼制作分布板支架4和旋轉(zhuǎn)空心軸12，并在分布板支架4上焊接分布板支承框架20，在支承框架20上通過(guò)分布板上壓板21密封固定一支撐多孔圓筒的支撐板10，支撐板10上對(duì)稱(chēng)地安裝四個(gè)平均孔徑約為20微米、高為40mm的多孔圓筒25作為氣體分布頭，在分布板支架4的側(cè)壁上對(duì)稱(chēng)地安裝兩塊永磁鐵9，在旋轉(zhuǎn)空心軸12上開(kāi)兩個(gè)氣體導(dǎo)入孔23，制作分布器支撐盤(pán)1，在支撐盤(pán)1上開(kāi)出氣體導(dǎo)入管孔2、帶外鏍紋密封支撐圈16和排污管孔，分布板支架4和轉(zhuǎn)動(dòng)軸12通過(guò)密封填料17、填料壓圈18和帶內(nèi)鏍紋密封壓圈19與分布器托盤(pán)1密封聯(lián)接，用內(nèi)徑為10cm高為1m的塔11作為塔器主體，塔器主體通過(guò)法蘭15與分布器支撐盤(pán)1密封聯(lián)接，在塔與氣體分布器側(cè)壁上永磁鐵9相適應(yīng)的高度上安裝磁傳動(dòng)裝置6、7、8和9，兩塊驅(qū)動(dòng)永磁鐵8與被驅(qū)動(dòng)永磁鐵9的對(duì)應(yīng)面極性相反，安裝排污管閥15和13，安裝分布板清洗排污閥22。
2、實(shí)施例3～6為使用磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置進(jìn)行氣-液兩相流液相返混情況的實(shí)驗(yàn)實(shí)施例3、用于安靜鼓泡區(qū)氣-液兩相流的傳統(tǒng)靜止的多孔板氣體分布方式用實(shí)施例1所制作的氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，在塔器(11)內(nèi)加入自來(lái)水，高度為950mm，壓縮鋼瓶中的氮?dú)饨?jīng)進(jìn)氣孔管(2)、布?xì)馇皇?24)和空心軸上的氣體導(dǎo)入孔(23)穿過(guò)氣體分布板(10)進(jìn)入塔器，氣體體積流量為220ml/min，水相與氣相逆流操作，體積流量為570ml/min，不開(kāi)動(dòng)電機(jī)(6)以保證氣體分布板(10)靜止不動(dòng)，兩相流動(dòng)達(dá)穩(wěn)態(tài)時(shí)，以飽和硝酸鉀溶液為示蹤劑，用在線(xiàn)自動(dòng)電導(dǎo)法液相返混測(cè)量設(shè)備測(cè)量水相返混性能，數(shù)據(jù)采集、傳輸?shù)冉杂捎?jì)算機(jī)完成，測(cè)量與計(jì)算結(jié)果為畢克列準(zhǔn)數(shù)(Peclet準(zhǔn)數(shù))2.89。
實(shí)施例4、用于安靜鼓泡區(qū)氣-液兩相流的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布方式用實(shí)施例1所制作的氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，在塔器(11)內(nèi)加入自來(lái)水，高度為950mm，壓縮鋼瓶中的氮?dú)饨?jīng)進(jìn)氣孔管(2)、布?xì)馇皇?24)和空心軸上的氣體導(dǎo)入孔(23)穿過(guò)氣體分布板(10)進(jìn)入塔器，氣體體積流量為220ml/min，水相與氣相逆流操作，體積流量為570ml/min，開(kāi)動(dòng)電機(jī)(6)以保證氣體分布板(10)轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)速為40轉(zhuǎn)/min，分布器轉(zhuǎn)動(dòng)穩(wěn)定，等兩相流動(dòng)達(dá)穩(wěn)態(tài)時(shí)，以飽和硝酸鉀溶液為示蹤劑，用在線(xiàn)自動(dòng)電導(dǎo)法液相返混測(cè)量設(shè)備測(cè)量水相返混性能，數(shù)據(jù)采集、傳輸?shù)冉杂捎?jì)算機(jī)完成，測(cè)量與計(jì)算結(jié)果為畢克列準(zhǔn)數(shù)(Peclet準(zhǔn)數(shù))3.35。
由實(shí)施例3和4的測(cè)量結(jié)果可以看出，在一般氣-液兩相流中，應(yīng)用本發(fā)明時(shí)氣-液兩相流的液相畢克列準(zhǔn)數(shù)(Peclet準(zhǔn)數(shù))大于不旋轉(zhuǎn)氣體分布方式，說(shuō)明液相的返混減小，塔內(nèi)的流體力學(xué)特性得以改善。
