專利名稱：除油裝置以及研磨液攪拌裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)領(lǐng)域，尤其涉及一種除油裝置以及研磨液攪拌裝置。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，化學(xué)機械研磨(CMP)作為芯片加工中必不可少的一道工藝也面臨著越來越高的挑戰(zhàn)。在化學(xué)機械研磨的工藝中，將半導(dǎo)體晶片放置于研磨頭上，并使晶圓表面朝下與研磨墊接觸，在所述研磨墊和半導(dǎo)體晶片之間通入研磨液(Slurry),通過晶片表面和研磨墊之間的相對運動使得晶片表面平坦化。由于化學(xué)機械研磨工藝是同時利用機械方式與化學(xué)方式進行，因此必須考慮到很多復(fù)雜的工藝參數(shù)，例如目標薄膜層的特性、研磨液的成分、研磨墊的組成、平臺轉(zhuǎn)速等，其中，研磨液是化學(xué)機械研磨工藝中的一項關(guān)鍵的消耗品，在芯片化學(xué)機械研磨過程中起著非常重要的作用。由上可知，研磨液品質(zhì)將直接影響化學(xué)機械研磨對晶圓表面進行平坦化的好壞，因而，正常生產(chǎn)中不能有任何的雜質(zhì)污染研磨液。請參考圖1，在現(xiàn)有技術(shù)中，現(xiàn)有的研磨液攪拌裝置包括研磨液缸1、攪拌棒2以及攪拌馬達3，所述研磨液缸I設(shè)有一開口，研磨液是放置在研磨液缸I中，依靠攪拌馬達3帶動攪拌棒2對研磨液進行攪拌，保證其密度等均勻，用于正常生產(chǎn)。然而，攪拌馬達3中帶有一些油，例如潤滑油等。在攪拌馬達3長期的使用中，油潰將漏出并沿著攪拌棒2滴入研磨液缸I中的研磨液中，從而污染研磨液，若研磨液噴到晶圓表面則會污染晶圓并且損害晶圓。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種除油裝置以及研磨液攪拌裝置，以防止油潰污染研磨液。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出一種除油裝置，用于去除研磨液攪拌裝置的油潰，所述研磨液攪拌裝置包括攪拌馬達、攪拌棒以及研磨液缸，所述研磨液缸設(shè)有一開口 ；所述除油裝置包括第一遮擋盤、第二遮擋盤和油管，所述第一遮擋盤設(shè)有一第一開孔，所述第二遮擋盤設(shè)有一第二開孔；所述第二遮擋盤的尺寸大于所述第一遮擋盤的尺寸，所述攪拌棒穿過所述第一開孔和第二開孔伸入到所述研磨液缸，所述第一遮擋盤與所述攪拌棒連接并隨所述攪拌棒轉(zhuǎn)動，所述第二遮擋盤固定于所述研磨液缸的開口上，所述油管與所述第二遮擋盤連通。進一步的，所述第一遮擋盤包括圓形的底壁以及與所述底壁外邊緣連接的側(cè)壁，所述第一開孔設(shè)置于所述底壁上。進一步的，所述第一遮擋盤的側(cè)壁高度范圍為lcnT3Cm，所述第一遮擋盤的底壁的直徑范圍為8cnTl2cm。進一步的，所述除油裝置還包括設(shè)置于所述第一開孔內(nèi)的密封圈，所述第一遮擋盤通過所述密封圈與所述攪拌棒密封連接。進一步的，所述第二遮擋盤包括圓形的底壁、與所述底壁外邊緣連接的外側(cè)壁以及與所述底壁內(nèi)邊緣連接的內(nèi)側(cè)壁，所述第二開孔設(shè)置于所述底壁上。進一步的，所述第二遮擋盤的底壁的直徑大于所述第一遮擋盤的底壁的直徑。進一步的，所述第二遮擋盤的外側(cè)壁及內(nèi)側(cè)壁的高度范圍均為lcnT3Cm，所述第二遮擋盤的底壁的直徑范圍為10cnTl4cm。進一步的，所述第二遮擋盤通過一螺絲與所述研磨液缸的開口固定連接。