專利名稱：純水制造裝置及純水制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種適于編入超純水制造系統(tǒng)等中的純水制造裝置，特別涉及用于制造硼濃度低的純水的純水制造裝置。另外，本發(fā)明涉及一種適于超純水制造系統(tǒng)等的純水 制造方法，特別涉及用于制造硼濃度低的純水的純水制造方法。
背景技術(shù)：
超純水制造系統(tǒng)通常由前處理系統(tǒng)、一次純水系統(tǒng)及子系統(tǒng)構(gòu)成。前處理系統(tǒng)由 利用凝聚過濾、MF膜(微濾膜)、UF膜(超濾膜)等的除濁處理裝置、利用活性炭等的脫氯 處理裝置構(gòu)成。一次純水系統(tǒng)由RO(反滲透膜)裝置、脫氣膜裝置、電脫離子裝置等構(gòu)成，可除去 幾乎所有的離子成分、TOC成分。另外，子系統(tǒng)由UV裝置(紫外線氧化裝置)、非再生型離 子交換裝置、UF裝置(超濾裝置)等構(gòu)成，可進行微量離子的除去、特別是低分子的微量有 機物的除去、微粒的除去。用該子系統(tǒng)所制造的超純水一般被輸水使用地點，剩余的超純水 被返送到子系統(tǒng)的前段的罐中。但是，超純水的水質(zhì)要求逐年嚴格起來，目前，在最前沿的電子產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域已要求硼 濃度IOppt以下的超純水。該硼在超純水中大部分是作為硼酸離子存在的，但因為這種硼 酸離子是弱離子，所以難以除去。于是，為了制造硼濃度低的純水，已提出使RO裝置的給水 達到PHlO以上來提高RO裝置中的硼除去率的方案(參照專利文獻1)。另外，已提出使前處理后的處理水與硼選擇性離子交換樹脂接觸(參照專利文獻 2)的方案；用RO裝置等的脫鹽裝置將原水脫鹽后、通水到硼吸附樹脂塔的方案(參照專利 文獻3)。進而，已提出使將原水通水到前處理裝置、2段RO裝置、電再生式脫鹽裝置等的處 理水與硼選擇性離子交換樹脂接觸的超純水制造裝置的方案(參照專利文獻4)。專利文獻1 特許第3321179號公報專利文獻2 特許第3200301號公報專利文獻3 特開平8-89956號公報專利文獻4 特開平9-192661號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題在專利文獻1所記載的純水制造方法中，存在這樣的問題點為了將RO裝置的給 水調(diào)節(jié)到PHlO以上而需要使用堿或設(shè)置陰離子交換樹脂塔，不僅遭受藥品成本或裝置的 負荷，而且不能連續(xù)運轉(zhuǎn)。另外，專利文獻2 4所記載的純水制造方法，是通過使處理水在硼選擇性離子 交換樹脂、硼吸附樹脂中流通來除去硼的方法，但存在這樣的問題點如果被處理水的硼濃 度高，則在短時間內(nèi)穿過這些硼吸附樹脂等，另一方面如果被處理水的硼濃度為例如IOppb以下左右的低濃度，則除去率下降。進而，還存在這樣的問題點由于TOC可能從硼吸附樹 脂中溶出，因此需要硼吸附樹脂的清洗、調(diào)整。進而，可考慮通過電脫離子裝置將作為陰離子的硼酸離子同時予以除去，但由于硼酸離子是弱離子，所以，即使提高電脫離子裝置的電流密度進行運轉(zhuǎn)也難以使除去率達 到90%以上。另外，即使組合RO裝置也不能使硼除去率達到98%以上。即，盡管近年來超純水的水質(zhì)要求逐年嚴格起來，要求硼濃度IOOppt以下、在最 前沿的電子產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域要求硼濃度IOppt以下、有時要求Ippt以下的水質(zhì)，但沒有能夠用簡 單的結(jié)構(gòu)而達到該要求的純水制造裝置。為了在電脫離子裝置中達到該要求，至少需要使 電脫離子裝置中的硼除去率為99%以上、特別為99. 5%以上。