實(shí)施例5、用于溶劑氣浮中的傳統(tǒng)靜止多孔板氣體分布方式用實(shí)施例1所制作的氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，在塔器(11)內(nèi)加入自來(lái)水，高度為900mm，并在水相上小心地加入100ml異辛醇，作為溶劑氣浮的吸收溶劑，其在水相中的少量溶解可明顯減少氣泡的大小，壓縮鋼瓶中的氮?dú)饨?jīng)進(jìn)氣孔管(2)、布?xì)馇皇?24)和空心軸上的氣體導(dǎo)入孔(23)穿過(guò)氣體分布板(10)進(jìn)入塔器，氣體體積流量為300ml/min，水相與氣相逆流操作，體積流量為540ml/min，不開(kāi)動(dòng)電機(jī)(6)以保證氣體分布板(10)靜止不動(dòng)，兩相流動(dòng)達(dá)穩(wěn)態(tài)時(shí)，以飽和硝酸鉀溶液為示蹤劑，用在線(xiàn)自動(dòng)電導(dǎo)法液相返混測(cè)量設(shè)備測(cè)量水相返混性能，數(shù)據(jù)采集、傳輸?shù)冉杂捎?jì)算機(jī)完成，測(cè)量與計(jì)算結(jié)果為畢克列準(zhǔn)數(shù)(Peclet準(zhǔn)數(shù))4.88。
實(shí)施例6、用于溶劑氣浮中的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布方式用實(shí)施例1所制作的氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，在塔器(11)內(nèi)加入自來(lái)水，高度為900mm，并在水相上小心地加入100ml異辛醇，作為溶劑氣浮的吸收溶劑，其在水相中的少量溶解可明顯減少氣泡的大小，壓縮鋼瓶中的氮?dú)饨?jīng)進(jìn)氣孔管(2)、布?xì)馇皇?24)和空心軸上的氣體導(dǎo)入孔(23)穿過(guò)氣體分布板(10)進(jìn)入塔器，氣體體積流量為300ml/min，水相與氣相逆流操作，體積流量為540ml/min，開(kāi)動(dòng)電機(jī)(6)以保證氣體分布板(10)轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)速43轉(zhuǎn)/min，分布器轉(zhuǎn)動(dòng)穩(wěn)定，等兩相流動(dòng)達(dá)穩(wěn)態(tài)時(shí)，以飽和硝酸鉀溶液為示蹤劑，用在線(xiàn)自動(dòng)電導(dǎo)法液相返混測(cè)量設(shè)備測(cè)量水相返混性能，數(shù)據(jù)采集、傳輸?shù)冉杂捎?jì)算機(jī)完成，測(cè)量與計(jì)算結(jié)果為畢克列準(zhǔn)數(shù)(Peclet準(zhǔn)數(shù))5.41。
由實(shí)施例5和6的測(cè)量結(jié)果可以看出，在溶劑氣浮中，應(yīng)用本發(fā)明時(shí)氣-液兩相流的液相畢克列準(zhǔn)數(shù)(Peclet準(zhǔn)數(shù))大于不旋轉(zhuǎn)氣體分布方式，說(shuō)明液相的返混減小，塔內(nèi)的流體力學(xué)特性得以改善。
實(shí)驗(yàn)完成后可利用分布板清洗和排污閥22方便地對(duì)分布器進(jìn)行清洗，塔內(nèi)殘留的水可通過(guò)排污管閥15和13排除干凈，并可對(duì)塔進(jìn)行清洗。
權(quán)利要求
1.一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其特征在于，帶有傳動(dòng)永磁鐵(9)的旋轉(zhuǎn)型氣體分布器(4)、(10)、(12)、(20)、(21)、(22)和(23)直接在塔器(11)底進(jìn)行旋轉(zhuǎn)布?xì)?，氣體導(dǎo)入管孔(2)設(shè)置在氣體分布器的支撐盤(pán)(1)中，并依靠環(huán)狀布?xì)馇皇?24)和旋轉(zhuǎn)空心軸(12)上的進(jìn)氣圓孔(23)進(jìn)行布?xì)?，氣體分布器依靠磁傳動(dòng)裝置(6)、(7)、(8)和(9)產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)永磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)布?xì)獾哪康?