專利名稱：真空加工設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空加工設(shè)備，其可在其中建立真空環(huán)境之后對基 板執(zhí)行所需工藝。更具體而言，本發(fā)明涉及一種真空加工設(shè)備，其中真 空室分為室體和上蓋，使得上蓋可容易地從室體打開以及關(guān)閉至室體。
背景技術(shù)：
真空加工設(shè)備主要用在半導體制造設(shè)備和平板顯示器(FPD)制造設(shè) 備中。半導體或FPD制造設(shè)備設(shè)計成將基板饋送到設(shè)備中并利用等離子 體等對基板執(zhí)行所需工藝，如蝕刻工藝。在此，F(xiàn)PD的實例包括LCD、 PDP、 OLED等。參考圖l，現(xiàn)有技術(shù)的真空加工設(shè)備通常包括三種真空 室，即負載鎖定室R、饋送室T和工藝室P。負載鎖定室R用來從外部臺站接收將在設(shè)備中進行加工的基板以便 于裝載基板，或者用來排出在設(shè)備中經(jīng)完全加工好的基板以便于卸載基 板。饋送室T設(shè)置有用于在各個室之間饋送基板的機器人，使得其可把 要加工的基板從負載鎖定室傳送到工藝室或者將經(jīng)完全加工好的基板從
工藝室傳送到負載鎖定室。工藝室P用來在真空環(huán)境下利用等離子體或 熱能對基板執(zhí)行所需工藝，如膜噴鍍工藝或蝕刻工藝。為此，工藝室P 包含支撐構(gòu)件，用來支撐室中的基板；加工氣體供給系統(tǒng)，用來將加 工氣體供應到其中；以及排氣系統(tǒng)，用來排空該室并且在室中形成真空。工藝室用來利用各種加工氣體或等離子體來重復執(zhí)行大量工藝，因 此，工藝室內(nèi)的設(shè)備易于受損或受到污染，從而需要定期更換或維修。 參考圖2，參考標號1所表示的現(xiàn)有技術(shù)的工藝室分為室體IO和上蓋20， 使得上蓋20可從室體10打開以便于對工藝室1內(nèi)部進行維護和維修。 在用來打開和關(guān)閉上蓋20的常規(guī)解決方案中，己將升降設(shè)備安裝到其中 設(shè)置有工藝室1的無塵室的頂部，以便于利用該升降設(shè)備來提升上蓋20 并將其從室體IO打開。在另一個常規(guī)打開/關(guān)閉解決方案中，工藝室可單 獨配備一個打開/關(guān)閉裝置以打開和關(guān)閉上蓋。參考圖3，其示出用于上蓋20的常規(guī)打開/關(guān)閉裝置的實例，參考標 號50所表示的上蓋打開/關(guān)閉裝置設(shè)置于工藝室l的外表面以打開和關(guān)閉 上蓋20。打開/關(guān)閉裝置50包括豎直驅(qū)動單元，用來豎直提升上蓋20; 水平驅(qū)動單元，用來水平移動上蓋20;以及旋轉(zhuǎn)單元，用來旋轉(zhuǎn)上蓋20。 另外，打開/關(guān)閉裝置50設(shè)置有水平移動引導60，用來提供水平驅(qū)動單 元的移動路徑。以下將說明由具有上述配置的打開/關(guān)閉裝置50所實施的上蓋20的 打開/關(guān)閉過程。首先，利用包括在打開/關(guān)閉裝置50中的豎直驅(qū)動單元 將上蓋20豎直提升預定高度。繼而沿水平移動引導60水平移動經(jīng)提升 的上蓋20。在完成這樣的水平移動之后，利用旋轉(zhuǎn)單元將上蓋20旋轉(zhuǎn)180°。這樣，工藝室1的室體10和上蓋20兩者均被打開，從而可進行 對設(shè)置于工藝室1中的相應設(shè)備的更換和維修。最近，要通過FPD制造設(shè)備加工的基板的尺寸己經(jīng)有所增加。更具 體而言，包括在FPD制造設(shè)備中的真空室的尺寸正在迅速增加。例如， 考慮目前可用的真空室，室的上蓋具有3米乘4米的大尺寸以及3至4 噸以上的大重量。因此，為了豎直提升真空室的大尺寸的重型上蓋，有 必要為豎直驅(qū)動單元提供具有極高容量的空氣筒。因此，笨重的室的上 蓋在其被豎直提升時在穩(wěn)定性上的不足增加，并因此對維護和維修真空 室內(nèi)部的方面有不利影響。發(fā)明內(nèi)容因此，已經(jīng)根據(jù)以上問題而作出本發(fā)明，并且本發(fā)明的一個目的是 提供一種能夠確保上蓋的簡單方便的打開和關(guān)閉操作的大型真空加工設(shè) 備。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，以上和其它目的可通過提供一種真空加工 設(shè)備來實現(xiàn)，該真空加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板 能夠裝載和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上而在其之間具有 一預定間隙，所述真空加工設(shè)備進一步包括水平驅(qū)動裝置，用來在面 對閘式閥設(shè)置方向的方向上水平移動上蓋；內(nèi)壁結(jié)構(gòu)，其插入到上蓋的 側(cè)壁中并且適于豎直移動以便于關(guān)閉和打開室體和上蓋之間的間隙；以 及內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置，其設(shè)置在上蓋上方并且適于豎直移動所述內(nèi)壁結(jié) 構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，以上和其它目的可通過提供一種真空加工 設(shè)備來實現(xiàn)，該真空加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板 能夠裝載和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上而在其之間具有 一預定間隙，所述真空加工設(shè)備進一步包括水平驅(qū)動裝置，其耦連到 上蓋的外表面并且適于在垂直于閘式閥設(shè)置方向的方向上水平移動上 蓋；內(nèi)壁結(jié)構(gòu)，其插入到上蓋的側(cè)壁中并且適于豎直移動以便于關(guān)閉和 打開室體和上蓋之間的間隙；以及內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置，其設(shè)置在上蓋上 方并且耦連到內(nèi)壁結(jié)構(gòu)以豎直移動所述內(nèi)壁結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，以上和其它目的可通過提供一種真空加工 設(shè)備來實現(xiàn)，該真空加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板 能夠裝載和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上而在其之間具有 一預定間隙，所述真空加工設(shè)備進一步包括水平驅(qū)動裝置，其耦連到 上蓋的外表面并且適于在垂直于閘式閥設(shè)置方向的方向上水平移動上 蓋；以及密封裝置，用來選擇性地密封室體和上蓋兩者的邊緣區(qū)域，該 密封裝置可從室體和上蓋兩者分離。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，以上和其它目的可通過提供一種加工設(shè)備 來實現(xiàn)，該加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使能基板的裝載 和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上，所述加工設(shè)備進一步包 括室體提升裝置，其安裝在室體的下表面并且適于豎直移動所述室體； 以及水平驅(qū)動裝置，其安裝在上蓋的外表面，用來在面對閘式閥設(shè)置方 向的方向上水平移動上蓋。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，以上和其它目的可通過提供一種加工設(shè)備
來實現(xiàn)，該加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板能夠裝載 和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上，所述加工設(shè)備進一步包 括室體提升裝置，其安裝在室體的下表面并且適于豎直移動所述室體; 以及水平驅(qū)動裝置，其安裝在上蓋的外表面，用來在垂直于閘式閥設(shè)置 方向的方向上水平移動上蓋。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，以上和其它目的可通過提供一種加工設(shè)備 來實現(xiàn)，該加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板能夠裝載 和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上，所述加工設(shè)備進一步包 括 一個或多個水平驅(qū)動單元，用來支撐上蓋以便于在面對閘式閥設(shè)置 方向的方向上水平移動上蓋； 一對上蓋移動框架，其以可豎直移動的方 式位于上蓋的相對兩側(cè)并且適于提供所述水平驅(qū)動單元的水平移動路 徑；以及多個豎直驅(qū)動單元，其耦連到每個上蓋移動框架的下表面，并 彼此間隔開預定距離，所述豎直驅(qū)動單元用來豎直移動上蓋移動框架和上蓋o根據(jù)本發(fā)明的第七方面，以上和其它目的可通過提供一種加工設(shè)備來實現(xiàn)，該加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板能夠裝載 和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上，所述加工設(shè)備進一步包 括上蓋提升裝置，其可分離地設(shè)置在所述上蓋上以豎直移動上蓋；以及水平驅(qū)動裝置，其設(shè)置在上蓋的相對側(cè)并且適于在上蓋由所述上蓋提 升裝置提升之后水平移動上蓋。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，以上和其它目的可通過提供一種加工設(shè)備來實現(xiàn)，該加工設(shè)備包括室體，其具有閘式閥，用于使基板能夠裝載
和卸載；以及上蓋，其可分離地設(shè)置在室體上，所述加工設(shè)備進一步包 括輸送提升機夾具系統(tǒng)，并且該輸送提升機夾具系統(tǒng)包括具有適當 厚度的多邊形柱狀主體，該主體在中心處設(shè)置有連接環(huán)；以及多個設(shè)置 在所述主體下表面的各個拐角處而在對角線方向上向主體的中心移動的 連接環(huán)，所述連接環(huán)同時向內(nèi)或向外移動而改變位置。
根據(jù)以下結(jié)合附圖給出的詳述，本發(fā)明的以上和其它目的、特點和 其它優(yōu)點將得到更為清楚的理解，在附圖中圖1是示出現(xiàn)有技術(shù)真空加工設(shè)備的各個室的布局的視圖；圖2是說明所述現(xiàn)有技術(shù)真空加工設(shè)備的內(nèi)部的示意性截面圖；圖3是示出現(xiàn)有技術(shù)上蓋打開/關(guān)閉裝置的立體圖；圖4是示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的真空加工設(shè)備的截面圖；圖5是示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的內(nèi)壁結(jié)構(gòu)和內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置圖6是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的真空加工設(shè)備的立體圖； 圖7是示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的支撐框架的側(cè)視圖； 圖8A到8C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第一實施例的真空加工設(shè)備中 的上蓋的打開過程的視圖；圖9是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的真空加工設(shè)備的截面圖；圖IO是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的內(nèi)壁結(jié)構(gòu)和內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置
