專利名稱：單丁基三氯化錫的回收的制作方法
單丁基三氯化錫的回收
1.發(fā)明領域本發(fā)明涉及從實踐的化學氣相沉積(下文中也稱為“CVD”)涂覆工藝的流出流中回收單丁基三氯化錫(下文中也稱為“MBTC”)以使氧化錫膜施用于基材，并且更特別地涉及從實踐的CVD涂覆工藝的流出流中回收MBTC和甲基異丁酮(下文中也稱為“MIBK”)以使氟摻雜的氧化錫膜施用于玻璃帶，并且涉及將回收的MBTC和MIBK引入CVD涂覆工藝或任何類似的CVD涂覆工藝。2.現(xiàn)有技術的論述環(huán)境涂料施用于玻璃片以選擇性控制紫外輻射、可見光和紅外能的傳輸，例如通過化學氣相沉積涂覆工藝將氟摻雜的氧化錫施用于玻璃帶以反射紅外能。所述涂料是商業(yè)感興趣的，因為其反射紅外能以在冬季月份期間減少加熱成本，并且在夏季月份期間減少空調(diào)的負荷。除了反射紅外能外，摻雜氟的氧化錫導電，使得其可用于制造光電池和用于防霧商業(yè)冷凍機門的電加熱玻璃，以及用于從飛機透明玻璃上除去霧和冰的加熱系統(tǒng)。盡管目前有效的用于施用氧化錫的CVD涂覆工藝是商業(yè)接受的，但仍有限制。更特別地，CVD涂覆工藝通常包括氣化包括MBTC、MIBK和水(下文中也稱為“H20”)的涂料前體以沉積氧化錫膜，和加入三氟乙酸(下文中也稱為“TFA”)以沉積氟摻雜的氧化錫膜。 正如本領域那些技術人員理解的，特別地MIBK使涂料溶液穩(wěn)定并且提高TFA在MBTC中的溶解度。用于沉積氧化錫膜的CVD涂覆工藝的效率小于15%，導致涂料前體中多于85%的 MBTC存在于涂覆工藝的流出蒸氣流中。在涂覆區(qū)或涂覆區(qū)域附近提供排出槽以除去流出蒸氣流。如下面更詳細論述的， 使一部分流出蒸氣流冷凝，并且使一部分流出蒸氣流固化并且收集在袋式集塵室中。常用的實踐是焚燒冷凝物并且根據(jù)聯(lián)邦、州和地方環(huán)境規(guī)章掩埋固體廢品。正如本領域那些技術人員可以理解的，目前MBTC是最昂貴的涂料前體組分。因此，將有利的是在涂覆設備或者在化學回收設備中提供系統(tǒng)和/或?qū)嵺`方法以從流出的涂料蒸氣中再生大部分(如果不是全部的)MBTC，并且將回收的MBTC引入回到涂覆工藝。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及一種從實踐的化學氣相沉積工藝的流出蒸氣流中回收MBTC，使氧化錫沉積在熱的玻璃制品表面上的工藝。所述工藝特別包括使流出蒸氣流冷卻至50-190華氏度(“F”)的溫度以提供包括液體廢物和薄霧的冷卻的流出蒸氣；使液體廢物相分離；從被定義為再生的MBTC液體廢物的相分離液體廢物中除去具有等于或大于1. 02gm/cc密度的液體廢物，和蒸餾再生的MBTC液體廢物以從再生的MBTC液體廢物中回收再生的MBTC液體，其中再生的MBTC液體具有大于90重量％的MBTC。進一步地，本發(fā)明涉及一種將氧化錫涂料施用于熱的玻璃制品的方法。該方法特別包括混合至少包含單丁基氯化錫(下文中稱為MBTC)的前體以提供第一涂料組合物； 使玻璃制品和涂覆區(qū)相對于彼此移動；將第一涂料組合物施用于熱的玻璃制品表面，并且從涂覆區(qū)排出流出蒸氣流；使流出蒸氣流冷卻至50-190華氏度(“F”)的溫度以提供包括液體廢物和薄霧的冷卻的流出蒸氣；使液體廢物相分離；從相分離的液體廢物中除去具有等于或大于1. 02gm/cc密度的液體廢物，提供再生的MBTC液體廢物；蒸餾再生的MBTC液體廢物以從再生的MBTC液體廢物中回收再生的MBTC液體，其中再生的MBTC液體具有大于80 重量％的MBTC，和根據(jù)需要混合一定量的前體和再生的MBTC液體，提供第二涂料組合物。仍然進一步地，本發(fā)明涉及根據(jù)上述將氧化錫涂料施用于熱的玻璃制品的方法制備的涂覆制品。附圖簡述