，旋轉(zhuǎn)空心軸(12)的底端直接設(shè)置清洗排污閥(22)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其特征在于，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器的支架兩側(cè)外對(duì)稱(chēng)地安裝有兩塊永磁鐵(9)，永磁鐵(9)依靠塔體外部裝有永磁鐵(8)的轉(zhuǎn)盤(pán)(7)轉(zhuǎn)動(dòng)而驅(qū)動(dòng)永磁鐵(9)和氣體分布器轉(zhuǎn)動(dòng)，氣體分布器支撐盤(pán)(1)上設(shè)置一清洗排污管閥(15)和(13)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其特征在于，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器的支撐盤(pán)(1)中開(kāi)有一氣體導(dǎo)入管孔(2)，氣體導(dǎo)入管孔(2)與旋轉(zhuǎn)空心軸接觸端設(shè)置一環(huán)狀布?xì)馇皇?24)，旋轉(zhuǎn)空心軸(12)上的進(jìn)氣圓孔(23)與布?xì)馇皇?24)連通，氣體導(dǎo)入管孔(2)的另一端伸出支撐盤(pán)(1)以連接供氣裝置。
4.如權(quán)利要求1所述的一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其特征在于，在塔體(11)外側(cè)并與分布器的支架兩側(cè)外對(duì)稱(chēng)的兩塊永磁鐵(9)相對(duì)應(yīng)地安裝有極性相反的兩塊驅(qū)動(dòng)永磁鐵(8)，驅(qū)動(dòng)永磁鐵(8)安裝在滑動(dòng)的旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)(7)上，旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)(7)依靠電機(jī)(6)驅(qū)動(dòng)而在旋轉(zhuǎn)支架(5)上轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)速可以通過(guò)電機(jī)(6)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其特征在于，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器上的分布器包括多孔燒結(jié)的平板(附圖1(10))。
6.如權(quán)利要求1所述的一種氣-液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，其特征在于，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器上的分布器還可以是安裝在平板(附圖2(10))上的多孔圓筒(25)。
全文摘要
本發(fā)明涉及的一種氣－液等多相體系的磁傳動(dòng)旋轉(zhuǎn)氣體分布裝置，包括一附帶有磁傳動(dòng)裝置的塔器，旋轉(zhuǎn)型氣體分布器直接在塔底旋轉(zhuǎn)布?xì)?，氣體分布器依靠磁傳動(dòng)裝置產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)永磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)布?xì)獾哪康?，氣體導(dǎo)入管孔設(shè)置在氣體分布器的支撐盤(pán)中，依靠支撐盤(pán)中的環(huán)狀布?xì)馇皇液娃D(zhuǎn)動(dòng)空心軸上的進(jìn)氣圓孔進(jìn)行布?xì)?，在轉(zhuǎn)動(dòng)空心軸的底端安裝清洗排污閥。本發(fā)明利用磁場(chǎng)傳動(dòng)使氣泡在脫離分布板時(shí)受到附加水平剪切力作用，減少氣泡大小、分布和液相的返混，永磁場(chǎng)傳動(dòng)可避免直接機(jī)械傳動(dòng)應(yīng)用于大分布板時(shí)設(shè)備復(fù)雜、轉(zhuǎn)軸力矩小和不易穩(wěn)定等缺點(diǎn)，支撐盤(pán)中布?xì)庠O(shè)計(jì)與磁場(chǎng)傳動(dòng)的結(jié)合，減少了需密封的轉(zhuǎn)動(dòng)接觸面，有利于分布板的清洗和排污，裝置設(shè)備緊湊，易于檢修，可以方便和有效地應(yīng)用多孔材料來(lái)產(chǎn)生微氣泡。
文檔編號(hào)B01J10/00GK1795973SQ200410102668
公開(kāi)日2006年7月5日 申請(qǐng)日期2004年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月29日
發(fā)明者孫興華, 常志東, 安振濤, 申淑鋒, 胡欣, 劉吉, 劉會(huì)洲 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院過(guò)程工程研究所