圖11是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的上蓋移動框架的立體圖；圖12是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的水平驅(qū)動裝置的截面圖；圖13是示出根據(jù)本發(fā)明第二實施例的支撐框架的側(cè)視圖；圖14A到14C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第二實施例的真空加工設(shè)備中的上蓋的打開過程的視圖；圖15是示出根據(jù)本發(fā)明第三實施例的真空加工設(shè)備的截面圖；圖16是示出根據(jù)本發(fā)明第三實施例的密封裝置和密封裝置驅(qū)動單元的側(cè)視圖；圖17是示出根據(jù)本發(fā)明第三實施例的密封裝置驅(qū)動單元和水平驅(qū)動裝置的設(shè)置的平面圖；圖18是示出根據(jù)本發(fā)明第三實施例的密封裝置的截面圖； 圖19是示出根據(jù)本發(fā)明第三實施例的支撐框架的側(cè)視圖； 圖20A到20C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第三實施例的真空加工設(shè)備中的上蓋的打開過程的視圖；圖21是示出根據(jù)本發(fā)明第四實施例的真空加工設(shè)備的截面圖；圖22是示出根據(jù)本發(fā)明第四實施例的室體提升裝置的側(cè)視圖；圖23是根據(jù)本發(fā)明第四實施例的真空加工設(shè)備的立體圖；圖24是示出根據(jù)本發(fā)明第四實施例的支撐框架的側(cè)視圖；圖25A到25C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第四實施例的真空加工設(shè)備中的上蓋的打開過程的視圖；圖26是示出根據(jù)本發(fā)明第五實施例的真空加工設(shè)備的截面圖27是示出根據(jù)本發(fā)明第五實施例的室體提升裝置的側(cè)視圖； 圖28是示出根據(jù)本發(fā)明第五實施例的上蓋移動框架的立體圖； 圖29是示出根據(jù)本發(fā)明第五實施例的水平驅(qū)動裝置的截面圖； 圖30是示出根據(jù)本發(fā)明第五實施例的支撐框架的側(cè)視圖；圖31A到31C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第五實施例的真空加工設(shè)備中的上蓋的打開過程的視圖；圖32是示出根據(jù)本發(fā)明第六實施例的真空加工設(shè)備的截面圖；圖33是根據(jù)本發(fā)明第六實施例的真空加工設(shè)備的立體圖；圖34是示出根據(jù)本發(fā)明第六實施例的支撐框架的側(cè)視圖；圖35A到35C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第六實施例的真空加工設(shè)備中的上蓋的打開過程的視圖；圖36是示出根據(jù)本發(fā)明第七實施例的真空加工設(shè)備的截面圖；圖37是示出根據(jù)本發(fā)明第七實施例的上蓋提升裝置的平面圖；圖38是示出根據(jù)本發(fā)明第七實施例的防振構(gòu)件的截面圖；圖39是示出根據(jù)本發(fā)明第七實施例的支撐框架的側(cè)視圖；圖40A到40C是示出包括在根據(jù)本發(fā)明第七實施例的真空加工設(shè)備中的上蓋的打開過程的視圖；圖41是示出根據(jù)本發(fā)明第八實施例的輸送提升機夾具系統(tǒng)的平面圖；圖42是圖41的側(cè)視截面圖；并且圖43是沿圖42中所示線A-A所取的截面圖。
具體實施方式
現(xiàn)在將參照附圖來詳細說明根據(jù)本發(fā)明的真空加工設(shè)備的優(yōu)選實施例。第一實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，但為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖4， 根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備100包括室體110;上蓋120;水平驅(qū)動 裝置140;內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150;和內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置160。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備100中，室體110總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋120可分離地設(shè)置在室體110上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因 此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在其內(nèi)部設(shè)置 有排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中形成真空。在根據(jù)排氣系統(tǒng)的操作于室 中建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需工藝。室體110形成有基板入口，其用作從外部臺站接收基板以便于裝載 基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板在其以躺置狀態(tài) 水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口穿通室體110的側(cè)壁之一。 為打開和關(guān)閉基板入口，室體110設(shè)置有閘式閥?；迦肟谠谘b載和卸 載基板的過程中保持打開，但必須在完全裝載基板之后關(guān)閉，從而在室 的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需的基板加工。因此，閘式閥豎直移動以打開和關(guān) 閉基板入口。
內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150插入在上蓋120的側(cè)壁中并且適于在其豎直移動時建 立和釋放室中的真空。參考圖5，本實施例的內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150包括密封構(gòu) 件152;多個連接桿154;和輔助密封構(gòu)件156。密封構(gòu)件152插入到沿 上蓋120側(cè)壁的下表面凹陷的插入凹槽122中，并且適于密封上蓋120 和室體110之間的間隙。具體而言，當把上蓋120支撐為與室體110間 隔開一預定距離時，密封構(gòu)件152插入到上蓋120的側(cè)壁中。密封構(gòu)件 152用來在其豎直移動時建立和釋放室中的真空。在本實施例中，密封構(gòu) 件152總體上具有矩形圈形狀，并且在其向上移動到上蓋120的下端時 耦連到上蓋120。所述多個連接桿154豎直穿過上蓋120的側(cè)壁的某些位 置以將密封構(gòu)件152連接到內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置160。連接桿154在其下端 耦連于密封構(gòu)件152的上表面的多個位置，并因此使密封構(gòu)件152能夠 穩(wěn)定豎直移動。同時，本實施例的密封構(gòu)件152具有階梯形狀，使得所 得到的階梯形部分的一個表面與室體110的表面緊密接觸，并且該階梯 形部分的另一個表面與輔助密封構(gòu)件156緊密接觸，從而在室中建立真 空。因此，輔助密封構(gòu)件156是本實施例的基本部件。輔助密封構(gòu)件156 在比室體110的上表面高的位置處與密封構(gòu)件152接觸，從而將室的內(nèi) 部維持在氣密狀態(tài)。更具體而言，如圖5中所示，密封構(gòu)件152具有限 定了兩個水平接觸表面的階梯形下部，即第一接觸表面和第二接觸表面。 第一接觸表面與室體110的側(cè)壁的上表面接觸，而第二接觸表面與輔助 密封構(gòu)件156接觸。內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置160位于上蓋120上方，并且耦連到穿過上蓋120
側(cè)壁的內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150，以豎直提升內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150。在本實施例中，如圖5 中所示，內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置160優(yōu)選地包括導板162，其位于上蓋120 上方并且耦連到所述多個連接桿154的上端，該導板162用來引導連接 桿154的同時移動；以及驅(qū)動馬達164，其固定地安裝在導板162上以豎 直移動導板162。由于所述多個連接桿154必須同時移動，導板162用來 使所有連接桿154的提升運動同步。水平驅(qū)動裝置140用來在面對閘式閥設(shè)置方向的方向上水平移動上 蓋120。就是說，水平驅(qū)動裝置140耦連到上蓋120而以可水平移動的方 式支撐上蓋120。當室體110根據(jù)室體提升裝置(未示出)的操作向下移 動所需距離并因此與上蓋120分離時，水平驅(qū)動裝置140水平移動上蓋 120，直到上蓋120達到所需旋轉(zhuǎn)半徑。在本實施例中，水平驅(qū)動裝置140包括一對導軌142，所述導軌相互 平行設(shè)置以使上蓋120位于其間。導軌142用來在水平方向上引導上蓋 120，并因此提供上蓋120的水平移動路徑。參考圖6,每個導軌142都 分為面對上蓋120的第一部分142a和水平延伸到上蓋120之外的第二部 分142b。優(yōu)選地，第二部分142b可向著垂直于第一部分142a的上蓋120 的側(cè)壁折疊，使得它在不使用時可折疊，以使真空加工設(shè)備所占用的面 積最小。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備100可進一步包括支撐框架170，該支 撐框架設(shè)置在室體110旁并且適于在上蓋120沿導軌142水平移動時接 收上蓋120。提供單獨的支撐框架170的優(yōu)點在于，單個支撐框架可用于 包括在真空加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代為多個真空室分別 提供支撐框架的情況，單個可移動支撐框架可通用于所述多個真空室。 參考圖7，在本實施例中，支撐框架170包括矩形水平框架件172;豎直框架件174;以及間隙填充件176。水平框架件172具有與導軌142 相同的高度并且在與導軌142相同的方向上延伸以引導上蓋120的水平 移動。豎直框架件174用來將水平框架件172支撐于與導軌142相同的 高度。優(yōu)選地，豎直框架件174適于調(diào)節(jié)水平框架件172的高度以消除 水平框架件172和導軌142之間的高度差。間隙填充件176設(shè)置在面對室的水平框架件172的一端。當支撐框 架170接近導軌142時，間隙填充件176適于填充水平框架件172和導 軌142之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周圍的各種元件以及支撐 框架本身的配置，水平框架件172難以與導軌142緊密接觸，因此如圖7 中所示，必須提供間隙填充件176來填充水平框架件172和導軌142之 間的間隙。在本實施例中，間隙填充件176以可樞轉(zhuǎn)的方式鉸接于水平 框架件172，使得它們在輸送期間可折疊，但在使用中進行樞轉(zhuǎn)而填充水 平框架件172和導軌142之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件176可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架170優(yōu)選地進一步包括輪178，以便于其移 動。輪178分別安裝在豎直框架件174的下端，并且適于減小豎直框架 件174和地板之間的摩擦力，以確保豎直框架件174易于水平移動。根據(jù)本實施例的支撐框架170可進一步包括一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件177。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件177用來旋轉(zhuǎn)上蓋120。在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件177安裝