本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，目的在于提供一種能夠有效地制造硼濃度低的 純水制造裝置。另外，本發(fā)明的目的在于提供一種能夠有效地制造硼濃度低的純水制造方法。用于解決課題的手段為了解決上述課題，第一，本發(fā)明提供一種純水制造裝置，其具有前處理裝置、和 將所述前處理裝置的處理水收進脫鹽室進行脫離子處理的電脫離子裝置，其特征為，所述 前處理裝置使導入到所述電脫離子裝置的脫鹽室的處理水的氯化物離子濃度為IOOppb以 下(發(fā)明1)。根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明1)，氯化物離子與硼相比其除去容易，僅僅通過使導入到電 脫離子裝置中的處理水的氯化物離子濃度為IOOppb以下，可以將電脫離子裝置中的硼的 除去率大幅提高為99%以上。在上述發(fā)明(發(fā)明1)中，優(yōu)選所述前處理裝置具備1或2以上的RO膜裝置，使導 入到所述電脫離子裝置的脫鹽室中的處理水的碳酸濃度為Ippm以下(發(fā)明2)；在該發(fā)明 (發(fā)明2)中，優(yōu)選所述前處理裝置還具備1或者2以上的離子交換樹脂塔(發(fā)明3)；在該 發(fā)明(發(fā)明3)中，優(yōu)選所述前處理裝置還具備脫碳酸膜裝置、脫碳酸塔或真空脫氣塔(發(fā) 明4)。根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明2 4)，可以進一步降低被導入到電脫離子裝置的脫鹽室的 處理水的氯化物濃度及碳酸離子濃度，可以使電脫離子裝置中的硼的除去率進一步提高。在上述發(fā)明中(發(fā)明1 4)，優(yōu)選將所述電脫離子裝置的脫鹽水的一部分從與向 所述脫鹽室導入處理水的方向相反的方向?qū)氲剿鲭娒撾x子裝置的濃縮室(發(fā)明5)。根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明5)，因為通過使水質(zhì)良好的脫鹽室的排出水(脫鹽水)從脫 鹽室的出口側(cè)向入口側(cè)的方向流進脫鹽室，可緩和脫鹽室和濃縮室之間的硼的濃度梯度， 因此可以使用電脫離子裝置的硼的除去率進一步提高。在上述發(fā)明(發(fā)明1 5)中，優(yōu)選所述電脫離子裝置多段串聯(lián)地設(shè)置(發(fā)明6)。 根據(jù)該(發(fā)明6)，因為可以使硼的除去率提高到99. 99%，因此硼離子濃度為Ippt以下的 超純水的供給也成為可能。第二，本發(fā)明提供一種純水制造方法，其是用前處理裝置對原水進行處理，將該處 理水導入到電脫離子裝置的脫鹽室中進行脫離子處理，其特征為，將用所述前處理裝置使 氯化物離子濃度為IOOppb以下的處理水導入到所述電脫離子裝置的脫鹽室(發(fā)明7)。根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明7)，氯化物離子與硼相比其除去容易，僅僅通過使導入到電脫離子裝置的處理水的氯化物離子濃度為IOOppb以下，可以使電脫離子裝置中的硼的除 去率大幅提高為99%以上。在上述發(fā)明(發(fā)明7)中，優(yōu)選將所述電脫離子裝置的脫鹽水的一部分從與向所述 脫鹽室導入處理水的方向相反的方向?qū)氲剿鲭娒撾x子裝置的濃縮室(發(fā)明8)。根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明8)，因為通過使水質(zhì)良好的脫鹽室的排出水( 脫鹽水)從 脫鹽室的出口側(cè)向入口側(cè)的方向流進濃縮室中，可緩和脫鹽室和濃縮室之間的硼的濃度梯 度，因此可以使電脫離子裝置中的硼除去率進一步提高。在上述發(fā)明中(發(fā)明7，8)，優(yōu)選所述電脫離子裝置多段串聯(lián)地設(shè)置(發(fā)明9)。