專利名稱:一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種高剪切反應(yīng)器,特別是涉及一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)
O
背景技術(shù):
液-液混合是重要的化工過程,其效果對(duì)于快速液_液反應(yīng)體系尤為重要。譬如, 在利用液_液兩相沉淀反應(yīng)制備超細(xì)粉體過程中,液_液混合的效果直接影響顆粒的粒徑 及其分布;液相反應(yīng)體系中進(jìn)行復(fù)雜的快速平行競(jìng)爭反應(yīng)或者連串競(jìng)爭反應(yīng)時(shí),液-液快 速混合的效果極大的影響目標(biāo)產(chǎn)品的收率和質(zhì)量,并可能對(duì)整個(gè)生產(chǎn)過程的設(shè)計(jì)、優(yōu)化和 操作帶來影響。高剪切反應(yīng)器(High Shear Reactor),又稱定子-轉(zhuǎn)子反應(yīng)器,是一種新型過程 強(qiáng)化設(shè)備;其通過轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度在轉(zhuǎn)子與定子間的狹窄間隙中形成 極大的速度梯度,以及由于高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定子-轉(zhuǎn)子的間隙中 受到強(qiáng)烈的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、 液相、氣相瞬間均勻精細(xì)地分散均質(zhì);是繼旋轉(zhuǎn)床之后的又一種應(yīng)用超重力環(huán)境實(shí)現(xiàn)強(qiáng)化 傳質(zhì)及微觀混合目的的技術(shù)及設(shè)備。高剪切反應(yīng)器可以用于氣-液、氣-液-固、液-液 或液-液-固等多相體系的傳質(zhì)與反應(yīng)過程的強(qiáng)化。這種混合(反應(yīng))器的典型特征包 括轉(zhuǎn)子-定子間隙狹窄,100 3000 μ m ;轉(zhuǎn)子末端線速度高,10 50m/s ;間隙中的剪 切速率高,20,000 100,000s—1。文獻(xiàn)報(bào)道了諸多這種轉(zhuǎn)子-定子混合器和混合系統(tǒng),包 括間歇型(batch)和在線型(in-line);徑向出料型(radial-discharge)和軸向出料型 (axial-discharge)等。聚氨酯材料具有改性方便、易加工成型、施工簡便等特性,極其廣泛地應(yīng)用于各種 絕熱、防震、隔音、墊材、包裝和輕度結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。異氰酸酯是聚氨酯工業(yè)的重要單體原料, 由伯胺光氣化法反應(yīng)制備異氰酸酯的方法在專利中被多次報(bào)道,并已經(jīng)在工業(yè)上大規(guī)模進(jìn) 行。已知有機(jī)伯胺與光氣反應(yīng)分兩個(gè)階段進(jìn)行。第一光氣化段稱為冷光氣化,進(jìn)行的 反應(yīng)包括有機(jī)伯胺與光氣反應(yīng)形成對(duì)應(yīng)的氨基甲酰氯和氯化氫,有機(jī)伯胺與氯化氫結(jié)合成 胺的鹽酸鹽;第二光氣化段稱為熱光氣化,進(jìn)行的反應(yīng)包括氨基甲酰氯分解形成對(duì)應(yīng)的有 機(jī)異氰酸酯和氯化氫,胺鹽酸鹽光氣化形成氨基甲酰氯。有機(jī)伯胺與光氣反應(yīng)生成氨基甲酰氯是一個(gè)快速強(qiáng)放熱反應(yīng),反應(yīng)過程好壞極大 程度上取決于混合效果。反應(yīng)物料要快速混合均勻,防止有機(jī)胺局部過剩發(fā)生副反應(yīng)。同 時(shí),反應(yīng)產(chǎn)生的氨基甲酰氯和胺的鹽酸鹽會(huì)以固體形式析出,可能堵塞反應(yīng)器。氨基甲酰氯 以及有機(jī)異氰酸酯會(huì)和有機(jī)胺反應(yīng)生成脲,造成產(chǎn)品異氰酸酯收率降低。為了使副產(chǎn)物和固體形成降至最低,一般將有機(jī)伯胺和過量的光氣各自溶解于惰 性有機(jī)溶劑中,在混合設(shè)備中進(jìn)行快速混合。混合設(shè)備基本可分為動(dòng)態(tài)混合器和靜態(tài)混合 器。已知的混合設(shè)備尤其包括噴嘴,如環(huán)隙噴嘴(DE 1792660)、環(huán)孔噴嘴(DE 3744001)、文丘里混合噴嘴(DE-B 1175666)等。CN 2444949報(bào)道了 一種用于液相制備甲苯二異氰酸酯的噴射反應(yīng)器。噴射反應(yīng)器 由連接有進(jìn)料口的噴射器主體、連接有進(jìn)料口的撞針及其下部的調(diào)控結(jié)構(gòu)組成。撞針插入 到噴射器主體下部的空心圓柱內(nèi),撞針的圓錐部的外側(cè)壁與噴射器主體的內(nèi)側(cè)壁及其上凸 起形成原料室及環(huán)繞通道。噴射反應(yīng)器用來主要完成冷光氣化段反應(yīng),原料無需加熱,放熱 使反應(yīng)溫度升高;熱光氣化段反應(yīng)在塔式反應(yīng)器中加熱完成。