于水平框架件172，使得它們位于上蓋120的相對兩側(cè)。具體而言，旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件177耦連到上蓋120的相對側(cè)壁的中心以便可旋轉(zhuǎn)地支撐上蓋120。 因此，在上蓋120由水平驅(qū)動裝置140移動而達到足夠的旋轉(zhuǎn)半徑之后， 旋轉(zhuǎn)構(gòu)件177旋轉(zhuǎn)上蓋120，從而使上蓋120向上打開而使得能夠容易地 管理和維修其內(nèi)部設(shè)備。優(yōu)選地，支撐框架170進一步包括一個或多個固定單元179，以將支 撐框架170固定到室體110。固定單元179用來防止支撐框架170在上蓋 120的水平移動和旋轉(zhuǎn)期間移離室體110。在本實施例中，每個固定單元 179都包括一對固定塊179a和固定銷179b。因此，如果所述一對固定塊 179a彼此精確對準，則固定銷179b插入通過固定塊179a而將支撐框架 170維持在固定位置。以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備100的上蓋120的打開/關(guān) 閉過程。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備100中，將上蓋120支撐為使其向 上與室體110間隔開lmm到10mm的距離，并因此，不需要提升上蓋120。 簡而言之，如圖8A中所示，僅內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150根據(jù)相關(guān)提升裝置160的操 作而被提升。由于內(nèi)壁結(jié)構(gòu)150被提升，破壞了該室的氣密狀態(tài)，并因 此釋放了室中的真空。之后，如圖8B所示，上蓋120根據(jù)水平驅(qū)動裝置 140的操作而水平移動。在此情況下，當使用支撐框架170時，必須將支 撐框架170定位成與導軌142緊密接觸。當僅使用導軌142時，打開導 軌142的第二部分142b以達到上蓋120的穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)半徑。在水平移動上 蓋120而確保其穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)之后，如圖8C所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件177以將上
蓋120旋轉(zhuǎn)180。。以這種方式，上蓋120得以向上打開而使得能夠維修 其中的設(shè)備。在完成設(shè)備維修之后，以相反的順序執(zhí)行以上所述的上蓋 120的打開過程，從而關(guān)閉上蓋120。第二實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，并且為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖9， 根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備200包括室體210;上蓋220;水平驅(qū)動裝置240;內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250;和內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置260。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備200中，室體210總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋220可分離地設(shè)置在室體210上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因 此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在其內(nèi)部設(shè)置 有排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中建立真空。在利用排氣系統(tǒng)的操作于室 中建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需加工。室體210形成有基板入口 E，其用作從外部臺站接收基板以便于裝載 基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板在其以躺置狀態(tài) 水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口E穿通室體210的側(cè)壁之 一。為打開和關(guān)閉基板入口 E，室體210設(shè)置有閘式閥G。基板入口 E 在裝載和卸載基板的過程中持續(xù)打開，但必須在完全裝載基板之后關(guān)閉， 從而在室的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需的基板加工。因此，閘式閥G豎直移動 而打開和關(guān)閉基板入口E。
內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250插入在上蓋220的側(cè)壁中并且適于在其豎直移動時建 立和釋放室中的真空。參考圖10，本實施例的內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250包括密封 構(gòu)件252;多個連接桿254;和輔助密封構(gòu)件256。密封構(gòu)件252插入到 沿上蓋220側(cè)壁的下表面凹陷的插入凹槽222中，并且適于密封上蓋220 和室體210之間的間隙。具體而言，密封構(gòu)件252插入到上蓋220的側(cè) 壁中，以將上蓋220支撐為與室體210間隔開一預定距離。密封構(gòu)件252 用來在豎直移動時建立和釋放室中的真空。在本實施例中，密封構(gòu)件252 總體上具有矩形圈形狀，并且在其向上移動到上蓋220的下端時耦連到 上蓋220。所述多個連接桿254豎直穿過上蓋220的側(cè)壁的某些位置以將密封 構(gòu)件252連接到內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置260。連接桿254在其下端耦連于密封 構(gòu)件252的上表面的多個位置，以實現(xiàn)密封構(gòu)件252的穩(wěn)定豎直移動。 本實施例的密封構(gòu)件252具有階梯形狀，使得所得到的階梯形部分的一 個表面與室體210的表面緊密接觸，并且該階梯形部分的另一個表面與 輔助密封構(gòu)件256緊密接觸，從而在室中建立真空。因此，輔助密封構(gòu) 件256是本實施例的基本部件。輔助密封構(gòu)件256在比室體210的上表 面高的位置處與密封構(gòu)件252接觸，并且適于將室的內(nèi)部維持在氣密狀 態(tài)。更具體而言，如圖10中所示，密封構(gòu)件252具有限定了兩個水平接 觸表面的階梯形下部，即第一接觸表面和第二接觸表面。第一接觸表面 與室體210的側(cè)壁的上表面接觸，而第二接觸表面與輔助密封構(gòu)件256 接觸。內(nèi)壁結(jié)構(gòu)提升裝置260位于上蓋220上方，并且耦連到穿過上蓋220
側(cè)壁的內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250，以豎直提升內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250。在本實施例中，內(nèi)壁結(jié) 構(gòu)提升裝置260優(yōu)選地包括導板262，其位于上蓋220上方并且耦連到 所述多個連接桿254的上端，該導板262用來引導連接桿254的同時移 動；以及驅(qū)動馬達264，其固定地安裝在導板262上以豎直移動導板262。 由于所述多個連接桿254必須同時移動，導板262用來使所有連接桿254 同步。水平驅(qū)動裝置240用來在垂直于閘式閥G設(shè)置方向的方向上水平移 動上蓋220。為使真空加工設(shè)備200所占用的占地面積最小，本實施例提 出，在各個工藝室之間的未用空間中維修上蓋220。為此，上蓋220必須 在垂直于閘式閥G設(shè)置方向的方向上水平移動，并因此水平驅(qū)動裝置240 位于與閘式閥G相同的平面中。在此情況下，為防止彼此位于同一平面 的閘式閥G和水平驅(qū)動裝置240之間的干擾，如圖9中所示，水平驅(qū)動 裝置240放置得比閘式閥G高。因此，在本實施例中，水平驅(qū)動裝置240包括上蓋移動框架242; 和一對水平移動器244。在比閘式閥G的驅(qū)動高度高的位置，上蓋移動 框架242部分地設(shè)置在上蓋220的相對側(cè)處。上蓋移動框架242提供上 蓋220的水平移動路徑。參考圖ll，上蓋移動框架242包括第一水平框架件242a，每個在 其上表面支撐水平移動器244之一的第一端；以及第一豎直框架件242b， 其耦連到第一水平框架件242a的下表面以將第一水平框架件242a支撐 在預定高度。在本實施例中，為使已完全組裝的上蓋移動框架242可安 裝到真空室，將第一水平框架件242a設(shè)置在比上蓋220的上端高的位置。
而且，第一豎直框架件242b設(shè)置成使其中相鄰的框架件彼此間隔開比真 空加工設(shè)備寬度寬的距離。每個水平移動器244具有固定設(shè)置在上蓋移動框架242上的第一端 和耦連到上蓋220的第二端。水平移動器244用來沿上蓋移動框架242 水平移動上蓋220。參考圖12，本實施例的水平移動器244包括輥244a， 其耦連到上蓋移動框架242以在其上執(zhí)行旋轉(zhuǎn)運動；豎直連接器244b， 其在不同的高度處連接到輥244a和上蓋220中心；以及馬達244c，用來 提供旋轉(zhuǎn)輥244a所需的動力。以這種配置，即使當輥244a設(shè)置在與上 蓋220中心不同的高度時，輥244a也可借助于豎直連接器244b穩(wěn)定地 耦連到上蓋220，從而可實現(xiàn)上蓋220的順利的旋轉(zhuǎn)和水平運動。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備200可進一步包括支撐框架270，其設(shè) 置在室體210旁并且適于在上蓋220沿第一水平框架件242a水平移動時 接收上蓋220。提供單獨的支撐框架270的優(yōu)點在于，單個支撐框架可用 于包括在真空加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代為多個真空室分 別提供支撐框架，單個可移動支撐框架可共同用于所述多個真空室。參考圖13，在本實施例中，支撐框架270包括第二水平框架件272; 第二豎直框架件274;以及間隙填充件276。第二水平框架件272具有與 第一水平框架件242a相同的高度并且在與第一水平框架件242a相同的 方向上延伸以引導上蓋220的水平移動。第二豎直框架件274用來將第 二水平框架件272支撐于與第一水平框架件242a相同的高度。優(yōu)選地， 第二豎直框架件274適于調(diào)節(jié)第二水平框架件272的高度，以消除第一 和第二水平框架件242a和272之間的高度差。
間隙填充件276設(shè)置在面對室的第二水平框架件272的一端。當支 撐框架270接近第一水平框架件242a時，間隙填充件276適于填充第一 和第二水平框架件242a和272之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周 圍的各種元件以及支撐框架本身的配置，第二水平框架件272難以與第 一水平框架件242a緊密接觸。因此，如圖13中所示，單獨提供間隙填 充件276來填充第一和第二水平框架件242a和272之間的間隙。在本實 施例中，間隙填充件276以可樞轉(zhuǎn)的方式鉸接于第二水平框架件272，使 得它們在輸送期間可折疊，但在使用中進行樞轉(zhuǎn)而填充第一和第二水平 框架件242a和272之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件276可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架270優(yōu)選地進一步包括輪278，以便于其移 動。輪278分別安裝在第二豎直框架件274的下端，以便減小第二豎直 框架件274和地板之間的摩擦力，而確保第二豎直框架件274容易的水 平移動。根據(jù)本實施例的支撐框架270可進一步包括一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件277。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件277用來旋轉(zhuǎn)上蓋220。在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件277安裝 于第二水平框架件272,并且它們位于上蓋220的相對兩側(cè)。具體而言， 旋轉(zhuǎn)構(gòu)件277耦連到上蓋220的相對側(cè)壁的中心，并且適于可旋轉(zhuǎn)地支 撐上蓋220。因此，在上蓋220由水平驅(qū)動裝置240移動而達到足夠的旋 轉(zhuǎn)半徑時，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件277旋轉(zhuǎn)上蓋220，從而使上蓋220向上打開以使得 能夠容易地管理和維修其內(nèi)部設(shè)備。
