專利名稱：濃密機(jī)底流無障礙排放裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種濃密機(jī)底流無障礙排放裝置,屬于礦物加工中的機(jī)械設(shè) 備領(lǐng)域。
二背景技術(shù)：
濃密機(jī)和濃密斗是礦物加工行業(yè)重要設(shè)備之一，主要用于選礦廠的精礦、尾 礦濃密回水，中間物料的濃密、脫泥或分級等。凡涉及到礦漿固液分離和物料粗 細(xì)分級的地方，都要使用濃密機(jī)或濃密斗。礦漿經(jīng)濃密后從下部排放的物料稱為 底流，從上部溢出的物料成為溢流。溢流為開放型排放，經(jīng)溢流槽收集后由溢流 管或溢流槽自流排放， 一般不會堵塞，對生產(chǎn)不會造成影響。濃密機(jī)(斗)底流 要達(dá)到所設(shè)定的濃度，需用閥門控制流量，再從底流管排出。目前生產(chǎn)上廣泛使 用閘閥、球閥、管夾閥等閥門作為底流的控制閥和節(jié)流閥，其最大的特點是閥門 在調(diào)小或關(guān)閉的過程中，閥門的流道或通道呈非圓形斷面變化，當(dāng)閥門選取較大， 而流量控制較小時，閥門流道大部分呈香蕉形或月牙形，此時若底流濃度較高， 或有大顆粒礦石或其他異物需從底流排出，就極容易引起底流閥門通道的堵塞， 若調(diào)大閥門通道，則底流流量迅速變大，底流濃度變稀，達(dá)不到所需要的底流濃 度，影響后續(xù)生產(chǎn)工藝。在實際生產(chǎn)中，經(jīng)常見濃密設(shè)備的底流閥堵塞，工人需 經(jīng)常調(diào)節(jié)閥門通道的大小，閥門的磨損嚴(yán)重，既影響正常生產(chǎn)，還使工人的勞動 強(qiáng)度加大，因此急需一種有效可靠的新型底流排放裝置，解決生產(chǎn)存在的問題。
三、 發(fā)明內(nèi)容
1、 本實用新型的目的在于提供一種濃密機(jī)或濃密斗底流無障礙排放裝置， 通過準(zhǔn)確的計算選取合適規(guī)格的底流閥門，閥門作截止閥使用，全開全閉，在閥 門下部再安裝一個圓形斷面的節(jié)流裝置，控制底流的流量和濃度并達(dá)到恒定狀 態(tài)，從而減少和避免因濃密機(jī)底流管堵塞或濃度不達(dá)標(biāo)造成的停車和對生產(chǎn)的影 響。
2、 本實用新型通過以下的技術(shù)方案來實現(xiàn)。圖1為本實用新型的組成結(jié)構(gòu) 圖,其包括濃密機(jī)底流收集池1，底流排放管2，控制閥3，上螺栓4、上螺母5 上墊片6，節(jié)流管7，下螺栓8、下螺母9和下墊片10。底流排放管2焊接在濃密機(jī)底流收集池1的底部,控制閥3的上部通過上螺栓4、上螺母5和上墊片6連接 在底流排放管的法蘭上，控制閥3的下部通過下螺栓8、下螺母9和下墊片10 與其下端的法蘭及節(jié)流管連接。節(jié)流管7為斷面呈圓形變化的圓錐形管道，其上 端直徑與控制閥3的公稱直徑相同，底流排放管直徑D與閥門公稱直徑Dl的關(guān) 系為01=1.20,節(jié)流管下端直徑D2為公稱直徑Dl的0.6~0.9倍，節(jié)流管下端為 開放式排礦，其長度L為公稱直徑Dl的1.5~2.0倍。 底流閥門規(guī)格型號的選取
應(yīng)根據(jù)濃密機(jī)給礦流量、底流流量、底流濃度和濃密機(jī)設(shè)備的總高度進(jìn)行 底流閥門規(guī)格的計算和選型。由濃密機(jī)底流排放閥門點的動能和位能平衡原理先 計算出底流排放管的礦漿流速V，再由設(shè)備給礦流量和底流的濃度要求計算出底 流的流量Q，根據(jù)底流流量和流速可以準(zhǔn)確地計算出底流排放管的直徑D，選擇 閥門時，考慮20%的流量波動，即閥門公稱直徑應(yīng)大于等于計算的底流排放管 直徑的20%，設(shè)闊門公稱直徑為D1，則D^1.2D。由此選擇的閥門大小與生產(chǎn) 實際需要很接近，又留有一定的余量，閥門全打開時， 一是可以保證底流順暢排 出，二是避免調(diào)節(jié)閥門引起的閥芯磨損問題。 節(jié)流裝置的安裝與更換
由于選取的閥門規(guī)格通常都大于實際控制流量的大小，閥門全打開時，底流 排放流量將大于設(shè)定控制的流量，底流排放的濃度將小于生產(chǎn)實際的要求，因而 需安裝節(jié)流裝置對底流流量進(jìn)行節(jié)流和控制，達(dá)到設(shè)定的底流濃度要求。
節(jié)流管下端直徑D2為公稱直徑Dl的0.6~0.9倍，達(dá)到節(jié)流和控制流量的目 的。節(jié)流管下端為開放式排礦，直接排入到泵池或溜槽，便于進(jìn)行底流濃度和流 量的測試，以及進(jìn)行節(jié)流管的更換。其長度L為公稱直徑D1的1.5~2.0倍。節(jié) 流管可采用直管。
節(jié)流管可以采用合金材料、聚氨酯或耐磨橡膠等材料鑄造或加工，以提高其 耐磨性。