圖1是具有可用于本發(fā)明實踐的化學氣相沉積設備的現(xiàn)有技術玻璃成型室的部分橫截面?zhèn)纫晥D。圖2-4是可根據(jù)本發(fā)明的教導制得的現(xiàn)有技術涂覆玻璃的側(cè)面升高的部分視圖。圖5是根據(jù)本發(fā)明的教導使圖1的化學氣相沉積設備的流出流分離成液體廢物、 固體廢物和氣體廢物的系統(tǒng)的流程圖。圖6-9是例如通過圖5的系統(tǒng)從化學氣相沉積設備，例如圖1中所示的化學氣相沉積設備的流出流中回收的液體廢物中回收單丁基氯化錫的本發(fā)明回收系統(tǒng)的非限定性實施方案的流程圖。發(fā)明詳述本文中使用的空間或方向術語例如“內(nèi)”、“外”、“左”、“右”、“上”、“下”、“水平”、“垂
直”等如同其在附圖中所示的那樣與發(fā)明相關。然而，將理解的是本發(fā)明可以假定各種選擇性方向并且因此這些術語不被看作是限制。另外，用于說明書和權利要求中的表示尺寸、物理特性等的所有數(shù)值將被理解為在所有情形中由術語“約”修飾。因此，除非相反地說明，在以下說明書和權利要求中描述的數(shù)值可以取決于將通過本發(fā)明獲得的所希望和/或?qū)で蟮乃Ｍ阅芏兓?。至少地并且不試圖限制等同原則應用于權利要求書的范圍，每一數(shù)值應該至少根據(jù)具有所報導的有效數(shù)位的數(shù)目并且通過采用一般舍入技術來理解。此外， 本文中披露的所有范圍將被理解為包括其中包含的任意和全部子范圍。例如，范圍“1-10” 應被看作包括在最小值1與最大值10之間(并且包括端值)的任意和全部子范圍；即用最小值1或更大開始并且用最大值10或更小結束的所有子范圍，例如1-6. 7，或3. 2-8. 1、或者5. 5-10。另外，本文中使用的術語“在...上移動”、“施用于...上”、“沉積在...上”和 “布置...上”是指在表面上移動、施用、沉積和布置，但不一定與表面接觸。例如，制品的一個表面、制品、膜或組件在另一個表面、制品、膜或組件上“移動”、“施用”、“沉積”和“布置” 不排除材料分別存在于制品的表面之間或者制品的組件之間。在論述本發(fā)明的幾個非限定性實施方案之前，理解的是本發(fā)明不限于應用于本文所示和論述的具體非限定性實施方案的細節(jié)，因為本發(fā)明能夠有其他實施方案。進一步地， 本文中用于論述發(fā)明的術語用于描述的目的，并且不是限制。仍然進一步地，除非另外說明，在以下論述中類似的數(shù)字是指類似的要素。本發(fā)明的非限定性實施方案包括從得自實踐的化學氣相沉積涂覆工藝的流出流中回收MBTC和MIBK，使摻雜或未摻雜的氧化錫膜或?qū)映练e在基材表面上。正如理解的，本發(fā)明對CVD涂覆工藝、基材、涂層和/或涂覆制品沒有限制。更特別地，涂覆工藝可以是在現(xiàn)有技術例如但不限于U. S.專利Nos. 3，660，061 ；4, 853，257和5，863，337中公開的類型， 這些專利在此引入作為參考，并且基材可以是任何玻璃制品，例如但不限于玻璃片、玻璃瓶