以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備200的上蓋220的打開/關(guān) 閉過程。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備200中，將上蓋220支撐為使其向 上與室體210間隔開lmm到10mm的距離，并因此，不需要提升上蓋220。 簡而言之，如圖14A中所示，僅內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250根據(jù)相關(guān)提升裝置260的 操作而被提升。由于內(nèi)壁結(jié)構(gòu)250被提升，破壞了該室的氣密狀態(tài)，并 因此釋放了室中的真空。之后，如圖14B所示，上蓋220根據(jù)水平驅(qū)動 裝置240的操作而水平移動。在此情況下，如果使用支撐框架270，則必 須將支撐框架270設(shè)置成與第一水平框架件242a緊密接觸。在水平移動 上蓋220而確保其穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)之后，如圖14C所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件277而 將上蓋220旋轉(zhuǎn)180°。以這種方式，上蓋220得以向上打開以使得能夠 維修其中的設(shè)備。在完成設(shè)備維修之后，以相反的順序執(zhí)行以上所述的 上蓋220的打開過程，從而關(guān)閉上蓋220。第三實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，但為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖15， 根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備300包括室體310;上蓋320;水平驅(qū)動裝置340;和密封裝置350。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備300中，室體310總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋320可分離地設(shè)置在室體310上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因
此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在內(nèi)部設(shè)置有 排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中建立真空。在利用排氣系統(tǒng)的操作在室中 建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需工藝。如圖15所示，室體310形成有基板入口E，其用作從外部臺站接收 基板以便于裝載基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板 在其以躺置狀態(tài)水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口 E穿通室 體310的側(cè)壁之一。為打開和關(guān)閉基板入口，室體310設(shè)置有閘式閥G。 基板入口 E在裝載和卸載基板的過程中持續(xù)打開，但必須在完全裝載基 板之后關(guān)閉，從而在室的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需基板加工。因此，閘式閥G 豎直移動而打開和關(guān)閉基板入口 E。密封裝置350用來關(guān)閉室體310和上蓋320之間的間隙并且密封室 體310和上蓋320兩者的邊緣。在本實施例中，上蓋320與室體310間 隔開一預定距離，并因此有必要密封其間的間隙以便于在真空室中建立 真空。本實施例的密封裝置350允許上蓋320可分離地耦連于室體310。具體而言，室體310沿其上端表面設(shè)置有向外延伸的下突起312，并 且上蓋320沿其下端表面設(shè)置有向外延伸的上突起322。在此，室體310 的上端表面包括室體310側(cè)壁的上表面，并且上蓋320的下端表面包括 上蓋320側(cè)壁的下表面。密封裝置350具有用來與下突起312緊密接觸的下接觸表面352，以 及用來與上突起322緊密接觸的上接觸表面354。為實現(xiàn)下接觸表面352 和下突起312之間以及上接觸表面354和上突起322之間的充分接觸和 接合，它們配置成具有完全協(xié)調(diào)一致的形狀。
順便而言，由于室的側(cè)壁由相對剛性的材料(如金屬)制成，即使所述上和下突起322和312以及上和下接觸表面354和352得到精細地 加工，其間仍不可避免地存在細微間隙。這使得難以實現(xiàn)室中的完全氣 密狀態(tài)。為了解決這個問題，優(yōu)選的是在下和上接觸表面352和354形 成輔助密封O。在此情況下，輔助密封O由略具撓性的材料制成。因此， 當密封裝置與下和上突起312和322兩者緊密接觸時，輔助密封O在插 入于下和上接觸表面352和354與下和上突起312和322之間的同時被 輕微的壓縮，從而防止在其之間產(chǎn)生間隙。在特定情況下，為實現(xiàn)增加 的密封效率，兩個或多個輔助密封O可以一個在另一個之上的方式疊置。 更優(yōu)選地，為防止輔助密封O從其準確位置偏移，優(yōu)選下和上接觸表面 352和354形成有用于定位和固定輔助密封O的固定凹槽?；蛘?，如圖18中所示，密封裝置350a可具有傾斜的下和上接觸表 面352a和354a，并且對應的室的下和上突起312和322兩者可具有傾斜 表面。與以上所述的水平接觸表面相比，使用傾斜接觸表面具有增加接 觸面積的效果，從而使得密封效率的增加。而且，當為傾斜表面提供輔 助密封O時，接觸面積可擴大更多，并且多個輔助密封可容易地設(shè)置在 該處。在本實施例中，可進一步提供多個密封裝置驅(qū)動單元360以能夠在 對角線方向上自動移動密封裝置350。所述多個密封裝置驅(qū)動單元360耦 連到密封裝置350的下端的拐角。在此，對角線方向是相對于豎直方向 成45。角而由此相對于地板傾斜的方向。參考圖16，本實施例的密封裝 置驅(qū)動單元360中的每個都包括輥362;和凸輪364。輥362以可旋轉(zhuǎn)
的方式位于密封裝置350的下部拐角之一處。凸輪364配置成在與輥362 接觸的同時旋轉(zhuǎn)并且在對角線方向上移動密封裝置350。因此，輥362在 凸輪364旋轉(zhuǎn)同時與輥362接觸時旋轉(zhuǎn)，從而使密封裝置350在對角線 方向上移動。優(yōu)選地，密封裝置驅(qū)動單元360進一步包括凸輪旋轉(zhuǎn)停止器366，以 限制凸輪364的旋轉(zhuǎn)半徑并因此限制密封裝置350的對角線移動范圍。 就工作效率而言，優(yōu)選的是密封裝置350具有足以建立和釋放該室中的 真空的最小移動，并且因此使用凸輪旋轉(zhuǎn)停止器366來實現(xiàn)密封裝置350 的最小移動范圍。在本實施例中，如圖17中所示，優(yōu)選地，密封裝置驅(qū)動單元360設(shè) 置在除了設(shè)置有水平驅(qū)動裝置340的水平移動器344的室體310的相對 側(cè)以外的室體310的相對兩橫向側(cè)處。如果密封裝置驅(qū)動單元360和水 平驅(qū)動裝置340兩者彼此設(shè)置在相同側(cè)，則它們會在密封裝置驅(qū)動單元 360和水平驅(qū)動裝置340的操作中受到干擾并且安裝困難。因此，密封裝 置驅(qū)動單元360必須設(shè)置在除了設(shè)置有水平移動器344的側(cè)壁以外的室 體310的側(cè)壁處。水平驅(qū)動裝置340用來在垂直于閘式閥G設(shè)置方向的方向上水平移 動上蓋320。為使真空加工設(shè)備300所占用的占地面積最小，本實施例提 出，在各個工藝室之間的未用空間中維修上蓋320。為此，上蓋320必須 在垂直于閘式閥G設(shè)置方向的方向上水平移動，因此，水平驅(qū)動裝置340 設(shè)置在與閘式閥G相同的平面中。在此情況下，為防止設(shè)置在同一平面 的閘式閥G和水平驅(qū)動裝置340彼此之間的干擾，水平驅(qū)動裝置340放
置得比閘式閥G高。因此，在本實施例中，水平驅(qū)動裝置340包括上蓋移動框架342;和一對水平移動器344。在比閘式閥G的驅(qū)動高度高的位置，上蓋移動 框架342部分地設(shè)置在上蓋320的相對兩側(cè)。上蓋移動框架342提供上 蓋320的水平移動路徑。上蓋移動框架342包括第一水平框架件，每個在其上表面支撐水 平移動器344之一的第一端；以及第一豎直框架件，其耦連到第一水平 框架件的下表面以將第一水平框架件支撐在預定高度。在本實施例中， 為使已完全組裝的上蓋移動框架342可安裝到真空室，將第一水平框架 件設(shè)置在比上蓋320的上端高的位置。而且，第一豎直框架件設(shè)置成使 其中相鄰的框架件彼此間隔開比真空加工設(shè)備寬度寬的距離。每個水平移動器344具有固定設(shè)置在上蓋移動框架342上的第一端 和耦連到上蓋320的第二端。水平移動器344用來沿上蓋移動框架342 水平移動上蓋320。本實施例的水平移動器344包括輥344a，其耦連 到上蓋移動框架342以在其上執(zhí)行旋轉(zhuǎn)運動；豎直連接器344b，其在不 同的高度處連接到輥344a和上蓋320中心；以及馬達344c，用來提供旋 轉(zhuǎn)輥344a所需的動力。以這種配置，即使當輥344a設(shè)置在與上蓋320 中心不同的高度時，輥344a也可借助于豎直連接器344b穩(wěn)定地耦連到 上蓋320，從而可實現(xiàn)上蓋320的順利旋轉(zhuǎn)和水平運動。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備300可進一步包括支撐框架370,其設(shè) 置在室體310旁并且適于在上蓋320沿上蓋移動框架342的第一水平框 架件水平移動時接收上蓋320。提供單獨的支撐框架370的優(yōu)點在于，單
個支撐框架可用于包括在真空加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代 為多個真空室分別提供支撐框架的情況，單個可移動支撐框架可共同用 于所述多個真空室。參考圖19，在本實施例中，支撐框架370包括第二水平框架件372; 第二豎直框架件374;以及間隙填充件376。第二水平框架件372具有與 上蓋移動框架342的第一水平框架件相同的高度并且在與第一水平框架 件相同的方向上延伸以引導上蓋320的水平移動。第二豎直框架件374 用來將水平框架件372支撐于與第一水平框架件相同的高度。優(yōu)選地， 第二豎直框架件374適于調(diào)節(jié)第二水平框架件372的高度，以消除第一 和第二水平框架件之間的高度差。間隙填充件376設(shè)置在面對室的第二水平框架件372的一端。當支 撐框架370接近第一水平框架件時，間隙填充件376適于填充第一和第 二水平框架件之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周圍的各種元件以 及支撐框架本身的配置，第二水平框架件372難以與第一水平框架件緊 密接觸。因此，如圖19中所示，單獨提供間隙填充件376來填充第一和 第二水平框架件之間的間隙。在本實施例中，間隙填充件376以可樞轉(zhuǎn) 的方式鉸接于第二水平框架件372，使得它們在輸送期間可折疊，但在使 用中進行樞轉(zhuǎn)以填充第一水平框架件和第二水平框架件372之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件376可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元，以保證其豎 直移動。根據(jù)本實施例的支撐框架370優(yōu)選地進一步包括輪378，以方便其移 動。輪378分別安裝在第二豎直框架件374的下端，以便于減小第二豎 直框架件374和地板之間的摩擦力，確保第二豎直框架件374容易水平 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架370可進一步包括一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件377。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件377用來旋轉(zhuǎn)上蓋320。在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件377安裝 于第二水平框架件372，且它們位于上蓋320的相對兩側(cè)。旋轉(zhuǎn)構(gòu)件377 耦連到上蓋320的相對側(cè)壁的中心，并且適于可旋轉(zhuǎn)地支撐上蓋320。因 此，在上蓋320由水平驅(qū)動裝置340移動而達到足夠的旋轉(zhuǎn)半徑時，旋 轉(zhuǎn)構(gòu)件377旋轉(zhuǎn)上蓋320，從而使上蓋320向上打開以使得能夠容易管理 和維修其內(nèi)部設(shè)備。優(yōu)選地，支撐框架370進一步包括一個或多個固定單元379以將支 撐框架370固定到室體310。固定單元379用來防止支撐框架370在上蓋 320的水平移動和旋轉(zhuǎn)期間移離室體310。在本實施例中，每個固定單元 379都包括一對固定塊379a和一固定銷379b。因此，如果所述一對固定 塊379a彼此精確對準，則固定銷379b通過固定塊379a插入以將支撐框 架370維持在固定位置。以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備300的上蓋320的打開/關(guān) 閉過程。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備300中，將上蓋320支撐為使其向 上與室體310間隔開10mm到15mm的距離，并因此，不需要提升上蓋 320。簡而言之，如圖20A中所示，驅(qū)動密封裝置驅(qū)動單元360以在對角 線方向上移動密封裝置350，由此使上蓋320與室體310間隔開。由于上 蓋320被移動，破壞了該室的氣密狀態(tài)，并因此釋放了室中的真空。之