3、與公知技術(shù)相比的優(yōu)點及積極效果 一是可以使底流暢通無阻的排放， 避免底流閥和底流管的堵塞，減少因閥門和管道堵塞造成的停車事故，較好地維 持設(shè)備的正常生產(chǎn)；二是底流閥作為截止閥使用全開全閉，底流閥的閥芯基本不 磨損，可大幅延長閥門的使用壽命；三是可以使?jié)饷軝C(jī)或濃密斗維持穩(wěn)定的濃度和流量，為后續(xù)作業(yè)提供符合要求的原料，更好地發(fā)揮選礦廠的整體效益；四是 節(jié)流裝置選擇合適后，無需工人進(jìn)行其他操作和調(diào)節(jié)，減少工人勞動強(qiáng)度和人為 操作因素對生產(chǎn)的影響。
四、
圖1為本實用新型的組成結(jié)構(gòu)圖,圖中1為濃密機(jī)底流收集池，2 為底流排放管，3為控制閥，4為上螺栓，5為上螺母,6為上墊片，7為節(jié)流管，8 為下螺栓，9為下螺母，IO為下墊片，Dl為控制閥公稱直徑，D2為節(jié)流管下端直 徑。圖2為節(jié)流管7的結(jié)構(gòu)圖,圖中L為節(jié)流管長度。
五具體實施方式
實施例某鈦鐵礦選礦廠，用4^0m中心傳動濃密機(jī)進(jìn)行尾礦濃縮回水，給 礦濃度18%，要求濃縮后底流濃度大于45%。
采用本發(fā)明提供裝置，其包括濃密機(jī)底流收集池l，底流排放管2，控制閥 3，上螺栓4、上螺母5上墊片6，節(jié)流管7,下螺栓8、下螺母9和下墊片10。底 流排放管2焊接在濃密機(jī)底流收集池1的底部，控制閥3的上部通過上螺栓4、上 螺母5和上墊片6連接在底流排放管的法蘭上，控制閥3的下部通過下螺栓8、 下螺母9和下墊片10與其下端的法蘭及節(jié)流管連接。節(jié)流管7為斷面呈圓形變 化的圓錐形管道，根據(jù)設(shè)備流量、濃度要求和設(shè)備高度進(jìn)行底流管道和控制閥公 稱直徑的理論計算，計算出D卜l卯mm，實際選用Dl.-200mm的底流排放管和 控制閥，另配置出口直徑D2分別為180mm、 160mm、 140mm，長度L為300mm 的圓錐形節(jié)流管3.個。實際生產(chǎn)中，控制閥完全打開，先用D2-180rran的節(jié)流 管進(jìn)行調(diào)試，運行正常后，實測底流濃度>42%，且流量和濃度穩(wěn)定，無任何堵 塞發(fā)生。再用D2二160mm的節(jié)流管進(jìn)行調(diào)試，運行達(dá)到平衡后，實測底流濃度 >46%，完全達(dá)到了設(shè)定的底流濃度大于45%的要求，且流量和濃度基本維持 不變，管道和控制閥無任何堵塞現(xiàn)象，達(dá)到了預(yù)期目的和要求。
權(quán)利要求1、一種濃密機(jī)底流無障礙排放裝置，其特征在于其包括濃密機(jī)底流收集池(1)，底流排放管(2)，控制閥(3)，上螺栓(4)，上螺母(5)，上墊片(6)，節(jié)流管(7)，下螺栓(8)，下螺母(9)和下墊片(10)，底流排放管(2)焊接在濃密機(jī)底流收集池(1)的底部，控制閥(3)的上部通過上螺栓(4)、上螺母(5)和上墊片(6)連接在底流排放管的法蘭上，控制閥的下部通過下螺栓(8)、下螺母(9)和下墊片(10)與其下端的法蘭及節(jié)流管(7)連接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的濃密機(jī)底流無障礙排放裝置,其特征在于所述的 節(jié)流管(7)為斷面呈圓形變化的圓錐形管道，其上端直徑與控制閥(3)的公稱 直徑相同。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的濃密機(jī)底流無障礙排放裝置,其特征在于所述節(jié) 流管采用合金材料、聚氨酯或耐磨橡膠材料鑄造或加工。
專利摘要本實用新型涉及一種濃密機(jī)底流無障礙排放裝置，屬于礦物加工中的機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域。其包括濃密機(jī)底流收集池，底流排放管，控制閥等部分。底流排放管焊接在濃密機(jī)底流收集池的底部，控制閥的上部通過上螺栓連接在底流排放管的法蘭上，控制閥的下部通過下螺栓與其下端的法蘭與節(jié)流管連接，在控制閥下端配置排放口直徑小于公稱直徑斷面呈圓形變化的圓錐型節(jié)流管?？卦V閥全開全閉，作截止閥使用，通過更換不同排放口直徑的節(jié)流管來調(diào)節(jié)底流的流量和濃度，有效避免調(diào)節(jié)控制閥引起的管道堵塞和控制閥磨損問題，保證設(shè)備的正常運轉(zhuǎn)。
文檔編號B01D21/24GK201220131SQ20082008092
公開日2009年4月15日 申請日期2008年3月4日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月4日
發(fā)明者楊 劉, 周興龍, 龍澤毅 申請人:昆明理工大學(xué)