5或連續(xù)的玻璃帶。涂覆可以是，但不限于，玻璃基材上的氧化錫膜；玻璃基材上的反彩虹色(anti-iridescence)膜上的氧化錫膜；玻璃基材上的摻雜的氧化錫膜，例如但不限于由 PPG Industries, Inc.出售的Sungate 300涂覆玻璃，其包括玻璃基材表面上的氟摻雜的氧化錫膜，和玻璃基材上的底膜上的摻雜的氧化錫膜，例如但不限于由PPG Industries, Inc.出售的Sungate 500涂覆玻璃，其包括玻璃基材表面上的反彩虹色膜上的氟摻雜的氧化錫膜。涂覆制品可以包括，但不限于涂覆的透明物、涂覆的瓶、光電池、用于防霧商業(yè)冷凍機門和用于飛機透明的電熱玻璃。在一個非限定實施方案中，實踐本發(fā)明以從實踐的CVD涂覆工藝的流出流中回收 MBTC和MIBK，使氟摻雜的氧化錫膜沉積在玻璃帶表面上沉積的反彩虹色膜上。參考圖1，以箭頭23的方向移動的玻璃帶22的表面20漂浮在玻璃成型室26中包含的熔融金屬池24 上，玻璃成型室例如但不限于U. S.專利No. 3，333，936和4，402，722中公開的類型；這些專利的公開內(nèi)容在此引入作為參考。當玻璃帶22在CVD涂覆設備28下面移動時，反彩虹色膜30施用于玻璃帶22的表面32 (還參見圖2)。在箭頭23的方向上玻璃帶22連續(xù)移動使玻璃帶22在CVD涂覆設備34下面移動，使氟摻雜的氧化錫膜36 (參見圖2)施用于反彩虹色膜30的表面38。在本發(fā)明的優(yōu)選實踐中，反彩虹色膜30為氧化錫或氧化硅梯度層，并且為U. S.專利No. 5，356，718和5，863，337中公開的類型；這些專利的公開內(nèi)容在此引入作為參考。當離玻璃帶22的表面32的距離增加時，反彩虹色膜30中氧化硅的百分比降低，提供在玻璃帶的表面32具有約100%氧化硅和在反彩虹色膜30的表面38具有約100%氧化錫的梯度反彩虹色膜30 (參見圖2)。對于反彩虹色膜30的化學性質(zhì)和應用的詳述，可以參考U. S.專利 Nos. 5，356，718 和 5，863，337。正如理解的，本發(fā)明不限于梯度反彩虹色膜，并且本發(fā)明構思了具有多個均相的氧化硅和氧化錫膜的反彩虹色層。更特別地并且不限于本發(fā)明，圖3中示出了反彩虹色層 42。反彩虹色層42包括被氧化硅膜50和51隔開的氧化錫膜44和46。對于具有多個均相的氧化硅和氧化錫膜的反彩虹色層的詳述，可以參考1999年11月5日提交的U. S.專利申請序列號09/434，823，該專利申請在此引入作為參考。任選地可以省略反彩虹色膜30和層42，并且如圖4中所示氧化錫或氟摻雜的氧化錫膜36可以直接施用于玻璃帶22的表面 32。參考圖1，用于施用反彩虹色膜30 (參見圖2)或?qū)?2 (參見圖3)的CVD涂覆設備 28在每一涂覆區(qū)的上游和下游具有排出槽，例如并且不限于本發(fā)明，在涂覆區(qū)58周圍的上游排出槽54和下游排出槽56，和在涂覆區(qū)64周圍的上游排出槽60和下游排出槽62。任選地，涂覆區(qū)66可以布置在排出槽56與60之間。來自排出槽54、56、60和62的流出流以任何便利的方式并且根據(jù)當?shù)亍⒅莺吐?lián)邦環(huán)境規(guī)章而處理。繼續(xù)參考圖1，用于施用氟摻雜的氧化錫膜36(參見圖2-4)的CVD涂覆設備34在每一涂覆區(qū)的上游和下游具有排出槽，例如并且不限于本發(fā)明，在涂覆區(qū)72周圍的上游排出槽68和下游排出槽70。