后，如圖20B所示，上蓋320根據(jù)水平驅(qū)動裝置340的操作而水平移動。 在此情況下，在使用支撐框架370時，必須將支撐框架370設(shè)置成與第 一水平框架件緊密接觸。在水平移動上蓋320而確保其穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)之后， 如圖20C所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件377以將上蓋320旋轉(zhuǎn)180°。以這種方式， 上蓋320得以向上打開以使得能夠維修其中的設(shè)備。在完成設(shè)備維修之 后，以相反的順序執(zhí)行以上所述的上蓋320的打開過程，從而關(guān)閉上蓋 320。第四實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，但為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖21， 根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備400包括室體410;上蓋420;水平驅(qū)動裝置440;和室體提升裝置450。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備400中，室體410總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋420可分離地設(shè)置在室體410上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因 此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在內(nèi)部設(shè)置有 排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中建立真空。在利用排氣系統(tǒng)的操作在室中 建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需工藝。室體410形成有基板入口，其用作從外部臺站接收基板以便于裝載 基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板在其以躺置狀態(tài) 水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口穿通室體410的側(cè)壁之一。
為打開和關(guān)閉基板入口，室體410設(shè)置有閘式閥。基板入口在裝載和卸 載基板的過程中持續(xù)打開，但必須在完全裝載基板之后關(guān)閉，從而在室 的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需基板加工。因此，基板入口隨著閘式閥豎直移動 而打開和關(guān)閉。
室體提升裝置450用來豎直移動室體410。在本實施例中，室體提升 裝置450包括多個提升驅(qū)動構(gòu)件452;和引導構(gòu)件454。
提升驅(qū)動構(gòu)件452插在室體410和將室體410支撐于距離地板一預 定高度的室基座框架460之間。提升驅(qū)動構(gòu)件452適于豎直移動室體410。 豎直移動室體410具有如下作用，即在室體410與上蓋420的下端接觸 時防止其干擾上蓋420的水平移動，并且亦防止上蓋420和O形圈之間 的干擾。在上蓋420固定于一預定高度的狀態(tài)下，室體410降低成與上 蓋420間隔開一預定距離。
本實施例采用多個提升驅(qū)動構(gòu)件452，其每個都具有小容量。就價格 而言，與使用單個大容量提升驅(qū)動構(gòu)件相比，使用多個小容量提升驅(qū)動 構(gòu)件452是有利的。而且，多個提升驅(qū)動構(gòu)件452可在多個位置處支撐 重的室體，并因此在維持室體的平衡上是有利的。每個提升驅(qū)動構(gòu)件452 優(yōu)選地采用波紋管筒的形式。在此情況下，如圖22中所示，波紋管筒優(yōu) 選地分別設(shè)置有偏心補償器456。具體而言，每個半球形的偏心補償器 456分別形成在波紋管筒452的上端。在此情況下，室體410在其對應于 相應波紋管筒452中心的下表面的位置處形成有偏心補償器插入凹陷 412。以這種配置，當波紋管筒452與室體410的下表面接觸而豎直移動 室體410時，偏心補償器456在被提升的同時滑入所述插入凹陷412中，
以順利地尋找精確的接觸位置。引導構(gòu)件454耦連到室體410并且適于引導室體410的豎直移動。 參考圖21，在本實施例中，引導構(gòu)件454優(yōu)選地采用引導塊單元的形式， 且在其下表面處耦連到室基座框架460的上表面并且在其上表面處插入 到形成于室體410下表面的引導凹槽中。在室體下表面提供用作引導構(gòu) 件的引導塊單元具有如下作用，即可引導室體的精確豎直移動方向而無 需用于引導構(gòu)件的單獨安裝空間?；蛘撸龑?gòu)件可采用引導柱的形式，其位于室體410旁并且耦連 到室體410的側(cè)壁以引導室體410的豎直移動方向。水平驅(qū)動裝置440用來在面對閘式閥設(shè)置方向的方向上水平移動上 蓋420。就是說，水平驅(qū)動裝置440耦連到上蓋420，以便以可水平移動 的方式支撐上蓋420。當室體410根據(jù)室體提升裝置450的操作向下移動 預定距離并因此與上蓋420分離時，水平驅(qū)動裝置440水平移動上蓋420， 直到上蓋420達到所需旋轉(zhuǎn)半徑。在本實施例中，水平驅(qū)動裝置440包括一對導軌442，其相互平行設(shè) 置而使上蓋420位于其間。導軌442用來在水平方向上引導上蓋420，并 因此提供上蓋420的水平移動路徑。參考圖23，每個導軌442都分為面 對上蓋420的第一部分442a和水平延伸到上蓋420以外的第二部分442b。 優(yōu)選地，第二部分442b可向垂直于第一部分442a的上蓋420側(cè)壁折疊， 使得它在不使用時折疊起來，以使真空加工設(shè)備所占用的面積最小。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備400可進一步包括支撐框架470，其設(shè) 置在室體410旁并且適于在上蓋420沿導軌442水平移動時接收上蓋420。提供單獨的支撐框架470的優(yōu)點在于，單個支撐框架可用于包括在真空 加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代為多個真空室分別提供支撐框 架的情況，單個可移動支撐框架可共同用于所述多個真空室。參考圖24，在本實施例中，支撐框架470包括水平框架件472; 豎直框架件474;以及間隙填充件476。水平框架件472具有與導軌442 相同的高度并且在與導軌442相同的方向上延伸以引導上蓋420的水平 移動。豎直框架件474用來將水平框架件472支撐于與導軌442相同的 高度。優(yōu)選地，豎直框架件474適于調(diào)節(jié)水平框架件472的高度以消除 水平框架件472和導軌442之間的高度差。間隙填充件476設(shè)置在面對室的水平框架件472的一端。當支撐框 架470接近導軌442時，間隙填充件476適于填充水平框架件472和導 軌442之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周圍的各種元件以及支撐 框架本身的配置，水平框架件472難以與導軌442緊密接觸。因此，如 圖24中所示，單獨提供間隙填充件476來填充水平框架件472和導軌442 之間的間隙。在本實施例中，間隙填充件476以可樞轉(zhuǎn)的方式鉸接于水 平框架件472，使得它們在輸送期間折疊起來，但在使用中進行樞轉(zhuǎn)以填 充水平框架件472和導軌442之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件476可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。盡管未示出，豎直驅(qū)動單元優(yōu)選地采用滾珠螺桿的形式以實現(xiàn)間 隙填充件476的精確豎直移動。根據(jù)本實施例的支撐框架470優(yōu)選地進一步包括輪478，以方便其移 動。輪478分別安裝在豎直框架件474的下端，從而減小豎直框架件474
和地板之間的摩擦力，以確保豎直框架件474容易水平移動。根據(jù)本實施例的支撐框架470可進一步包括一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件477。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件477用來旋轉(zhuǎn)上蓋420。在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件477安裝 于水平框架件472，使得它們位于上蓋420的相對側(cè)。旋轉(zhuǎn)構(gòu)件477耦連 到上蓋420的相對側(cè)壁的中心，并且適于可旋轉(zhuǎn)地支撐上蓋420。因此， 在上蓋420由水平驅(qū)動裝置440移動而達到足夠的旋轉(zhuǎn)半徑時，旋轉(zhuǎn)構(gòu) 件477旋轉(zhuǎn)上蓋420，從而使上蓋420向上打開，以便能夠容易管理和維 修其內(nèi)部設(shè)備。優(yōu)選地，支撐框架470進一步包括一個或多個固定單元479，以將支 撐框架470固定到室體410。固定單元479用來防止支撐框架470在上蓋 420的水平移動和旋轉(zhuǎn)期間移離室體410。在本實施例中，每個固定單元 479都包括一對固定塊479a和一固定銷479b。因此，如果所述一對固定 塊479a彼此精確對準，則固定銷47%通過固定塊479a插入而將支撐框 架470維持在固定位置。以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備400的上蓋420的打開/關(guān) 閉過程。首先，如圖25A所示，利用室體提升裝置450將室體410降低10mm 到15mm的距離以防止上蓋420和室體410之間的干擾。然后，如圖25B 所示，上蓋420根據(jù)水平驅(qū)動裝置440的操作而水平移動。在此情況下， 當使用支撐框架470時，必須將支撐框架470設(shè)置成與導軌442緊密接 觸。而且，當僅使用導軌442時，打開導軌442的第二部分442b以達到 上蓋420的穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)半徑。在水平移動上蓋420而確保其穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)之后，