但是,由于反應(yīng)器中存在有移 動(dòng)部件,存在光氣泄漏的危險(xiǎn)。在拜爾公司的專利CN 1034536A中,光氣溶液和有機(jī)胺溶液在噴嘴中混合?;旌?的方法是將某一反應(yīng)組分的軸向流通過噴嘴中的縮頸;而通過在噴嘴中縮頸的圓周上分布 兩個(gè)或更多的橫向孔將另外的反應(yīng)組分以橫向流注入軸向流中。由于反應(yīng)器不再使用移動(dòng) 部件,避免了由于光氣毒性而產(chǎn)生的危險(xiǎn)。不過,為了獲得良好的混合效果,橫向孔的直徑 很小,需要足夠大的進(jìn)料壓力以確保小孔在操作中不會(huì)頻繁被堵塞;而且,為了改善物料間 的混合效果,需要將反應(yīng)物的濃度大大降低,需要較大的能耗來回收溶劑。已知的方法采用高度稀釋的反應(yīng)物,并且控制光氣很高的過量率,以減少副反應(yīng) 的發(fā)生。高過量率的光氣一方面會(huì)帶來操作上的危險(xiǎn),另一方面增加光氣回收系統(tǒng)的處理 量;而采用大量溶劑稀釋反應(yīng)物會(huì)給溶劑回收系統(tǒng)增加很大的能耗。并且,現(xiàn)有噴射反應(yīng) 器一些不合理的設(shè)計(jì),在反應(yīng)器內(nèi)部存在死區(qū)和移動(dòng)部件,會(huì)增加光氣泄漏和固體物堵塞 的危險(xiǎn),影響反應(yīng)器操作的穩(wěn)定性和安全性。另外值得注意的是,一些噴射反應(yīng)器復(fù)雜的設(shè) 計(jì)、制造、使用和控制,增大了產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。高剪切反應(yīng)器作為一種動(dòng)態(tài)混合與反應(yīng)設(shè)備,能使處理流體中的粒子達(dá)到平均粒 徑為0. 1 25微米,能用于乳化過程,并在化妝品、制醬、硅膠/銀混合物以及屋頂焦油的 混合中被需求,如中國專利CN 200420079012. X提出一種用于水煤漿強(qiáng)化處理的高剪切強(qiáng) 化泵。對(duì)于制備有機(jī)異氰酸酯這樣伴有固體中間產(chǎn)物或副產(chǎn)物的反應(yīng)體系,高剪切反應(yīng)器 能通過剪切、擠壓、摩擦和撞擊等復(fù)雜作用,使得反應(yīng)粗產(chǎn)物中固體物粒徑細(xì)小、均一,反應(yīng) 物料具有良好的流動(dòng)性。Bayer公司的專利US 4851571報(bào)道了一種用于制備有機(jī)異氰酸酯的這種高剪切 反應(yīng)器。反應(yīng)器包括外殼和內(nèi)部高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子,在外殼以及轉(zhuǎn)子上固定有一定數(shù)量的翅 片,外殼的翅片與內(nèi)部轉(zhuǎn)子上的翅片之間形成曲折、狹窄的流體通道,兩股原料經(jīng)進(jìn)料口進(jìn) 入該曲折通道,在轉(zhuǎn)子的高速旋轉(zhuǎn)下實(shí)現(xiàn)兩股流體的快速混合。專利WO 2009/002900A2提出一種制備甲苯二異氰酸酯的高剪切反應(yīng)系統(tǒng)和使用 該反應(yīng)系統(tǒng)制備甲苯二異氰酸酯的工藝過程。典型的反應(yīng)裝置包括圓錐或圓盤狀的轉(zhuǎn)子和 外殼,通過嚴(yán)格控制的轉(zhuǎn)子_定子間隙相互咬合,轉(zhuǎn)子-定子的間隙可以是固定的,也可以 是可調(diào)的。一般地,最小的間隙通常在0. 0254 3. 175mm,更大的可以達(dá)到10. 16mm。使用 帶有三級(jí)轉(zhuǎn)子-定子結(jié)構(gòu)的這種動(dòng)態(tài)混合器制備有機(jī)異氰酸酯過程中,轉(zhuǎn)子葉片的末端速 度能達(dá)到至少22. 9m/s,甚至超過40m/s,在巨大的剪切力作用下,反應(yīng)原料中的氣態(tài)光氣 能被分散成直徑小于1微米的氣泡,實(shí)現(xiàn)物料的快速混合。將氣相光氣分散在甲苯二胺液 體中,在高速剪切作用下,光氣氣泡的平均直徑能達(dá)到小于1微米。該專利提出的制備甲苯 二異氰酸酯的反應(yīng)系統(tǒng)包括至少一個(gè)高剪切混合裝置,用于在甲苯二胺液體中分散光氣氣 體;一個(gè)泵,用來輸送甲苯二胺液體流股進(jìn)入高剪切混合裝置;一個(gè)光氣化反應(yīng)停留設(shè)備,用于接收高剪切裝置之后的反應(yīng)粗產(chǎn)物,并保持其在預(yù)設(shè)的溫度和壓力下。但是,在利用高剪切反應(yīng)器制備有機(jī)異氰酸酯的上述技術(shù)中,原料有機(jī)伯胺溶液 與光氣溶液在進(jìn)入反應(yīng)器的轉(zhuǎn)子-定子間隙之前已接觸并快速反應(yīng),生成的中間體氨基甲 酰氯和副產(chǎn)物胺的鹽酸鹽為固體,容易堵塞反應(yīng)器。