根 據(jù)該發(fā)明(發(fā)明9)，因為可以將硼的除去率提高到99. 99%，因此硼離子濃度為Ippt以下 的超純水的提供也成為可能。在上述發(fā)明(發(fā)明9)中，優(yōu)選將所述多段的電脫離子裝置中最后段的電脫離子裝 置的濃縮水與所述處理水一起導入到第1段的電脫離子裝置的脫鹽室(發(fā)明10)。根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明10)，因為最后的電脫離子裝置的濃縮水與用前處理裝置處 理后的處理水相比不僅硼濃度低，而且氯化物離子濃度也非常低，因此通過將其導入到第1 段的電脫離子裝置的脫鹽室，裝置的基本構(gòu)成原樣可以進一步改善直接來自第1段的電脫 離子裝置的脫鹽室的處理水的硼濃度。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明的純水制造裝置，氯化物離子與硼相比其除去容易，僅僅通過使導入 到電脫離子裝置的處理水的氯化物離子濃度為IOOppb以下，可以將電脫離子裝置中的硼 的除去率大幅提高為99%以上。根據(jù)本發(fā)明，因為通過電脫離子裝置可大幅除去硼，因此不 僅可連續(xù)運轉(zhuǎn)，而且因為不使用堿等的藥品因此環(huán)境負荷小，可應(yīng)對給水(原水)的硼濃度 的廣范圍。另外，與硼吸附樹脂等相比因為不發(fā)生穿過，因此可數(shù)年時間穩(wěn)定地供給硼濃度 低的純水。而且，通過多段串聯(lián)地設(shè)置電脫離子裝置，使硼離子濃度為Ippt以下的超純水 進行供給成為可能。


圖1是表示本發(fā)明的第一實施方式涉及的純水制造裝置的流程圖；圖2是表示所述實施方式的電脫離子裝置的脫鹽室及濃縮室的概略構(gòu)成圖；圖3是表示本發(fā)明的第二實施方式涉及的純水制造裝置的流程圖；圖4是表示比較例1的純水制造裝置的流程圖。符號說明5...前處理裝置6...電脫離子裝置6A...第1電脫離子裝置6B. · ·第2電脫離子裝置8. · ·第1反滲透膜(RO)裝置(前處理裝置)9. · ·第2反滲透膜(RO)裝置(前處理裝置)10. ·.脫碳酸膜裝置(前處理裝置)11···脫鹽室
12...濃縮室W3...濃縮水Τ··.處理水罐
具體實施例方式〔第一實施方式〕下面，對本發(fā)明的純水制造裝置的第一實施方式基于附圖詳細進行說明。圖1是表示本實施方式涉及的純水制造裝置的流程圖，圖2是表示本實施方式中的電脫離子裝置的概略構(gòu)成圖。如圖1所示，超純水制造裝置由活性炭裝置1、加熱器2、膜式過濾裝置3、原水罐 4、前處理裝置5、電脫離子裝置6和一次純水的輔助罐(subtank) 7構(gòu)成。而且，在本實施方 式中，前處理裝置5由第1反滲透膜(RO)裝置8、第2反滲透膜(RO)裝置9和脫碳酸膜裝 置10構(gòu)成。該前處理裝置5設(shè)計為根據(jù)原水WO的水質(zhì)，氯化物離子濃度IOOppb以下的處 理水Wl被導入到電脫離子裝置6的脫鹽室。在如上的超純水制造裝置中，電脫離子裝置6的構(gòu)成為如圖2所示具備脫鹽室 11和濃縮室12，在脫鹽室11上連接有前處理裝置5的處理水Wl的管路Rl，而脫鹽室11的 出口側(cè)成為脫鹽水W2的管路R2。分支管路R3從該管路R2分支，將脫鹽室11的脫鹽水W2 的一部分從脫鹽室11的出口側(cè)向入口側(cè)的方向?qū)氲綕饪s室12，即從與脫鹽室11的處理 水Wl的流通方向相反的方向?qū)氲綕饪s室12而將濃縮水W3放出。對具有這種構(gòu)成的超純水制造裝置，說明其作用。首先，對原水WO在活性炭裝置1中除去有機物后，在加熱器2中加溫到規(guī)定的溫 度后，用膜式過濾裝置3除去固體微粒，暫時貯存在原水罐4中。接著，對該原水WO用前處 理裝置5進行處理。在該前處理裝置5中，通過第1反滲透膜(RO)裝置8和第2反滲透膜(RO)裝置 9除去強離子性的雜質(zhì)，進而，通過脫碳酸膜裝置10除去碳酸離子(CO2)。