正如可以理解的，本發(fā)明不限于涂覆區(qū)的數(shù)目，并且CVD涂覆設備34可以具有2個或更多個涂覆區(qū)，并且每一涂覆區(qū)有相關的上游和下游排出槽。來自排出槽68和70的流出流根據(jù)如下所述的本發(fā)明教導處理。在本發(fā)明的一個非限定實施方案中，MBTC、MIBK、TFA、H2O的涂料前體在涂覆設備34的室74中氣化(參見圖1)。涂料蒸氣朝著玻璃帶22的表面32移動通過縫式噴嘴76， 使氟摻雜的氧化錫膜施用于反彩虹色膜30或?qū)?2 (參見圖2和幻，或者在玻璃帶22的表面32 (參見圖4)。涂料蒸氣、反應蒸氣和氣體通過排出槽68和70從涂覆區(qū)72排出。一般而言，來自排出槽68和70的流出流捕集大于85%的MBTC涂料前體。本發(fā)明不限于涂料前體的每一組分的重量百分比，并且每一組分的重量百分比基于將沉積的膜的厚度和基材例如玻璃帶22的速度選擇。正如本領域那些技術人員理解的， 玻璃帶的速度取決于制備的玻璃帶的厚度。在本發(fā)明的一個非限定實施方案中，對于具有 2-12毫米厚度的玻璃帶，涂料前體氣態(tài)混合物包括5-20摩爾％的MBTC ；大于0至0. 2摩爾％的MIBK ；5-15摩爾%的TFA,和0-10摩爾%的H2O0參照圖5，目前從CVD涂覆設備34的排出槽68和70中(參見圖5)排出流出流的方法包括使流出的蒸氣流從排出槽68和70通過導管80到達冷凝器82，使流出的蒸氣流從 300°華氏度(“F”)冷卻至40° F。液體和薄霧(薄霧包括氣體，例如空氣和液滴)移動通過導管84到達旋風分離器86，在那里液體排出并且沿著導管87移動到儲存罐88。來自旋風分離器86的薄霧移動通過導管89到達薄霧消除器90，在那里薄霧中的液滴從氣體除去并且移動通過導管91到達儲存罐88。來自薄霧消除器90的氣體移動通過導管92。當氣體移動通過導管92時，通過注射器94將氨注入氣體以沉淀MBTC NH3加合物。在袋式集塵室96中通過過濾器除去沉淀。余下的氣體從袋式集塵室96排出并且通過風扇102移動通過導管100到達排氣煙囪104。在袋式集塵室96中干燥MBTC NH3加合物的沉淀物，并且合適地處理(從由出口 106表示的袋式集塵室96排出)，例如掩埋。繼續(xù)參考圖5，儲存罐88中的液體(也稱為“液體廢物”)具有4份MBTC/1份水。 當足夠的液體廢物積聚在儲存罐88中時，液體廢物通過泵114從儲存罐88移動通過導管 110和112到達液罐車116。4份MBTC/1份水的比例使得從液體廢物再生MBTC的成本過于昂貴，并且通常的實踐是焚燒液體廢物。在本發(fā)明的實踐中，調(diào)節(jié)冷凝器82的溫度使得來自冷凝器的冷凝物或冷卻的流出流具有較高的MBTC/水比例。更特別地，移動到冷凝器82中的來自排出槽68和70的流出流具有約300° F的溫度。本實踐是使流出流的溫度從300° F降至40° F。在本發(fā)明的一個實施方案中，流出流的溫度從300° F降至50-190° F的溫度。當排出冷凝器82的液體和薄霧的溫度增加時，MBTC/水的比例增力卩。更特別地，排出冷凝器82的流出流的溫度從40° F增至50-190° F的溫度，使移動到儲存罐88中的MBTC/水的比例從4份MBTC/1 份水增至8-9. 5份MBTC/1份水，更優(yōu)選為9-9. 