為減小固體顆粒的粒徑,同時(shí)也為改善 原料的預(yù)混合,可以額外為高剪切裝置噴射進(jìn)料;但帶來的另一個(gè)問題是,高速射流對(duì)轉(zhuǎn)子 和定子有磨損,導(dǎo)致對(duì)設(shè)備材質(zhì)的要求提高,而且反應(yīng)器在操作時(shí)壓降偏大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切 反應(yīng)器,在實(shí)現(xiàn)物料均勻混合的前提下,能顯著降低反應(yīng)器的壓降,避免射流對(duì)轉(zhuǎn)子和定子 的磨損,對(duì)于有固體生成的快速反應(yīng)體系,能顯著降低反應(yīng)器堵塞的危險(xiǎn),尤其適用于有機(jī) 異氰酸酯的制備過程。本發(fā)明的技術(shù)方案概述如下一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼,在所述反應(yīng)器外殼的 頂壁上設(shè)置有第一進(jìn)料管,在所述反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座,定子齒圈設(shè)置 在所述反應(yīng)器外殼頂壁的下表面和所述定子基座的下表面,沿所述反應(yīng)器外殼的中心線設(shè) 置有主傳動(dòng)軸,轉(zhuǎn)子基座設(shè)置在所述主傳動(dòng)軸上,所述轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈, 所述定子齒圈與所述轉(zhuǎn)子齒圈相互咬合,在所述反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口,連接有 第二進(jìn)料管的進(jìn)料分布裝置的周邊與第一級(jí)定子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈的內(nèi)表面固定連接,所 述第二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在所述反應(yīng)器外殼的頂壁上。所述進(jìn)料分布裝置為平板式分布器或槽盤式分布器。一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼,在所述反應(yīng)器外殼的 頂壁上設(shè)置有第一進(jìn)料管,在所述反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座,定子齒圈設(shè)置 在所述反應(yīng)器外殼頂壁的下表面和所述定子基座的下表面,沿所述反應(yīng)器外殼的中心線設(shè) 置有主傳動(dòng)軸,轉(zhuǎn)子基座設(shè)置在所述主傳動(dòng)軸上,所述轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈, 所述定子齒圈與所述轉(zhuǎn)子齒圈相互咬合,在所述反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口,連接有 第二進(jìn)料管的進(jìn)料分布裝置的周邊與第一級(jí)轉(zhuǎn)子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈間設(shè)置有間隙,所述第 二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在所述反應(yīng)器外殼的頂壁上。所述進(jìn)料分布裝置為平板式分布器、槽盤式分布器或排管式分布器。本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)反應(yīng)原料在進(jìn)入轉(zhuǎn)子齒圈和定子齒圈的間隙之前不發(fā)生接觸或瞬間接觸,對(duì)于有 固體生成的快速反應(yīng)體系來說,固體粒子的形成和生長所經(jīng)歷的時(shí)間很短,避免了固體粒 子迅速生長堵塞反應(yīng)器;所有固體粒子的形成和生長所經(jīng)歷的時(shí)間幾乎相同,產(chǎn)生的固體 顆粒粒徑分布均一。利用本發(fā)明的一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器制備有機(jī)異氰酸酯時(shí),反應(yīng) 原料在進(jìn)入轉(zhuǎn)子_定子間隙之前基本不發(fā)生接觸或瞬間接觸,避免了制備異氰酸酯過程中 由于中間體氨基甲酰氯和副產(chǎn)物胺的鹽酸鹽團(tuán)聚或顆粒增大而導(dǎo)致反應(yīng)器發(fā)生堵塞的危 險(xiǎn);避免了現(xiàn)有技術(shù)采用較高的進(jìn)料流速以形成射流混合帶來的對(duì)設(shè)備的磨損;降低對(duì)設(shè) 備材質(zhì)的要求;反應(yīng)器操作過程中壓降減小,有利于反應(yīng)器的穩(wěn)定操作。
