專利名稱：一種氣體分布器的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及氣液反應裝置，具體涉及一種氣體分布器。
背景技術：
在工業(yè)化氣液反應中，常規(guī)采用反應釜底部設置通氣管伸至反應釜內(nèi)部，通氣管 設有通氣孔，氣體通過通氣孔與液體接觸，發(fā)生氣液反應，但是反應產(chǎn)物如果為固體，則會 阻塞通氣孔，疏通這些通氣孔需要工人親自進入反應釜，不僅勞動強度大，而且操作危險。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種氣體分布器。本實用新型的技術方案是一種氣體分布器，包括設于反應釜底部外部的通氣管， 還包括設于反應釜底部內(nèi)部的分布管，通氣管與分布管相連接，所述分布管設有分布孔。所述分布孔為4 10個。所述通氣管的直徑與分布管的直徑比例為1 2 3。所述通氣管上分別設有通氣閥門和排料閥門。本實用新型的有益效果是本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，當反應產(chǎn)物阻塞通氣 孔需要疏通時，只用打開排料閥門直接從反應釜底部疏通。

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
實施例一種氣體分布器，包括設于反應釜1的底部外部的通氣管2，通氣管2通過法蘭5 固定在反應釜1的底部，還包括設于反應釜1的底部內(nèi)部的分布管3，通氣管2與分布管3 相連接，分布管3設有分布孔4，通氣管的直徑與分布管的直徑比例為1 2，通氣管上分別 設有通氣閥門和排料閥門。
權利要求一種氣體分布器，包括設于反應釜底部外部的通氣管，其特征在于還包括設于反應釜底部內(nèi)部的分布管，通氣管與分布管相連接，所述分布管設有分布孔。
2.根據(jù)權利要求1所述的氣體分布器，其特征在于所述分布孔為4 10個。
3.根據(jù)權利要求1所述的氣體分布器，其特征在于所述通氣管的直徑與分布管的直 徑比例為1 2 3。
4.根據(jù)權利要求1所述的氣體分布器，其特征在于所述通氣管上分別設有通氣閥門 和排料閥門。
專利摘要本實用新型公開了一種氣體分布器，包括設于反應釜底部外部的通氣管，還包括設于反應釜底部內(nèi)部的分布管，通氣管與分布管相連接，所述分布管設有分布孔。本實用新型的有益效果是本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，當反應產(chǎn)物阻塞通氣孔需要疏通時，只用打開排料閥門直接從反應釜底部疏通。
文檔編號B01J10/00GK201603550SQ20102012892
公開日2010年10月13日 申請日期2010年2月10日 優(yōu)先權日2010年2月10日
發(fā)明者張智亮, 陳建軍 申請人:鶴壁聯(lián)昊化工有限公司