5份MBTC/1份水。正如理解的，當其排出冷凝器88時，本發(fā)明對流出流的溫度沒有限制，并且本發(fā)明構思了高于40° F的任何溫度， 例如大于40° F至200° F ；50° F_190° F ;50_150° F，和90-120° F。盡管不限于本發(fā)明，但當流出流中MBTC的量增加時，進入冷凝器82的流出流的溫度與排出冷凝器82的液體和薄霧的溫度之間的差值減少。在本發(fā)明的實踐中，排出冷凝器82的冷卻的流出流的溫度為50° F。參考圖6，在本發(fā)明的一個非限定實施方案中，泵114與液罐車116之間的導管 112可以去掉或者被閥，例如用于泵114的閥130隔開，以使液體廢物從儲存罐88通過導管 132移動到相分離罐134。正如可以理解的，如果使用導管112和閥130，則裝配在導管132 上的閥136使泵114和相分離罐134相連，并且閥137裝配在導管146上。導管146在下面論述。借助于該布置，通過關閉閥136和137并且打開閥130，流入儲存罐88的液體廢物可以移動到液罐車116 (參見圖5)，或者通過關閉閥130和打開閥136，液體廢物可以移動到相分離罐134。在相分離罐134中的液體廢物達到預定的體積時，關閉閥136，并且為了液體廢物通過密度相分離，將液體廢物在相分離罐134中保持未擾動24-36小時?；谙喾蛛x和組分的化學和物理分析，據(jù)信液體廢物分離成大部分MBTC與一些 MIBK的底層或第一層；第一層上的大部分TFA與一些H2O的第二層；第二層上的H2O與一些 MIBK的第三層，和MIBK第四層。MBTC具有1.71克/立方厘米(gm/cc)的密度；TFA具有 1. 48gm/cc的密度；H2O具有1. 00gm/cc的密度，和MIBK具有0. 80gm/cc的密度。層之間的界面可以是構成界面的兩個層的混合物，例如MBTC和MIBK的第一層與TFA和H2O的第二層之間的界面可以包括MBTC、MIBK和/或TFA和/或H2O,并且第三層與第四層之間的界面可以包括TFA、H20和MIBK。正如理解的，液體廢物還可以包括在來自涂覆區(qū)的蒸氣中捕集的固體碎片。本發(fā)明對液體廢物未擾動的時間沒有限制，并且該時間可以為少于24小時，例如 20、16或12小時，并且該時間可以多于36小時，例如40、44和未限制的小時數(shù)。液體廢物保持未擾動的時間包括，但不限于12-50小時、20-50小時、20-45小時、24-45小時、24-40 小時、30-40小時和30-40小時。本發(fā)明實踐36小時。相分離階段結束后，從分離罐134中排出液體廢物層。關閉與泵140相連的導管 150上的閥138 (與導管150的連接在下面論述)；打開泵140與儲存罐145之間的閥144， 關閉導管146上的閥137。泵140通過導管146從相分離罐134中排出第四、第三和第二層，例如MIBK層；H20和MIBK層，以及TFA和H2O層，并且使分離的液體廢物移動通過打開的閥144和導管148以將分離的液體廢物收集在儲存罐145中。儲存罐145中收集的分離的液體廢物以任何便利的方式在任何便利的時間移動到液罐車116(參見圖5)，例如通過關閉閥130和144并且打開閥137，使分離的液體廢物沿著導管146和112從儲存罐145流到液罐車116。正如可以理解的，與在儲存罐145中收集分離的液體廢物相反，分離的液體廢物可以收集在液罐車116中。