該前處理裝置5設(shè)計為使得處理水Wl中的氯化物離子濃度為IOOppb以下、優(yōu)選 為50ppb以下、特別優(yōu)選為30ppb以下。如果處理水Wl中的氯化物離子濃度超過lOOppb， 則不能使后續(xù)的用電脫離子裝置6的硼的除去率達到99%以上。另外，處理水Wl中的CO2的濃度優(yōu)選設(shè)定為Ippm以下。如果處理水Wl中的CO2 的濃度超過lppm，則有可能硼的除去率小于99%，有時甚至降低到小于90%。而后，用電脫離子裝置6處理這樣的處理水Wl。在該電脫離子裝置6中，優(yōu)選以電 流密度300mA/dm2以上進行運轉(zhuǎn)。通過以這樣的電流密度進行運轉(zhuǎn)，雖然取決于電脫離子 裝置的性能，也可以形成用現(xiàn)有的電脫離子裝置不能達到的99%以上、特別是99. 5%以上 的硼除去率。這樣，根據(jù)本實施方式涉及的純水制造裝置，如果處理水Wl的硼濃度為IOppb以 下，可以可靠地得到硼濃度IOOppt以下的脫鹽水W2。另外，如果本實施方式涉及的純水制 造裝置的硼除去率為99. 5%、處理水Wl的硼濃度為20ppb，進而，如果硼除去率為99. 8%以 上、處理水Wl的硼濃度為50ppb，可以得到硼濃度IOOppt以下的脫鹽水W2。而且，因為通 過電脫離子裝置6可充分除去硼，因此不僅可連續(xù)運轉(zhuǎn)，而且因為不使用堿等藥品所以環(huán)境負荷小。而且，可對應(yīng)給水(原水)的硼濃度的廣范圍，另外，與硼吸附樹脂等相比因為 不發(fā)生穿過，因此可數(shù)年時間穩(wěn)定地供給硼濃度低的純水?！驳诙嵤┓绞健称浯?，對本發(fā)明的純水制造裝置的第二實施方式基于圖3進行說明。圖3是表示第二實施方式涉及的純水制造裝置的流程圖。就第二實施方式涉及的純水制造裝置而言，在所述的第一實施方式中，將電脫離 子裝置2段串聯(lián)配置為第1電脫離子裝置6A及第2電脫離子裝置6B，將第2電脫離子裝置 6B的濃縮水W3返送到設(shè)置于第1電脫離子裝置6A的前段的處理水罐T，除此之外，具有同 樣的構(gòu)成。對具有這種構(gòu)成的超純水制造裝置說明其作用。首先，對于原水WO用活性炭裝置1進行有機物的除去處理后，用加熱器2加溫到 規(guī)定的溫度，然后用膜式過濾裝置3除去固體微粒，暫時貯存在原水罐4中。然后，對于該 原水WO用前處理裝置5進行處理。在該前處理裝置5中，通過第1反滲透膜(RO)裝置8和第2反滲透膜(RO)裝置 9除去強離子性的雜質(zhì)，進而，通過脫碳酸膜裝置10除去碳酸離子(CO2)。該前處理裝置5涉及為使得處理水Wl中的氯化物離子濃度為IOOppb以下、優(yōu)選 為50ppb以下、特別優(yōu)選為30ppb以下。如果處理水Wl中的氯化物離子濃度超過lOOppb， 則不能使后續(xù)的用電脫離子裝置6A的硼的除去率達到99%以上。然后，將這種處理水Wl用第1電脫離子裝置6A及第2電脫離子裝置6B連續(xù)進行 處理，同時將濃縮水W3返送到設(shè)置于第1電脫離子裝置6A的前段的處理水罐T中。優(yōu)選使該電脫離子裝置6A、6B以電流密度300mA/dm2以上進行運轉(zhuǎn)。因為如果電 流密度不足300mA/dm2，硼除去率不足99%，因此不優(yōu)選。具體而言，在第1電脫離子裝置 6A中除去99%以上的硼，在第2電脫離子裝置6B中進一步除去99%以上的硼。特別地，在本實施方式中，將第2電脫離子裝置6B的濃縮水W3返送到設(shè)置于第1 電脫離子裝置6A的前段的處理水罐T中，該濃縮水W3與處理水Wl相比硼濃度低，因此隨 著時間在處理水罐T中，與處理水Wl相比氯化物離子濃度及硼濃度也進一步下降，因此得 到硼濃度Ippt以下的超純水也成為可能。以上，對本實施方式涉及的純水制造系統(tǒng)基于附圖進行了說明，但本發(fā)明并不限 定于上述實施方式，可以進行各種的變更實施。