如圖25C所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件477以將上蓋420旋轉(zhuǎn)180°。以這種方式， 上蓋420得以向上打開而使得能夠維修其中的設(shè)備。在完成設(shè)備維修之 后，以相反的順序執(zhí)行以上所述的上蓋420的打開過程，從而關(guān)閉上蓋 420。第五實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，但為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖26， 根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備500包括室體510;上蓋520;水平驅(qū)動 裝置540;基板入口E;閘式閥G;和室體提升裝置550。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備500中，室體510總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋520可分離地設(shè)置在室體510上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因 此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在其內(nèi)部設(shè)置 有排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中建立真空。在利用排氣系統(tǒng)的操作而在 室中建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需工藝。室體510形成有基板入口E，其用作從外部臺站接收基板以便于裝載 基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板在其以躺置狀態(tài) 水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口E穿通室體510的側(cè)壁之 一。為打開和關(guān)閉基板入口 E，室體510設(shè)置有閘式閥G。基板入口 E 在裝載和卸載基板的過程中持續(xù)打開，但必須在完全裝載基板之后關(guān)閉， 從而在室的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需基板加工。因此，閘式閥G豎直移動以 打開和關(guān)閉基板入口 E。水平驅(qū)動裝置540用來在垂直于閘式閥G設(shè)置方向的方向上水平移 動上蓋520。為使真空加工設(shè)備500所占用的占地面積最小，本實施例提 出，在各個工藝室之間的未用空間中維修上蓋520。為此，上蓋520必須 在垂直于閘式閥G設(shè)置方向的方向上水平移動，并因此水平驅(qū)動裝置540 位于與閘式閥G相同的平面中。在此情況下，為防止位于同一平面的閘 式閥G和水平驅(qū)動裝置540彼此之間的干擾，水平驅(qū)動裝置540放置得 比閘式閥G高。參考圖29，本實施例的水平驅(qū)動裝置540包括上蓋移動框架542; 和一對水平移動器544。在比閘式閥G的驅(qū)動高度高的位置，上蓋移動 框架542部分地設(shè)置在上蓋520的相對側(cè)。上蓋移動框架542提供上蓋 520的水平移動路徑。參考圖28，上蓋移動框架542包括第一水平框架件542a，每個在 其上表面處支撐水平移動器544之一的第一端；以及第一豎直框架件 542b，其耦連到第一水平框架件542a的下表面以將第一水平框架件542a 支撐在預定高度。在本實施例中，為使已完全組裝的上蓋移動框架542 可安裝到真空室，將第一水平框架件542a設(shè)置在比上蓋520的上端高的 高度。而且，第一豎直框架件542b設(shè)置成使相鄰的框架件彼此間隔開比 真空加工設(shè)備寬度寬的距離。優(yōu)選地，在每個第一水平框架件542a的上 表面形成水平的齒輪，使得所述齒輪與輥544a接合以引導上蓋520的精 確水平移動。每個水平移動器544具有固定設(shè)置在上蓋移動框架542上的第一端
和耦連到上蓋520的第二端。水平移動器544用來沿上蓋移動框架542 水平移動上蓋520。本實施例的水平移動器544包括輥544a，其耦連 到上蓋移動框架542以在其上執(zhí)行旋轉(zhuǎn)運動；豎直連接器544b，其在不 同的高度處連接到輥544a和上蓋520中心；以及馬達544c，用來提供旋 轉(zhuǎn)輥544a所需的動力。以這種配置，即使當輥544a設(shè)置在與上蓋520 中心不同的高度時，輥544a也可借助于豎直連接器544b穩(wěn)定地耦連到 上蓋520，從而可實現(xiàn)上蓋520的順利旋轉(zhuǎn)和水平運動。而且，輥544d 插在每個第一水平框架件542a和相關(guān)連接器544b之間以減小上蓋移動 期間的負載和摩擦力。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備500可進一步包括支撐框架570，其設(shè) 置在室體510旁并且適于在上蓋520沿第一水平框架件542a水平移動時 接收上蓋520。提供單獨的支撐框架570的優(yōu)點在于，單個支撐框架可用 于包括在真空加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代為多個真空室分 別提供支撐框架的情況，單個可移動支撐框架可共同用于所述多個真空 室。參考圖30，在本實施例中，支撐框架570包括第二水平框架件572; 第二豎直框架件574;以及間隙填充件576。第二水平框架件572具有與 第一水平框架件542a相同的高度并且在與第一水平框架件542a相同的 方向上延伸以引導上蓋520的水平移動。第二豎直框架件574用來將第 二水平框架件572支撐于與第一水平框架件542a相同的高度。優(yōu)選地， 豎直框架件574適于調(diào)節(jié)第二水平框架件572的高度以消除第一和第二 水平框架件542a和572之間的高度差。盡管未示出，可提供具有滾珠螺桿形狀的豎直驅(qū)動單元來實現(xiàn)對第二水平框架件572的高度的精確調(diào)節(jié)。 間隙填充件576設(shè)置在面對室的第二水平框架件572的一端。當支 撐框架570接近第一水平框架件542a時，間隙填充件576適于填充第一 和第二水平框架件542a和572之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周 圍的各種元件以及支撐框架本身的配置，第二水平框架件572難以與第 一水平框架件542a緊密接觸。因此如圖30中所示，單獨提供間隙填充 件576來填充第一和第二水平框架件542a和572之間的間隙。在本實施 例中，間隙填充件576以可樞轉(zhuǎn)的方式鉸接于第二水平框架件572，使得 它們在輸送期間折疊起來，但在使用中進行樞轉(zhuǎn)而填充第一和第二水平 框架件542a和572之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件576可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架570優(yōu)選地進一步包括輪578，以方便其移 動。輪578分別安裝在第二豎直框架件574的下端，以便于減小第二豎 直框架件574和地板之間的摩擦力，確保第二豎直框架件574容易水平 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架570可進一步包括一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件577。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件577用來旋轉(zhuǎn)上蓋520。在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件577安裝 于第二水平框架件572，并使得它們位于放置在其間的上蓋520的相對側(cè) 處。旋轉(zhuǎn)構(gòu)件577耦連到上蓋520的相對側(cè)壁的中心，并且適于可旋轉(zhuǎn) 地支撐上蓋520。因此，在上蓋520由水平驅(qū)動裝置540移動而達到足夠 的旋轉(zhuǎn)半徑時，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件577旋轉(zhuǎn)上蓋520，從而使上蓋520向上打開以
便能夠容易管理和維修其內(nèi)部設(shè)備。優(yōu)選地，支撐框架570進一步包括一個或多個固定單元579，以將支 撐框架570固定到室體510。固定單元579用來防止支撐框架570在上蓋 520的水平移動和旋轉(zhuǎn)期間移離室體510。在本實施例中，每個固定單元 579都包括一對固定塊579a和一固定銷579b。因此，如果所述一對固定 塊579a彼此精確對準，則固定銷579b通過固定塊579a插入而將支撐框 架570維持在固定位置。室體提升裝置550用來豎直移動室體510。在本實施例中，室體提升 裝置550包括多個提升驅(qū)動構(gòu)件552;和引導構(gòu)件554。提升驅(qū)動構(gòu)件552插在室體510和將室體510支撐于距離地板一預 定高度處的室基座框架560之間。提升驅(qū)動構(gòu)件552適于豎直移動室體 510。豎直移動室體510具有如下作用，即在室體510與上蓋520的下端 接觸時防止其干擾上蓋520的水平移動，并且亦防止上蓋520和O形圈 之間的干擾。在上蓋520固定于一預定高度的狀態(tài)下，室體510被降低 成與上蓋520間隔開一預定距離。本實施例采用多個提升驅(qū)動構(gòu)件552，且每個提升驅(qū)動構(gòu)件都具有小 容量。就價格而言，與使用單個大容量提升驅(qū)動構(gòu)件相比，使用多個小 容量提升驅(qū)動構(gòu)件552是有利的。而且，多個提升驅(qū)動構(gòu)件552可在多 個位置處支撐重的室體，并因此在維持室體的平衡上是有利的。每個提 升驅(qū)動構(gòu)件552優(yōu)選地采用波紋管筒的形式。在此情況下，如圖27中所 示，波紋管筒優(yōu)選地分別設(shè)置有偏心補償器556。具體而言，各半球形的 偏心補償器556形成在波紋管筒552的上端。室體510在其下表面上對
應于相應波紋管筒552中心的位置處形成有偏心補償器插入凹陷512。以 這種配置，當波紋管筒552與室體510的下表面接觸而豎直提升室體510 時，偏心補償器556在被提升的同時滑入所述插入凹陷512中，以順利 地尋找精確的接觸位置。引導構(gòu)件554耦連到室體510并且適于引導室體510的豎直移動。 參考圖26，在本實施例中，引導構(gòu)件554優(yōu)選地采用引導塊單元的形式， 該引導塊單元在其下表面處耦連到室基座框架560的上表面并且在其上 表面處插入到形成于室體510下表面的引導凹陷中。在室體下表面提供 引導塊單元具有如下作用，即可引導室體的精確豎直移動方向而無需用 于引導構(gòu)件的單獨安裝空間?；蛘?，引導構(gòu)件可采用引導柱的形式，其位于室體510旁并且耦連 到室體510的側(cè)壁以引導室體510的豎直移動方向。以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備500的上蓋520的打開/關(guān) 閉過程。首先，如圖31A所示，利用室體提升裝置550將室體510降低10mm 到15mm的距離以防止上蓋520和室體510之間的干擾。然后，如圖31B 所示，上蓋520根據(jù)水平驅(qū)動裝置540的操作而水平移動。在此情況下， 當使用支撐框架570時，必須將支撐框架570設(shè)置成與第一水平框架件 將542a緊密接觸。在水平移動上蓋520而確保其穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)之后，如圖31C 所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件577以將上蓋520旋轉(zhuǎn)180。。以這種方式，上蓋520 得以向上打開以便能夠維修其中的設(shè)備。在完成設(shè)備維修之后，以相反 的順序執(zhí)行以上所述的上蓋520的打開過程，從而關(guān)閉上蓋520。
第六實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，但為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖32， 根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備600包括室體610;上蓋620; —個或多個水平驅(qū)動單元630; —對上蓋移動框架640;和多個豎直移動單元650。 在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備600中，室體610總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋620可分離地設(shè)置在室體610上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因 此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在其內(nèi)部設(shè)置 有排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中建立真空。在利用排氣系統(tǒng)的操作而在 室中建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需工藝。室體610形成有基板入口，其用作從外部臺站接收基板以便于裝載 基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板在其以躺置狀態(tài) 水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口穿通室體610的側(cè)壁之一。 為打開和關(guān)閉基板入口，室體610設(shè)置有閘式閥?；迦肟谠谘b載和卸 載基板的過程中持續(xù)打開，但必須在完全裝載基板之后關(guān)閉，從而在室 的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需的基板加工。因此，閘式閥豎直移動以打開和關(guān) 閉基板入口。水平驅(qū)動單元630用來在面對閘式閥設(shè)置方向的方向上水平移動上 蓋620。如圖32中所示，在本實施例中，可提供多個水平驅(qū)動單元630。 在此情況下，多個水平驅(qū)動單元630共同分擔重的上蓋620的負載，從