當其從相分離罐134流出時，使用科里奧利(coriolis)傳感器測量分離的液體廢物的密度。當科里奧利傳感器顯示測量的液體密度等于或大于MBTC密度的75%，例如大于 1. 21時，關閉閥144并且打開閥138以使相分離罐134中的液體廢物，例如一部分第三層和第四層(下文中也稱為“再生的MBTC液體廢物”)移動通過導管150。正如理解的，本發(fā)明對MBTC的密度百分比，即再生的MBTC液體廢物的密度沒有限制，并且構思了使液體廢物移動通過導管148直到液體廢物的密度為MBTC密度的50-100% (0. 85-1. 71gm/cc)，優(yōu)選 65-90% (1.02-1. 54)，并且最優(yōu)選在80% (1. 37gm/cc)以上。在本發(fā)明的一個非限定實踐中，使用1. 62gm/cc的再生MBTC液體廢物密度(MBTC密度的95% )。在本發(fā)明的一個非限定實施方案中，再生的MBTC液體廢物沿著導管150A移動用于在涂覆設備中進一步加工(圖7)，并且在本發(fā)明的另一個非限定實施方案中，再生的 MBTC液體廢物沿著導管150B移動(圖8)用于在不同于涂覆設備的位置加工。參考圖7，在本發(fā)明的該非限定實施方案中，再生的MBTC液體廢物在涂覆設備中加工。再生的MBTC液體廢物移動通過導管150A到達在250° F_280° F的溫度下在22英寸Hg(汞)壓力下工作的第一蒸餾塔153，以除去再生的MBTC液體廢物中的剩余液體H2O和TFA。液體H2O和TFA通過導管154從蒸餾塔153中排出并且移動到儲存罐145 (參見圖 6)。留在蒸餾塔153中的剩余再生的MBTC液體廢物以任何便利的方式移動通過導管155 到達第二真空蒸餾塔156。在本發(fā)明的一個非限定實施方案中，剩余再生的MBTC液體廢物具有 80-90 重量 % ( “wt % ”) MBTC ；0-5wt % MIBK ；0_5wt % TFA 和 O-IOwt % H2O0 重量百分比基于剩余再生的MBTC液體廢物的總重量。第二蒸餾塔156在400° F_430° F的溫度和22英寸Hg的壓力下工作，以使再生的MBTC液體從來自第一蒸餾塔153的剩余再生的液體廢物中排出。來自第二蒸餾塔的再生MBTC液體沿著導管158移動，并且留在第二蒸餾塔156中的重分子組分例如二聚物和三聚物通過導管162移出第二蒸餾塔156并且適宜地處理。在本發(fā)明的一個非限定實施方案中，再生的MBTC液體具有大于90wt %，例如95-98wt % MBTC ；0_5wt %，例如大于0至5wt % MIBK ；0-3wt% TFA和0-0. 2wt% H20。重量百分比基于再生的MBTC液體的總重量。來自第二蒸餾塔的再生MBTC液體移動通過導管158并且通過過濾器160以除去液體中的任何顆粒。在本發(fā)明的實踐中，在小型試驗中使用5微米尺寸的過濾器。在166 分析再生MBTC液體的涂覆質(zhì)量，并且如果可接受，則從供給168中將MIBK和/或MBTC加入再生的MBTC液體，以將再生的MBTC液體中的MIBK和MBTC帶至液體涂料組合物中MBTC 和MIBK的摩爾百分比。用MIBK和MBTC增強的再生MBTC液體移動通過導管170A到達混合罐172(參見圖9)，并且與來自供給174的H2O和任選地，TFA混合以提供涂料前體。涂料前體移動到涂覆設備；34，如上所述使氟摻雜的氧化錫層沉積在玻璃帶22上(參見圖1)。