例如，前處理裝置5可以將氯化物離子濃度IOOppb以下的處理水Wl供給電脫離 子裝置6，且為了能夠得到所希望的硼濃度的純水，可以根據(jù)原水WO的水質(zhì)進行各種設(shè)定。具體而言，可以將前處理裝置5設(shè)定為(1) RO裝置+脫碳酸膜裝置(2)第IRO裝置+第2R0裝置+脫碳酸膜裝置(3)離子交換樹脂裝置(2B3T) +RO裝置+脫碳酸膜裝置(4)離子交換樹脂裝置(4B5T) +RO裝置+脫碳酸膜裝置等。另外，電脫離子裝置6既可以是1段、也可以串聯(lián)設(shè)置2段或3段以上，在設(shè)置3 段以上的情況下，只要使最終段的電脫離子裝置6的濃縮水W3與第1段的電脫離子裝置的 處理水Wl合流即可。
進而，作為電脫離子裝置6并沒有特別限制，可以合適地使用在脫鹽室11設(shè)置有垂直側(cè)面不透過水而斜面透過水的六角形構(gòu)件的電脫離子裝置。
實施例以下，舉出實施例及比較例更具體地說明本發(fā)明。需要說明的是，在本實施例及比較例中，使用下述的試驗裝置?！る娒撾x子裝置(栗田工業(yè)社制，制品名K⑶I-UPZ-150H，處理水量150m3/hr)·反滲透膜裝置(日東電工社制，制品名ES_20)·脫碳酸膜裝置(〗J #七斤社制，制品名X-50)〔實施例1〕如圖1及圖2所示，由第1反滲透膜(RO)裝置8、第2反滲透膜(RO)裝置9和脫 碳酸膜裝置10構(gòu)成前處理裝置5，將電脫離子裝置6配置為1段，制成純水制造裝置。通過該純水制造裝置，對硼濃度為25ppb、氯化物離子濃度為1 IOOOppb、CO2濃度為 Sppm的原水WO進行處理，結(jié)果前處理裝置5的處理水Wl的硼濃度為25ppb、氯化物離子濃 度為IOppb、CO2濃度為Ippm以下。而后，用電脫離子裝置6對該處理水Wl進行處理，結(jié)果得到硼濃度為50ppt、氯化 物離子濃度為0.5ppb以下、CO2濃度為0. Olppm以下的脫鹽水W2。此時，用電脫離子裝置 6的硼除去率為99.8%?！脖容^例1〕如圖4所示，在實施例1中，將反滲透膜(RO)裝置設(shè)定為1段構(gòu)成，除此之外用同 樣的裝置構(gòu)成制成純水制造裝置。通過該純水制造裝置，與實施例1相同對原水WO進行處理，結(jié)果前處理裝置5的 處理水Wl的硼濃度為25ppb、氯化物離子濃度為150ppb、CO2濃度為Ippm以下。而后，用電脫離子裝置6對該處理水Wl進行處理，結(jié)果得到硼濃度為500ppt、氯化 物離子濃度為0.5ppb以下、CO2濃度為0. Olppm以下的脫鹽水W2。此時，用電脫離子裝置 6的硼除去率為98%?！脖容^例2〕在實施例1中，在處理水Wl中添加氯化鈉使前處理裝置5的處理水Wl的氯化物 離子濃度為150ppb，除此之外同樣地操作進行處理，結(jié)果得到硼濃度為400ppt、氯化物離 子濃度為0. 5ppb以下、CO2濃度為0. Olppm以下的脫鹽水W2。用電脫離子裝置6的硼除去 率為98. 4%?！矊嵤├?〕如圖3所示，通過第1反滲透膜(RO)裝置8、第2反滲透膜(RO)裝置9和脫碳酸 膜裝置10構(gòu)成前處理裝置5，以6A、6B的2段將電脫離子裝置串聯(lián)配置，形成將第2電脫離 子裝置6B的濃縮水W3返送到設(shè)置于第1電脫離子裝置6A的前段的處理水罐T的構(gòu)成，制 成純水制造裝置。通過該純水制造裝置，對硼濃度為25ppb、氯化物離子濃度為1 IOOOppb、CO2濃度為 Sppm的原水WO進行處理，結(jié)果前處理裝置5的處理水Wl的硼濃度為25ppb、氯化物離子濃 度為30ppb、CO2濃度為Ippm以下。
