專利名稱：扁環(huán)填料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬化工分離設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種化工生產(chǎn)中填料塔用的扁環(huán) 填料。
背景技術(shù)：
填料塔是化工生產(chǎn)中常用的塔器設(shè)備，廣泛應(yīng)用于化工、石油、環(huán)保、輕工等領(lǐng)域 的精餾、吸收、萃取等傳質(zhì)分離過程中，選擇適用的塔填料對填料塔操作質(zhì)量有重要的影 響。填料可分為散裝填料和規(guī)整填料兩類，規(guī)整填料具有傳質(zhì)效率高、阻力降小的優(yōu)點(diǎn)，但 造價高、制作成本高，相比之下，散裝填料造價低廉，檢修、裝卸容易，應(yīng)用較為廣泛。扁環(huán)填 料屬散裝填料，它采用內(nèi)彎弧形筋片來提高填料強(qiáng)度，采用0. 2-0. 4的極低高徑比，使填料 在亂堆時有序排列，并使得填料的處理能力和傳質(zhì)性能上均有一定的改善。然而，現(xiàn)有這種 結(jié)構(gòu)的扁環(huán)在強(qiáng)度和比表面積上還有進(jìn)一步改進(jìn)的余地。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型是對現(xiàn)有內(nèi)彎弧形筋片填料的一種改進(jìn)。為此，本實(shí)用新型提供一種扁環(huán)填料，它包括內(nèi)彎弧形筋片和矩形窗口，在矩形窗 口上下方的本體環(huán)壁上設(shè)有向外凸出的加強(qiáng)筋，所述矩形窗口和內(nèi)彎弧形筋片的上下邊緣 均為齒形。所述內(nèi)彎弧形筋片上設(shè)有條狀開孔和朝向內(nèi)側(cè)的條形片，條形片的一端連于條 狀開孔的短孔邊上。進(jìn)一步的，相鄰兩個矩形窗口之間的本體環(huán)壁上還設(shè)有小孔。本實(shí)用新型的有益效果在于通過增加加強(qiáng)筋，能進(jìn)一步提高填料的強(qiáng)度，增強(qiáng)其 機(jī)械性能；內(nèi)彎弧形筋片上的條狀開孔、條形片和齒形邊緣的設(shè)計(jì)，能進(jìn)一步提高填料的比 表面積和空隙率，提高流體分散的均勻程度，提高傳質(zhì)效率。

圖1為本實(shí)用新型一種扁環(huán)實(shí)施例的正視圖；圖2為本實(shí)用新型一種扁環(huán)實(shí)施例的俯視圖。
具體實(shí)施方式
參見附圖。本實(shí)施例的扁形填料包括構(gòu)成填料的金屬扁環(huán)本體1 ；在本體環(huán)壁上 開設(shè)的矩形窗口 2，該矩形窗口的上下邊緣為鋸齒形；帶鋸齒形邊緣的內(nèi)彎弧形筋片3，該 內(nèi)彎弧形筋片的兩端與矩形窗口 2的短邊相連；位于矩形窗口上下方的本體環(huán)壁上向外凸 出的加強(qiáng)筋4。在本實(shí)施例的內(nèi)彎弧形筋片上還設(shè)有條狀開孔5和朝向內(nèi)側(cè)的條形片6，條形片6 的一端連于條狀開孔5的短孔邊7上。所述的條形片可以為1條或2條，當(dāng)條形片為2條 時，該2條條形片分別與條狀開孔5兩側(cè)的短孔邊相連。在相鄰兩個矩形窗口 2之間的本體環(huán)壁上還設(shè)有小孔8，可進(jìn)一步降低阻力，使氣液分布更均勻。
權(quán)利要求一種扁環(huán)填料，包括矩形窗口(2)和內(nèi)彎弧形筋片(3)，其特征在于在矩形窗口上下方的本體環(huán)壁上設(shè)有向外凸出的加強(qiáng)筋(4)，所述矩形窗口和內(nèi)彎弧形筋片的上下邊緣均為齒形。
2.如權(quán)利要求1所述的扁環(huán)填料，其特征在于所述內(nèi)彎弧形筋片(3)上設(shè)有條狀開 孔(5)和朝向內(nèi)側(cè)的條形片(6)，條形片(6)的一端連于條狀開孔(5)的短孔邊(7)上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的扁環(huán)填料，其特征在于相鄰兩個矩形窗口(2)之間的本 體環(huán)壁上設(shè)有小孔(8)。
專利摘要本實(shí)用新型是一種常用的扁環(huán)填料，包括變換本體(1)、矩形窗口(2)和內(nèi)彎弧形筋片(3)，其特征在于在矩形窗口上下方的本體環(huán)壁上設(shè)有向外凸出的加強(qiáng)筋(4)，矩形窗口和內(nèi)彎弧形筋片的上下邊緣均為齒形。內(nèi)彎弧形筋片(3)上設(shè)有條狀開孔(5)和朝向內(nèi)側(cè)的條形片(6)，條形片(6)的一端連于條狀開孔(5)的短孔邊(7)上。相鄰兩個矩形窗口(2)之間的本體環(huán)壁上設(shè)有小孔(8)。它具有強(qiáng)度高，機(jī)械性能強(qiáng)，比表面積大，空隙率大，流體分散均勻和傳質(zhì)效率高等優(yōu)點(diǎn)，常用于化工生產(chǎn)中的填料塔。
文檔編號B01D3/14GK201710988SQ20102016680
公開日2011年1月19日 申請日期2010年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月22日
發(fā)明者吳佳棟 申請人:吳佳棟