實踐以下本發(fā)明的非限定實施方案。參考圖8，來自相分離罐134的再生MBTC液體廢物(參見6)沿著導管150B移動到儲存罐176。當收集足夠的再生液體廢物，例如2000 加侖時，再生的液體廢物沿著導管178移動到液罐車180并且被帶至化學加工設備(未示出)，如下所述由再生的MBTC液體廢物得到再生的MBTC液體。再生的MBTC液體通過20微米聚丙烯過濾器，并且過濾的再生MBTC液體運輸?shù)酵扛曹囬g(未示出)。過濾的再生MBTC 液體通過導管158和過濾器160(參見圖7)，并且如上所述加工。正如現(xiàn)在可以理解的，本發(fā)明對蒸餾塔的數(shù)目以及上述的工作溫度和壓力沒有限制，并且具有本文提供的信息的本領域技術人員可以基于使用的設備確定最佳溫度和壓力。正如理解的，本發(fā)明不限于任何特定的涂覆工藝，并且本發(fā)明的MBTC再生工藝可以用于從根據(jù)本發(fā)明教導的任何涂覆工藝的流出流中再生MBTC，或者MBTC和MIBK。進一步地，本發(fā)明對回收系統(tǒng)的設備布置沒有限制，并且在本發(fā)明的實踐中可以使用任何的導管、泵、閥和回收設備的布置，例如相分離罐134以及蒸餾塔142和156。仍然進一步地，對于提供從其中再生MBTC的流出流的涂覆設備，再生的MBTC液體不必須與前體混合，并且再生的MBTC液體可用于其他涂覆設備。本領域那些技術人員將容易理解，可以對本發(fā)明的非限定實施方案作出改進，只要不偏離前述的描述中公開的概念。因此，本文中詳細描述的本發(fā)明的具體非限定實施方案僅是說明性的并且不限制附屬的權利要求及其的任何和全部等價物的全部寬度將給予的發(fā)明范圍。
權利要求
1.從實施的化學氣相沉積工藝的流出蒸氣流中回收單丁基氯化錫(下文中稱為MBTC) 從而使氧化錫膜沉積在熱的玻璃制品表面上的工藝，所述工藝包括使流出蒸氣流冷卻至50-190華氏度(“F”)的溫度以提供包含液體廢物和薄霧的冷卻的流出蒸氣流；使液體廢物相分離；從被定義為再生的MBTC液體廢物的相分離液體廢物中除去具有等于或大于1. 02gm/ cc密度的液體廢物，和蒸餾再生的MBTC液體廢物以從再生的MBTC液體廢物中回收再生的MBTC液體，其中再生的MBTC液體具有大于80重量％的MBTC。
2.根據(jù)權利要求1的工藝，進一步包括使液體廢物和薄霧分離，其中流出蒸氣流進一步包含甲基異丁酮(下文中稱為MIBK)和水，并且再生的MBTC液體具有大于90襯％的 MBTC、0-5wt%& MIBK 和 0-0. 2wt% 的水。
3.根據(jù)權利要求2的工藝，其中流出蒸氣流進一步包含三氟乙酸，下文中也被稱為 TFA,并且再生的MBTC液體具有95-98 %的MBTC、0_5 %的ΜΙΒΚ、0_0. 2 %的水和0_3 %的 TFA。
4.根據(jù)權利要求3的工藝，其中，蒸餾再生的MBTC液體廢物以從再生的MBTC液體廢物中回收再生的MBTC液體，包括首先蒸餾再生的MBTC液體以從再生的MBTC液體廢物中除去水和TFA，和第二次蒸餾以提供再生的MBTC液體。
5.根據(jù)權利要求4的工藝，其中液體廢物中MBTC與水的比例為9.5 1。
6.根據(jù)權利要求5的工藝，其中再生的MBTC液體廢物具有等于或大于1.12gm/cc的密度。
7.根據(jù)權利要求1的工藝，其中冷卻的流出流中MBTC與水的比例為9.5 1。