圖1為一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為另一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為高剪切反應(yīng)器第一級(jí)轉(zhuǎn)子的俯視圖。圖4為高剪切反應(yīng)器第一級(jí)定子的仰視圖。圖5為平板式進(jìn)料分布裝置示意圖。圖6為槽盤式進(jìn)料分布裝置示意圖。圖7為排管式進(jìn)料分布裝置示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼1,在反應(yīng)器外殼頂壁上 設(shè)置有第一進(jìn)料管8,在反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座5,定子齒圈6設(shè)置在反應(yīng) 器外殼頂壁的下表面和定子基座的下表面,沿反應(yīng)器外殼的中心線設(shè)置有主傳動(dòng)軸2,轉(zhuǎn)子 基座3設(shè)置在主傳動(dòng)軸上,轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈4,定子齒圈與轉(zhuǎn)子齒圈相互 咬合,在反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口 10,連接有第二進(jìn)料管9的進(jìn)料分布裝置7的周邊 與第一級(jí)定子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈的內(nèi)表面固定連接,第二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在反應(yīng)器外殼的 頂壁上(見圖1)。進(jìn)料分布裝置7為平板式分布器,也可以是槽盤式分布器。另一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼1,在反應(yīng)器外殼頂壁 上設(shè)置有第一進(jìn)料管8,在反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座5,定子齒圈6設(shè)置在反 應(yīng)器外殼頂壁的下表面和定子基座的下表面,沿反應(yīng)器外殼的中心線設(shè)置有主傳動(dòng)軸2,轉(zhuǎn) 子基座3設(shè)置在主傳動(dòng)軸上,轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈4,定子齒圈與轉(zhuǎn)子齒圈相 互咬合,在反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口 10,連接有第二進(jìn)料管9的進(jìn)料分布裝置7的 周邊與第一級(jí)轉(zhuǎn)子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈間設(shè)置有間隙,第二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在反應(yīng)器外殼的 頂壁上(見圖2)。進(jìn)料分布裝置7為平板式分布器,見圖5,也可以是槽盤式分布器,見圖 6或排管式分布器,見圖7,(圖5、圖6和圖7是用autoCAD制作的三維效果示意圖)。本發(fā)明的一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器可以廣泛應(yīng)用于化學(xué)制備領(lǐng)域, 尤其適用于有固體生成的快速反應(yīng),以制備有機(jī)異氰酸酯為例,反應(yīng)原料之一有機(jī)伯胺/ 惰性有機(jī)溶劑溶液(或光氣/惰性有機(jī)溶劑溶液)由第一進(jìn)料管8進(jìn)入,另一反應(yīng)原料光 氣/惰性有機(jī)溶劑溶液(或有機(jī)伯胺/惰性有機(jī)溶劑溶液)由第二進(jìn)料管9進(jìn)入;兩種原 料在進(jìn)入轉(zhuǎn)子_定子間隙之前基本不發(fā)生接觸或瞬間接觸。此處的轉(zhuǎn)子_定子間隙包括了 轉(zhuǎn)子齒圈間隙11(見圖3)、定子齒圈間隙12(見圖4)以及轉(zhuǎn)子齒圈與定子齒圈之間的間 隙。在主傳動(dòng)軸的帶動(dòng)下,轉(zhuǎn)子基座和轉(zhuǎn)子齒圈高速旋轉(zhuǎn),反應(yīng)原料在轉(zhuǎn)子-定子間 隙中受到高速剪切、摩擦和撞擊等作用,均勻混合并快速反應(yīng)。含有固體的反應(yīng)粗產(chǎn)物經(jīng)過 轉(zhuǎn)子-定子結(jié)構(gòu)的反復(fù)研磨,固體顆粒的粒徑變得細(xì)小、均一,流動(dòng)性好,不易發(fā)生沉積或 堵塞;同時(shí)較大的固體比表面積也有利于進(jìn)行中間體氨基甲酰氯及副產(chǎn)物胺鹽酸鹽的分解 反應(yīng)。利用現(xiàn)有技術(shù)制備甲苯二異氰酸酯,反應(yīng)原料預(yù)混后進(jìn)入高剪切反應(yīng)器,產(chǎn)生焦油量折合成原料甲苯二胺為8% 9%左右;而采用本發(fā)明的帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng) 器,能將焦油量降低至5% 6%,顯著提高產(chǎn)品收率,并且改善了產(chǎn)品質(zhì)量。