而后，對該處理水Wl用電脫離子裝置6A、6B進行連續(xù)處理，結(jié)果，經(jīng)過15小時后， 處理水罐T的處理水的硼濃度為20ppb、氯化物離子濃度為24ppb、CO2濃度為0. 6ppm，第1 段的電脫離子裝置6A的脫鹽水的硼濃度為40ppt、氯化物離子濃度為0. 5ppb以下、CO2濃 度為0. Olppm以下，電脫離子裝置6A中的硼除去率為99. 8%。進而，第2段的電脫離子裝 置6B的脫鹽水的硼濃度為0. 4ppt、氯化物離子濃度為0. 5ppb以下、CO2濃度為0. Olppm以 下，用電脫離子裝置6B的硼除去率為99%?！脖容^例3〕在實施例2中，在處理水罐T中添加氯化鈉使電脫離子裝置6的處理水Wl的氯化物離子濃度為150ppb，除此之外同樣地操作進行處理，結(jié)果第1電脫離子裝置6A的脫鹽水 的硼濃度為400ppt、氯化物離子濃度為0. 5ppb以下、CO2濃度為0. Olppm以下，用第1電脫 離子裝置6A的硼除去率為98%。另外，第2電脫離子裝置6B的脫鹽水的硼濃度為2ppt、 氯化物離子濃度為0. 5ppb以下、CO2濃度為0. Olppm以下，用第2電脫離子裝置6B的硼除 去率為99. 5%。
權(quán)利要求
一種純水制造裝置，其具有前處理裝置、和將所述前處理裝置的處理水收進脫鹽室中進行脫離子處理的電脫離子裝置，其特征在于，所述前處理裝置使導入到所述電脫離子裝置的脫鹽室的處理水的氯化物離子濃度為100ppb以下。
2.如權(quán)利要求1所述的純水制造裝置，其特征在于，所述前處理裝置具備1或2以上的 R0膜裝置，使導入到所述電脫離子裝置的脫鹽室的處理水的碳酸濃度為lppm以下。
3.如權(quán)利要求2所述的純水制造裝置，其特征在于，所述前處理裝置還具備1或2以上 的離子交換樹脂塔。
4.如權(quán)利要求3所述的純水制造裝置，其特征在于，所述前處理裝置還具備脫碳酸膜 裝置、脫碳酸塔或真空脫氣塔。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的純水制造裝置，其特征在于，將所述電脫離子裝置 的脫鹽水的一部分從與向所述脫鹽室導入處理水的方向相反的方向?qū)氲剿鲭娒撾x子 裝置的濃縮室。
6.如權(quán)利要求1 5中任一項所述的純水制造裝置，其特征在于，所述電脫離子裝置多 段串聯(lián)地設(shè)置。
7.一種純水的制造方法，其用前處理裝置處理原水，將該處理水導入到電脫離子裝置 的脫鹽室進行脫離子處理，其特征在于，將用所述前處理裝置使氯化物離子濃度為lOOppb以下的處理水導入到所述電脫離子 裝置的脫鹽室。
8.如權(quán)利要求7所述的純水的制造方法，其特征在于，將所述電脫離子裝置的脫鹽水 的一部分從與向所述脫鹽室導入處理水的方向相反的方向?qū)氲剿鲭娒撾x子裝置的濃縮室。
9.如權(quán)利要求7或8所述的純水的制造方法，其特征在于，所述電脫離子裝置多段串聯(lián) 地設(shè)置。
10.如權(quán)利要求9所述的純水的制造方法，其特征在于，將所述多段的電脫離子裝置中 最后段的電脫離子裝置的濃縮水與所述處理水一起導入到第1段的電脫離子裝置的脫鹽室。
全文摘要
本發(fā)明提供一種純水制造裝置及純水制造方法。為了有效地制造硼濃度低的純水，超純水制造裝置由活性炭裝置(1)、加熱器(2)、膜式過濾裝置(3)、原水罐(4)、前處理裝置(5)、電脫離子裝置(6)和一次純水的輔助罐(7)構(gòu)成，前處理裝置(5)由第1反滲透膜(RO)裝置(8)、第2反滲透膜(RO)裝置(9)和脫碳酸膜裝置(10)構(gòu)成，該前處理裝置(5)設(shè)計為根據(jù)原水(W0)的水質(zhì)，可將氯化物離子濃度100ppb以下的處理水(W1)導入到電脫離子裝置(6)的脫鹽室。
文檔編號B01D61/58GK101827792SQ200880101060
公開日2010年9月8日 申請日期2008年7月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月30日
發(fā)明者巖崎邦博 申請人:栗田工業(yè)株式會社