8.根據(jù)權利要求7的工藝，其中再生的MBTC液體廢物具有等于或大于1.12克/立方厘米的密度。
9.根據(jù)權利要求1的工藝，其中再生的MBTC液體廢物具有等于或大于1.12gm/cc的密度。
10.將氧化錫涂料施用于熱的玻璃制品的方法，包括混合至少包含單丁基氯化錫(下文中稱為MBTC)的涂料前體以提供第一涂料組合物； 使玻璃制品和涂覆區(qū)相對于彼此移動； 將第一涂料組合物施用于熱的玻璃制品表面； 從涂覆區(qū)排出流出蒸氣流；使流出蒸氣流冷卻至50-190華氏度(“F”)的溫度以提供包含液體廢物和薄霧的冷卻的流出蒸氣流；使液體廢物相分離；從相分離的液體廢物中除去具有等于或大于1. 02gm/cc密度的液體廢物，提供再生的 MBTC液體廢物；蒸餾再生的MBTC液體廢物以從再生的MBTC液體廢物中回收再生的MBTC液體，其中再生的MBTC液體具有大于80wt%的MBTC，和根據(jù)需要混合一定量的前體和再生的MBTC液體，提供第二涂料組合物。
11.根據(jù)權利要求10的方法，其中第二涂料組合物選自包含與第一涂料組合物相同量的前體，和與第一涂料組合物不同量的前體的涂料組合物。
12.根據(jù)權利要求10的方法，其中流出蒸氣流進一步包含甲基異丁酮，下文中稱為 MIBK，和水，并且再生的MBTC液體包含大于90wt% WMBTC ；大于ο至5wt% WMIBK和 0-0. 2wt% 的水。
13.根據(jù)權利要求12的方法，其中流出蒸氣流進一步包含TFA并且再生的MBTC液體進一步包含 0-3wt% TFA。
14.根據(jù)權利要求1的方法，其中，蒸餾再生的MBTC液體廢物以回收再生的MBTC液體，包括首先蒸餾再生的MBTC液體廢物，和第二次蒸餾再生的MBTC液體廢物以提供再生的 MBTC液體。
15.根據(jù)權利要求14的方法，其中冷卻的流出流中MBTC與水的比例為9.5 1。
16.根據(jù)權利要求10的方法，其中再生的MBTC液體廢物具有等于或大于1.12克/立方厘米的液體密度。
17.根據(jù)權利要求16的方法，其中再生的MBTC液體廢物具有等于或大于1.62克/立方厘米的液體密度。
18.根據(jù)權利要求10的方法，其中玻璃制品是平面玻璃片并且玻璃的至少一個主面被涂覆。
19.根據(jù)權利要求18的方法，其中玻璃是連續(xù)的玻璃帶并且涂覆區(qū)處于平面玻璃成型室中；連續(xù)的玻璃帶具有支承在玻璃成型室中含有的熔融金屬池上的表面，并且玻璃帶的至少一個主面是與玻璃帶的支承面相對的玻璃帶的主面。
20.根據(jù)權利要求10的方法制得的涂覆制品。
全文摘要
從實踐的化學氣相沉積涂覆工藝的流出蒸氣流中回收單丁基氯化錫(“MBTC”)，以使氟摻雜的氧化錫層沉積在玻璃帶上。使蒸氣流冷凝至一定溫度以增加液體冷凝物中MBTC與水的比例。使冷凝的液體儲存在相分離罐(134)中以使冷凝的液體分離成至少兩層。所述層單獨從相分離罐中取出，并且來自相分離罐的具有等于或大于80％的MBTC密度的層進一步通過真空蒸餾操作加工，以提供將用于涂覆工藝中回收的MBTC中的可接受質(zhì)量的MBTC?；厥盏腗BTC加入化學沉積工藝的涂料前體。
文檔編號B01D53/00GK102362007SQ201080013231
公開日2012年2月22日 申請日期2010年3月24日 優(yōu)先權日2009年3月31日
發(fā)明者W·R·洛扎諾 申請人:Ppg工業(yè)俄亥俄公司