而實現(xiàn)穩(wěn)定性的增加。此外，上蓋620能夠被支撐于多個位置處，因此 沒有上蓋620振動的危險。這增加了加工操作的穩(wěn)定性。所述一對上蓋移動框架640以可豎直移動的方式位于上蓋620的相 對側(cè)。上蓋移動框架640用來提供水平驅(qū)動單元630的水平移動路徑， 使得上蓋620水平移動以達到打開所需的足夠旋轉(zhuǎn)半徑。所述多個豎直驅(qū)動單元650耦連到每個上蓋移動框架640的下表面， 使得它們彼此間隔開預定距離。豎直驅(qū)動單元650用來豎直移動上蓋移 動框架640和上蓋620。在本實施例中，不是直接提升上蓋620，而是提 升上蓋620支撐于其上的上蓋移動框架640。而且，多個小容量筒而不是 單個大容量管筒用作豎直驅(qū)動單元650，從而改進了加工穩(wěn)定性。因此， 在本實施例中，所述多個豎直驅(qū)動單元650沿每個上蓋移動框架640設(shè) 置。下框架652設(shè)置在每個上蓋移動框架640之下且彼此平行，使得所 述多個豎直驅(qū)動單元650以預定距離設(shè)置在下框架652上。優(yōu)選地，所 述多個豎直驅(qū)動單元650于下框架652上被同時驅(qū)動以豎直移動上蓋移 動框架640，從而使上蓋移動框架640可平行于地板而移動。參考圖33，每個上蓋移動框架640都分為面對上蓋620的第一部分 640a和水平延伸到上蓋620之外的第二部分640b。優(yōu)選地，第二部分640b 可垂直于第一部分640a向著上蓋620的側(cè)壁折疊，使得其在不使用時折 疊起來，以使真空加工設(shè)備所占用的面積最小。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備600可進一步包括支撐框架670，其設(shè) 置在室體610旁并且適于在上蓋620沿上蓋移動框架640水平移動時接 收上蓋620。提供單獨的支撐框架670的優(yōu)點在于，單個支撐框架可用于
包括在真空加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代為多個真空室分別 提供支撐框架的情況，單個可移動支撐框架可共同用于所述多個真空室。參考圖34，在本實施例中，支撐框架670包括水平框架件672; 豎直框架件674;以及間隙填充件676。水平框架件672具有與上蓋移動 框架640相同的高度并且在與上蓋移動框架640相同的方向上延伸以引 導上蓋620的水平移動。豎直框架件674用來將水平框架件672支撐于 與上蓋移動框架640相同的高度。優(yōu)選地，豎直框架件674適于調(diào)節(jié)水 平框架件672的高度以消除水平框架件672和上蓋移動框架640之間的 高度差。間隙填充件676設(shè)置在面對室的水平框架件672的一端。當支撐框 架670接近上蓋移動框架640時，間隙填充件676適于填充水平框架件 672和上蓋移動框架640之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周圍的各 種元件以及支撐框架本身的配置，水平框架件672難以與上蓋移動框架 640緊密接觸。因此，如圖34中所示，單獨提供間隙填充件676來填充 水平框架件672和上蓋移動框架640之間的間隙。在本實施例中，間隙 填充件676以可樞轉(zhuǎn)的方式鉸接于水平框架件672,使得它們在輸送期間 折疊起來，但在使用中進行樞轉(zhuǎn)而填充水平框架件672和上蓋移動框架 640之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件676可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架670優(yōu)選地進一步包括輪678,以方便其移 動。輪678分別安裝在豎直框架件674的下端，以便于減小豎直框架件 674和地板之間的摩擦力，確保豎直框架件674容易水平移動。根據(jù)本實施例的支撐框架670可進一步包括一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件677。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件677用來旋轉(zhuǎn)上蓋620。在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件677安裝 于水平框架件672，使得它們位于放置在其間的上蓋620的相對側(cè)。旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件677耦連到上蓋620的相對側(cè)壁的中心，并且適于可旋轉(zhuǎn)地支撐上 蓋620。因此，在上蓋620由水平驅(qū)動單元630移動而達到足夠的旋轉(zhuǎn)半 徑時，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件677旋轉(zhuǎn)上蓋620,從而使上蓋620向上打開以便能夠容 易地管理和維修其內(nèi)部設(shè)備。優(yōu)選地，支撐框架670進一步包括一個或多個固定單元679，以將支 撐框架670固定到室體610。固定單元679用來防止支撐框架670在上蓋 620的水平移動和旋轉(zhuǎn)期間移離室體610。在本實施例中，每個固定單元 679都包括一對固定塊679a和一固定銷679b。因此，如果所述一對固定 塊679a彼此精確對準，則固定銷67%通過固定塊679a插入而將支撐框 架670維持在固定位置。以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備600的上蓋620的打開/關(guān) 閉過程。首先，如圖35A所示，在同時驅(qū)動多個豎直驅(qū)動單元650時將上蓋 移動框架640提升lmm到10mm的距離。由此使支撐在上蓋移動框架640 上的水平驅(qū)動單元630、旋轉(zhuǎn)構(gòu)件677和上蓋620得到提升。因此如果該 室中的真空被釋放，如圖35B所示，上蓋620根據(jù)水平驅(qū)動單元630的 操作而水平移動。在此情況下，當使用支撐框架670時，必須將支撐框 架670設(shè)置成與上蓋移動框架640緊密接觸。在水平移動上蓋620而達到足夠的旋轉(zhuǎn)半徑之后，如圖35C所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件677以將上蓋620 旋轉(zhuǎn)180°。以這種方式，上蓋620得以向上打開而使得能夠維修其中的 設(shè)備。在完成設(shè)備維修之后，以相反的順序執(zhí)行以上所述的上蓋620的 打開過程，從而關(guān)閉上蓋620。第七實施例根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備包括負載鎖定室；饋送室；和一個 或多個工藝室，但為方便說明，以下描述僅針對一個工藝室。參考圖36，根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備700包括室體710;上蓋720;上蓋提升裝置730;和水平驅(qū)動裝置740。在根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備700中，室體710總體上具有矩形 盒形狀，并且上蓋720可分離地設(shè)置在室體710上，從而構(gòu)成真空室。 真空室用來加工其中的具有矩形形狀的大面積的平板顯示器基板，并因 此總體上具有對應于所述矩形基板的矩形盒形狀。真空室在內(nèi)部設(shè)置有 排氣系統(tǒng)(未示出)以在室中建立真空。在利用排氣系統(tǒng)的操作而在室 中建立真空之后，對放置在室中的基板執(zhí)行所需工藝。室體710形成有基板入口，其用作從外部臺站接收基板以便于裝載 基板以及排出基板以便于卸載基板的通路。通常，基板在其以躺置狀態(tài) 水平移動時進行裝載和卸載，因此，基板入口穿通室體710的側(cè)壁之一。 為打開和關(guān)閉基板入口，室體710設(shè)置有閘式閥。基板入口在裝載和卸 載基板的過程中持續(xù)打開，但必須在完全裝載基板之后關(guān)閉，從而在室 的關(guān)閉狀態(tài)下進行所需基板加工。因此，基板入口在閘式閥豎直移動時
打開和關(guān)閉。參考圖36，上蓋提升裝置730可分離地設(shè)置在上蓋720上以豎直移 動上蓋720。在本實施例中，在為其打開操作而水平移動之前，上蓋720 利用上蓋提升裝置730而提升預定距離。本實施例的上蓋提升裝置730包括多個提升機起重裝置732;以及 起重裝置支撐框架734。提升機起重裝置732耦連到支撐框架734以向下 延伸，從而使其耦連到上蓋720的上表面以提升上蓋720。所述多個提升 機起重裝置732分別耦連到上蓋720的多個位置，以共同分擔重的上蓋 720的負載。利用多個耦連于其的提升機起重裝置732來提升上蓋720具 有分散負載集中度的效果。而且，由于在多個位置處支撐上蓋720，可使 上蓋720豎直移動期間的上蓋720振動最小。起重裝置支撐框架734在上蓋720上方放置成與上蓋720的上表面 平行地間隔開，并且具有對應于上蓋720的邊緣的形狀。所述多個提升 機起重裝置732耦連到起重裝置支撐框架734的適當位置以由起重裝置 支撐框架734來支撐。參考圖37,起重裝置支撐框架734總體上具有對 應于上蓋720的邊緣的矩形圈形狀，但具有比上蓋720大的寬度。為使 所述多個提升機起重裝置732可設(shè)置在各個位置，如圖37中所示，輔助 框架733設(shè)置在起重裝置支撐框架734處。輔助框架733在起重裝置支 撐框架734內(nèi)設(shè)置成跨起重裝置支撐框架734而延伸。如圖37中所示， 提升機起重裝置732位于輔助框架733的相交處。根據(jù)本實施例的上蓋提升裝置730可由主起重裝置(未示出)從一 個地方移動到另一個地方，所述主起重裝置安裝于其中真空加工設(shè)備所
安裝處于的無塵室的頂部。具體而言，上蓋提升裝置730由主起重裝置 提升，使得其從一個真空加工設(shè)備移動到另一個真空加工設(shè)備以便打開 設(shè)備的上蓋。因此，優(yōu)選的是起重裝置支撐框架734在其上表面設(shè)置有 耦連器(未示出)以與主起重裝置耦連。使用可移動的上蓋提升裝置730 消除了為真空加工設(shè)備的所有工藝室分別提供上蓋提升裝置的需要，從 而可實現(xiàn)制造成本的減少和設(shè)備結(jié)構(gòu)的簡化。優(yōu)選地，根據(jù)本實施例的上蓋提升裝置730設(shè)置有防振構(gòu)件736。防 振構(gòu)件736插在起重裝置支撐框架734和上蓋720之間，并且適于在上 蓋720提升或降低時防止上蓋720的振動。在本實施例中，如圖36中所 示，防振構(gòu)件736可包括多個彈性彈簧。在此情況下，優(yōu)選的是彈性彈 簧736耦連到上蓋720的上表面的拐角或邊緣，以便于實現(xiàn)上蓋720的 防振效能的增加。當防振構(gòu)件736由彈性彈簧形成時，它可吸收上蓋720 的振動，并且彈性地擠壓上蓋720，從而實現(xiàn)防振動效能的增加。參考圖38，或者，防振構(gòu)件736可包括防振夾具736a，其具有對應 于上蓋720邊緣的形狀。防振夾具736a配置成與形成在上蓋720上表面 處的振動停止器722耦連。在此情況下，為有效地防止上蓋720的振動， 振動停止器722和防振夾具736a必須配置成相互緊密接觸。在本實施例 中，如圖38中所示，優(yōu)選的是振動停止器722和防振夾具736a兩者的 接觸表面都向外傾斜，以確保在提升上蓋720時振動停止器722的接觸 表面可與防振夾具736a的接觸表面順利地接觸，以便在其上滑動。優(yōu)選地，防振夾具736a設(shè)置有上蓋高度傳感器738以精確地測量上 蓋720的高度。上蓋高度傳感器738插在防振夾具736a和振動停止器722
