專利名稱：高危氣體處理器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種高危氣體處理器。
背景技術(shù)：
在常用的廢氣處理設(shè)備上，廢氣都是把是要處理的氣體直接接到噴淋塔內(nèi)，設(shè)備 處理氣體是通過風(fēng)機來抽廢氣，這種處理方式效率比較低。而且常用的設(shè)備因為只有三層 噴淋塔處理，所以比較高，只能放在室外。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種高危氣體處理器，解決常用的廢氣處理設(shè)備效率低 的問題。本實用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。高危氣體處理器，包括殼體，殼體的內(nèi)部左右兩側(cè)分別為正壓腔和負壓腔，在正壓 腔和負壓腔的下部殼體內(nèi)設(shè)置有兩個磁力泵，在正壓腔的上部安裝噴淋塔，并在噴淋塔的 側(cè)面設(shè)置有噴淋管，在負壓腔上設(shè)置有檢修口和出氣管；所述噴淋塔的頂部通過一管道連 接到殼體內(nèi)，并在管道上設(shè)置有射流器；在正壓腔的上部同時連接有機玻璃管，并在有機玻 璃管上連接進氣五通，并在進氣五通上連接出氣管；在殼體的外部設(shè)置有若干個加強筋。對 應(yīng)正壓腔和負壓腔的上部分別設(shè)置有進水口。本設(shè)備主要運用于對酸、堿氣體的吸附過濾凈化中和，可使危害氣體達到國家規(guī) 定排放標(biāo)準(zhǔn)。本設(shè)備是利用正負壓腔來使氣體自動進入腔體內(nèi)進行處理，而在前后各加的 一道工序，它使氣體在進入噴淋塔前后都進行了處理，就比以前的處理更為干凈；本設(shè)備因 為比以前的處理工序前后各一道工序，就可以把噴淋塔做的小一點，設(shè)備可以放在室內(nèi)。本設(shè)備比以往的設(shè)備工藝更新穎、耗能小、成本低、處理效果好、結(jié)構(gòu)緊湊、占地 小?？捎糜谥行⌒驮O(shè)備排氣量處理。

下面根據(jù)附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細說明。圖1是本實用新型實施例所述的高危氣體處理器的主視圖；圖2是高危氣體處理器的側(cè)視圖；圖3是高危氣體處理器的俯視圖。
具體實施方式
如圖1-3所示，高危氣體處理器，包括殼體，殼體的內(nèi)部左右兩側(cè)分別為正壓腔1 和負壓腔2，在正壓腔1和負壓腔2的下部殼體內(nèi)設(shè)置有兩個磁力泵4、5，在正壓腔的上部 安裝噴淋塔6，并在噴淋塔6的側(cè)面設(shè)置有噴淋管7，在負壓腔2上設(shè)置有檢修口 12和出氣 管9 ；所述噴淋塔6的頂部通過一管道連接到殼體內(nèi)，并在管道上設(shè)置有射流器8 ；在正壓
3腔1的上部同時連接有機玻璃管3，并在有機玻璃管3上連接進氣五通10，并在進氣五通10 上連接出氣管11 ；在殼體的外部設(shè)置有若干個加強筋14。對應(yīng)正壓腔和負壓腔的上部分別 設(shè)置有進水口 13。進氣五通10，可以把要處理的氣體均勻的注入到每一個有機玻璃管內(nèi)，可以讓氣 體更好的的被處理。有機玻璃管3，分為內(nèi)外兩層有機玻璃管，其中它為外高內(nèi)低，夾層內(nèi)通過磁力泵 進行不停的注水，防止內(nèi)壁有氣體附著，而玻璃管下部有傘狀的噴灑器，把氣體均勻的噴灑 到負壓腔內(nèi)，從而達到一次處理。負壓腔1內(nèi)注滿水，里面的水通過磁力泵進行不停的循環(huán)。是噴淋塔6，它分為三層，每一層都通過磁力泵而進行不停的的噴淋，并且每一層 里面都塞滿了填充物，它可以使氣體沒經(jīng)過一層都會被處理一次，從而提高處理效果。正壓腔2，當(dāng)氣體在噴淋塔內(nèi)經(jīng)過噴淋時，會直接注入到正壓腔內(nèi)的水中，而正壓 腔內(nèi)的水通過磁力泵進行不停的循環(huán)。出氣管9，當(dāng)被處理過的氣體注入到正壓腔內(nèi)后，會在正壓腔內(nèi)分離出氣泡，從出 氣管內(nèi)排出。
權(quán)利要求高危氣體處理器，包括殼體，其特征在于，殼體的內(nèi)部左右兩側(cè)分別為正壓腔和負壓腔，在正壓腔和負壓腔的下部殼體內(nèi)設(shè)置有兩個磁力泵，在正壓腔的上部安裝噴淋塔，并在噴淋塔的側(cè)面設(shè)置有噴淋管，在負壓腔上設(shè)置有檢修口和出氣管；所述噴淋塔的頂部通過一管道連接到殼體內(nèi)，并在管道上設(shè)置有射流器；在正壓腔的上部同時連接有機玻璃管，并在有機玻璃管上連接進氣五通，并在進氣五通上連接出氣管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高危氣體處理器，其特征在于，在殼體的外部設(shè)置有若干個 加強筋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高危氣體處理器，其特征在于，對應(yīng)正壓腔和負壓腔的上部 分別設(shè)置有進水口。
專利摘要高危氣體處理器，包括殼體，殼體的內(nèi)部左右兩側(cè)分別為正壓腔和負壓腔，在正壓腔和負壓腔的下部殼體內(nèi)設(shè)置有兩個磁力泵，在正壓腔的上部安裝噴淋塔，并在噴淋塔的側(cè)面設(shè)置有噴淋管，在負壓腔上設(shè)置有檢修口和出氣管。本設(shè)備主要運用于對酸、堿氣體的吸附過濾凈化中和，可使危害氣體達到國家規(guī)定排放標(biāo)準(zhǔn)。本設(shè)備是利用正負壓腔來使氣體自動進入腔體內(nèi)進行處理，而在前后各加的一道工序，它使氣體在進入噴淋塔前后都進行了處理，就比以前的處理更為干凈；本設(shè)備因為比以前的處理工序前后各一道工序，就可以把噴淋塔做的小一點，設(shè)備可以放在室內(nèi)。本設(shè)備比以往的設(shè)備工藝更新穎、耗能小、成本低、處理效果好、結(jié)構(gòu)緊湊、占地小。
文檔編號B01D53/78GK201719966SQ20102023497
公開日2011年1月26日 申請日期2010年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月24日
發(fā)明者徐竹林, 管選偉, 邵樹寶 申請人:蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司