除本發(fā)明中所敘及的有機(jī)異氰酸酯制備過程之外,這種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪 切反應(yīng)器同樣適用于其它包含有固體物系的快速混合和反應(yīng)過程。例如,液-液反應(yīng)沉淀 法制備超細(xì)粉體BaS04、CaCO3等,利用本發(fā)明中的帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,能使 固體顆粒粒徑更加均一,并且能達(dá)到亞微米級(jí)甚至納米級(jí)。
權(quán)利要求
一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼,在所述反應(yīng)器外殼的頂壁上設(shè)置有第一進(jìn)料管,在所述反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座,定子齒圈設(shè)置在所述反應(yīng)器外殼頂壁的下表面和所述定子基座的下表面,沿所述反應(yīng)器外殼的中心線設(shè)置有主傳動(dòng)軸,轉(zhuǎn)子基座設(shè)置在所述主傳動(dòng)軸上,所述轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈,所述定子齒圈與所述轉(zhuǎn)子齒圈相互咬合,在所述反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口,其特征是連接有第二進(jìn)料管的進(jìn)料分布裝置的周邊與第一級(jí)定子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈的內(nèi)表面固定連接,所述第二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在所述反應(yīng)器外殼的頂壁上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,其特征是所述進(jìn)料 分布裝置為平板式分布器或槽盤式分布器。
3.一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼,在所述反應(yīng)器外殼的頂 壁上設(shè)置有第一進(jìn)料管,在所述反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座,定子齒圈設(shè)置在 所述反應(yīng)器外殼頂壁的下表面和所述定子基座的下表面,沿所述反應(yīng)器外殼的中心線設(shè)置 有主傳動(dòng)軸,轉(zhuǎn)子基座設(shè)置在所述主傳動(dòng)軸上,所述轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈,所 述定子齒圈與所述轉(zhuǎn)子齒圈相互咬合,在所述反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口,其特征是 連接有第二進(jìn)料管的進(jìn)料分布裝置的周邊與第一級(jí)轉(zhuǎn)子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈間設(shè)置有間隙, 所述第二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在所述反應(yīng)器外殼的頂壁上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,其特征是所述進(jìn)料 分布裝置為平板式分布器、槽盤式分布器或排管式分布器。全文摘要
本發(fā)明公開了一種帶有進(jìn)料分布裝置的高剪切反應(yīng)器,包括反應(yīng)器外殼,在反應(yīng)器外殼的頂壁上設(shè)置有第一進(jìn)料管,在反應(yīng)器外殼側(cè)壁內(nèi)表面設(shè)置有定子基座,定子齒圈設(shè)置在反應(yīng)器外殼頂壁的下表面和定子基座的下表面,沿反應(yīng)器外殼的中心線設(shè)置有主傳動(dòng)軸,轉(zhuǎn)子基座設(shè)置在主傳動(dòng)軸上,轉(zhuǎn)子基座的上表面設(shè)置有轉(zhuǎn)子齒圈,定子齒圈與轉(zhuǎn)子齒圈相互咬合,在反應(yīng)器外殼的下端設(shè)置有出料口,連接有第二進(jìn)料管的進(jìn)料分布裝置的周邊與第一級(jí)定子齒圈的最內(nèi)側(cè)齒圈的內(nèi)表面固定連接,第二進(jìn)料管貫穿設(shè)置在反應(yīng)器外殼的頂壁上。本發(fā)明的反應(yīng)器適用于有固體生成的快速反應(yīng)體系,能避免固體粒子迅速生長堵塞反應(yīng)器,尤其適用于制備有機(jī)異氰酸酯。
文檔編號(hào)B01J19/18GK101947427SQ20101026144
公開日2011年1月19日 申請(qǐng)日期2010年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月24日
發(fā)明者崔曉曦, 張金利, 徐雙慶, 李韡, 牛鳳芹, 閆少偉, 韓優(yōu) 申請(qǐng)人:天津大學(xué);賽鼎工程有限公司