之間以感測提升的上蓋720的高度。精確測量上蓋720的高度是重要的， 這是因為在上蓋720完全提升之后如果繼續(xù)將動力施加到提升機起重裝 置732，則可能會損壞上蓋720或起重裝置。而且，當上蓋720得到不充 分的提升時，在上蓋720的水平移動期間可導致?lián)p壞O形圈。因此，在 本實施例中，作為接觸型傳感器的上蓋高度傳感器738設(shè)置在防振夾具 736a的接觸表面處，使得當提升的上蓋720觸及傳感器738時提升機起 重裝置732的操作停止。水平驅(qū)動裝置740配置成位于上蓋720的相對側(cè)，使得上蓋720位 于其間。水平驅(qū)動裝置740用來在上蓋720由上蓋提升裝置730提升之 后水平移動上蓋720。參考圖36，水平驅(qū)動裝置740支撐起重裝置支撐 框架734的相對側(cè)以水平移動起重裝置支撐框架734，并因此水平移動耦 連到起重裝置支撐框架734的提升的上蓋720。因此，在本實施例中，水 平驅(qū)動裝置740包括一對導軌742和驅(qū)動馬達(未示出)。如圖36中所 示，導軌742與起重裝置支撐框架734的相對側(cè)接觸以水平引導起重裝 置支撐框架734。驅(qū)動馬達提供水平移動起重裝置支撐框架734所需的動 力。因此，驅(qū)動馬達耦連到起重裝置支撐框架734和導軌742以水平移 動起重裝置支撐框架734。根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備700可進一步包括支撐框架770，其設(shè) 置在室體710旁并且適于在上蓋720由水平驅(qū)動裝置740水平移動時接 收上蓋720。提供單獨的支撐框架770的優(yōu)點在于，單個支撐框架可用于 包括在真空加工設(shè)備中的多個真空室。就是說，取代為多個真空室分別 提供支撐框架的情況，單個可移動支撐框架可共同用于所述多個真空室。
參考圖39，在本實施例中，支撐框架770包括水平框架件772; 豎直框架件774;間隙填充件776;以及旋轉(zhuǎn)構(gòu)件777。水平框架件772 具有與導軌742相同的高度并且在與導軌742相同的方向上延伸以引導 上蓋720的水平移動。豎直框架件774用來將水平框架件772支撐于與 導軌742相同的高度。優(yōu)選地，豎直框架件774適于調(diào)節(jié)水平框架件772 的高度以消除水平框架件672和導軌742之間的高度差。間隙填充件776設(shè)置在面對室的水平框架件772的一端。當支撐框 架770接近導軌742時，間隙填充件776適于填充水平框架件772和導 軌742之間的間隙。如公知的，由于設(shè)置在室周圍的各種元件以及支撐 框架本身的配置，水平框架件772難以與導軌742緊密接觸。因此，如 圖39中所示，單獨提供間隙填充件776來填充水平框架件772和導軌742 之間的間隙。在本實施例中，間隙填充件776以可樞轉(zhuǎn)的方式鉸接于水 平框架件772，使得它們在輸送期間折疊起來，但在使用中進行樞轉(zhuǎn)以填 充水平框架件772和導軌742之間的間隙。優(yōu)選地，每個間隙填充件776可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。盡管未示出，豎直驅(qū)動單元優(yōu)選地采用滾珠螺桿的形式以實現(xiàn)間 隙填充件776的精確豎直移動。旋轉(zhuǎn)構(gòu)件777用來在上蓋720移動到支撐框架770之后旋轉(zhuǎn)上蓋720 。 在本實施例中，所述一對旋轉(zhuǎn)構(gòu)件777位于水平框架件772的中心，使 得它們可分離地耦連到上蓋720。就是說，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件777位于上蓋720的 相對側(cè)，并且可水平移動以與設(shè)置在上蓋720相對側(cè)壁的耦連器724耦 連。因此，當上蓋720到達旋轉(zhuǎn)位置時，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件777與耦連器724耦
連以將上蓋720旋轉(zhuǎn)180。。優(yōu)選地，每個間隙填充件776可設(shè)置有豎直驅(qū)動單元以保證其豎直 移動。根據(jù)本實施例的支撐框架770優(yōu)選地進一步包括輪778，以方便其移 動。輪778分別安裝在豎直框架件774的下端，以便于減小豎直框架件 774和地板之間的摩擦力，確保豎直框架件774容易水平移動。優(yōu)選地，支撐框架770進一步包括一個或多個固定單元779以將支 撐框架770固定到室體710。固定單元779用來防止支撐框架770在上蓋 720的水平移動和旋轉(zhuǎn)期間移離室體710。在本實施例中，每個固定單元 779都包括一對固定塊779a和一固定銷779b。因此，如果所述一對固定 塊779a彼此精確對準，則固定銷779b通過固定塊779a插入而將支撐框 架770維持在固定位置。以下將說明根據(jù)本實施例的真空加工設(shè)備700的上蓋720的打開/關(guān) 閉過程。首先，如圖40A所示，在同時驅(qū)動多個提升機起重裝置732時將上 蓋720提升lmm到10mm的距離。在上蓋720被提升時，室中的真空得 到釋放。然后，如圖40B所示，上蓋720和起重裝置支撐框架734根據(jù) 水平驅(qū)動裝置740的操作而水平移動。在此情況下，當使用支撐框架770 時，必須將支撐框架770設(shè)置成與導軌742緊密接觸。在水平移動上蓋 720而確保其穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)之后，如圖40C所示，操作旋轉(zhuǎn)構(gòu)件777而將上 蓋720旋轉(zhuǎn)180。。以這種方式，上蓋720得以向上打開以便能維修其中 的設(shè)備。在完成設(shè)備維修之后，以相反的順序執(zhí)行以上所述的上蓋720
的打開過程，從而關(guān)閉上蓋720。 第八實施例參考圖41和42，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的輸送提升機夾具系統(tǒng)包括: 主體810;第一到第三連接環(huán)816、 818和826;螺桿820;移動器822; 動力源830;下板834;軸承836;和固定板838。主體810為具有適當厚度的正方形形狀。主體810具有四個引導 槽812，其沿對角線從中心點到主體810的四個拐角延伸一預定距離；以 及十字形延伸814，其從主體810的中心點向上延伸一預定距離。引導槽812彼此等間距間隔開90。，并且各具有向下漸縮的橫截面。在本實施例中，為降低材料成本，主體810部分地凹陷。該凹陷結(jié) 構(gòu)亦具有加強主體810的總體強度的功能。第二連接環(huán)818分別安裝在 主體810上表面的四個拐角處，以便于在需要傳遞某個重物時，起重裝 置C的線連接于第二連接環(huán)818。利用連接環(huán)818將起重裝置C的線連 接到主體810的拐角具有實現(xiàn)均勻負載分布的作用。第一連接環(huán)816安裝到設(shè)置在主體810中心的延伸814的上表面， 以連接到設(shè)置在無塵室頂部的起重裝置C。螺桿820分別容納在引導槽812中，同時各在與其前端和后端間隔 開預定距離的位置處放入軸承。螺桿820由左、右螺桿組成。左、右螺 桿820兩者具有彼此相同的旋轉(zhuǎn)方向，左、右螺桿820使分別緊固于螺 桿820的移動器822同時向內(nèi)或向外移動，從而使移動器822的位置同 時均勻地變化。 每個移動器822具有對應于引導槽822橫截面的向下漸縮塊形狀。 移動器822被水平地穿得一孔，使得一對螺母824安裝在該孔的相對側(cè)。 螺桿820可旋轉(zhuǎn)地緊固于螺母824。第三連接環(huán)826安裝于移動器822下 表面的中心。動力源830具有中空的豎直筒形狀，并且為臺階形，使得其上端比 其下端窄。U形把手832沿著動力源830的上端沿圓周設(shè)置。動力源830 位于豎直穿通主體810中心的通孔的上端區(qū)域中。動力源830在其下表面形成有螺旋螺紋，并且該螺旋螺紋與形成在 每個螺桿820前端的螺紋接合。以這種配置，如果動力源830在一方向 上旋轉(zhuǎn)，則多個螺桿820通過接合的動力源830的螺旋螺紋和螺桿820 的螺紋而同時旋轉(zhuǎn)。由于左、右螺桿820彼此相對放置，同時地，緊固 于螺桿820的移動器822向內(nèi)或向外移動，而均勻地改變位置。下板834插入到穿通主體810中心的通孔的下端區(qū)域中。為此，下 板834為臺階形，使得其上端比其下端窄。軸承836配合于下板834的 臺階形部分。軸承836用來豎直支撐下板834并且放置成與每個螺桿820 的前端的下表面接觸。具體而言，如果動力源830旋轉(zhuǎn)，則與動力源830接觸的螺桿820 旋轉(zhuǎn)。在此情況下，軸承836與每個螺桿820的下表面接觸，用來方便 螺桿820的旋轉(zhuǎn)。固定板838具有盤形形狀，并且借助于多個螺栓緊固到主體810的 下表面的中心。固定板838用來將固定有軸承的下板834定位在主體810 的中心通孔中，以便允許軸承836的上表面與每個螺桿820前端的下表
面接觸。如以上所述，容納在主體810的引導槽812中的每個移動器822具 有顛倒的梯形形狀并因此具有相對的傾斜表面。因此，即使移動器822 未利用單獨的固定裝置固定于引導部分812，移動器822的移動亦經(jīng)由其 相對的傾斜表面而引導(見圖43)。利用以上所述的配置，如圖41到43所示，本發(fā)明的具有預定尺寸 的輸送提升機夾具系統(tǒng)能夠在連接環(huán)826向內(nèi)或向外移動至對應于上蓋 尺寸的適當位置時傳遞室(未示出)的上蓋(未示出)。在此，為改變連接環(huán)826的位置，首先，在一方向上手動旋轉(zhuǎn)沿著 動力源830的上端沿圓周設(shè)置的把手832以旋轉(zhuǎn)動力源830。如果動力源 830旋轉(zhuǎn)，則動力源830的下表面的螺旋螺紋旋轉(zhuǎn)，從而使與動力源830 的螺紋接合的四個螺桿820同時旋轉(zhuǎn)。由于左螺桿820的螺紋與右螺桿 820的螺紋相反而形成，緊固于左、右螺桿820的移動器822同時向內(nèi)或 向外移動，從而改變位置。這樣，安裝在移動器822下表面的連接環(huán)826 亦改變位置。以這種方式，當需要傳送大面積的上蓋或其它各種板時， 移動器822向外移動而使得能夠容易地耦連上蓋。相反，當需要傳遞小 面積的上蓋或其它各種板時，移動器822向內(nèi)移動而使得能夠容易地耦動力源830的操作由驅(qū)動馬達(未示出)來進行。 如從以上描述顯而易見的，本發(fā)明提供了一種適合于加工大面積基 板的大型真空加工設(shè)備，其具有如下效果。首先，根據(jù)本發(fā)明，上蓋僅需要簡化了的旋轉(zhuǎn)及水平驅(qū)動裝置，并
且室體能夠以此簡化了的結(jié)構(gòu)來豎直移動，由此可容易地實現(xiàn)對上蓋的 打開/關(guān)閉操作。第二，根據(jù)本發(fā)明，上蓋在其水平移動到工藝室之間的未用空間之 后打開。這具有真空加工設(shè)備占地面積的顯著減小的效果。盡管已經(jīng)為了說明的目的而公開了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，本領(lǐng)域的 技術(shù)人員將理解，在所附權(quán)利要求中所公開的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)， 各種修改、添加和替換是可能的。5權(quán)利要求
1.一種加工設(shè)備，其包括室體，其具有用于使基板能夠進行裝載和卸載的閘式閥；以及可分離地設(shè)置在所述室體上的上蓋，所述加工設(shè)備進一步包括室體提升裝置，其安裝在所述室體的下表面，并且適于豎直移動所述室體；以及水平驅(qū)動裝置，其安裝在所述上蓋的外表面，并且適于在將所述上蓋支撐在一預定高度的同時水平移動所述上蓋。
2. 如權(quán)利要求l所述的設(shè)備，其中，在所述室體外設(shè)置一引導構(gòu)件 以引導所述室體的豎直移動。
3. 如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述室體提升裝置包括波紋管筒。
4. 如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述水平驅(qū)動裝置包括-上蓋移動框架，其在比所述閘式閥的驅(qū)動高度高的位置處放置在所述上蓋的外表面周圍，該上蓋移動框架提供上蓋的水平移動路徑；以及 一對水平移動器，每個具有用來與所述上蓋移動框架緊密接觸而在 其上移動的第一端和耦連到所述上蓋的第二端。
5. 如權(quán)利要求4所述的設(shè)備， 其中，所述上蓋移動框架包括-一對第一水平框架件，其位于所述室體的相對側(cè)處，所述室體相對 側(cè)之一設(shè)置有所述的閘式閥，每個第一水平框架件具有形成于其長形上 表面的齒輪；以及多個第一豎直框架件，其耦連到所述第一水平框架件 以支撐所述第一水平框架件，并且 其中，每個所述水平移動器包括驅(qū)動軸，其具有待與所述的第一水平框架件之一的齒輪相接合的驅(qū) 動齒輪；以及安裝在所述上蓋上的驅(qū)動馬達。
全文摘要
在此公開了一種真空加工設(shè)備，用于在其中建立真空環(huán)境之后對基板執(zhí)行所需工藝。更具體而言，所述真空加工設(shè)備包括真空室，該真空室分為室體和上蓋。所述上蓋配置成容易從室體打開以及關(guān)閉到室體。
文檔編號B01J3/00GK101118847SQ20071014729
公開日2008年2月6日 申請日期2006年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月4日
發(fā)明者孫亨圭, 崔浚泳, 李禎彬, 李榮鐘, 金敬勛, 金炯壽, 韓明宇 申請人:愛德牌工程有限公司