進一步的，所述外側(cè)壁上設(shè)有一排油孔，所述油管通過所述排油孔與所述第二遮擋盤連通。進一步的，所述底壁上設(shè)有一排油孔，所述油管通過所述排油孔與所述第二遮擋盤連通。進一步的，所述油管通過一便捷卡頭固定于所述第二遮擋盤上。本發(fā)明還提出了一種研磨液攪拌裝置包括上述除油裝置。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的主要有益效果體現(xiàn)在通過添加第一遮擋盤遮擋住攪拌馬達泄露出的油潰，通過添加第二遮擋盤遮擋住研磨液缸的開口，并連接一油管排走第二遮擋盤的油潰，從而避免油潰落入研磨液缸中污染研磨液。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中研磨液攪拌裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型一實施例的研磨液攪拌裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為了便于理解，下面結(jié)合具體實施例對本實用新型進行更詳細的描述。請參考圖2，本實施例中提出的除油裝置，用于去除研磨液攪拌裝置的油潰，所述研磨液攪拌裝置包括攪拌馬達3、攪拌棒2以及研磨液缸I，所述研磨液缸I設(shè)有一開口。所述除油裝置包括第一遮擋盤4、第二遮擋盤5和油管6，所述第一遮擋盤4設(shè)有一第一開孔(未圖示)，所述第二遮擋盤5設(shè)有一第二開孔(未圖示);所述第二遮擋盤5的尺寸大于所述第一遮擋盤4的尺寸，所述攪拌棒2穿過所述第一開孔和第二開孔伸入到所述研磨液缸1，所述第一遮擋盤4與所述攪拌棒2連接并隨所述攪拌棒2轉(zhuǎn)動，所述第二遮擋盤5固定于所述研磨液缸I的開口上，所述油管6與所述第二遮擋盤5連通。本實施例中，所述第一遮擋盤4包括圓形的底壁以及與所述底壁外邊緣連接的側(cè)壁，所述第一開孔設(shè)置于所述底壁上，方便所述攪拌棒2穿過所述第一開孔并固定所述第一遮擋盤4，使之可以隨著所述攪拌棒2旋轉(zhuǎn)。較佳的，所述除油裝置還包括設(shè)置于所述第一開孔內(nèi)的密封圈(圖中未示出)，所述第一遮擋盤4通過所述密封圈與所述攪拌棒2密封連接。所述第一遮擋盤4的側(cè)壁高度范圍為lcnT3Cm，例如是2cm。所述第一遮擋盤4的底壁的直徑范圍為8cnTl2Cm，例如是10cm。第一遮擋盤4用于遮擋從攪拌馬達3泄露出的油潰，油潰會沿著攪拌棒2流入第一遮擋盤4中。由于第一遮擋盤4設(shè)有高度為2cm的邊緣側(cè)壁，在第一遮擋盤4隨著攪拌棒2轉(zhuǎn)動時不會被輕易甩出，從而避免油潰漏入研磨液缸I中。所述第二遮擋盤5包括圓形的底壁、與所述底壁外邊緣連接的外側(cè)壁以及與所述底壁內(nèi)邊緣連接的內(nèi)側(cè)壁，所述第二開孔設(shè)置于所述底壁上。所述第二遮擋盤5的底壁的直徑大于所述第一遮擋盤4的底壁的直徑，防止所述第一遮擋盤4中的油潰溢出滴落所述研磨液缸I中。所述第二遮擋盤5的外側(cè)壁及內(nèi)側(cè)壁的高度范圍均為lcnT3Cm，例如是2cm。所述第二遮擋盤5的底壁的直徑范圍為10cnTl4cm，例如是12cm。所述第二遮擋盤5通過一螺絲與所述研磨液缸I的開口固定連接，便于拆卸。在本實施例中，所述第二遮擋盤5的外側(cè)壁上設(shè)有一排油孔，所述油管6通過所述排油孔與所述第二遮擋盤5連通。所述油管6通過所述排油孔與所述第二遮擋盤5連通。在其它實施例中，所述排油孔也可以設(shè)置于第二遮擋盤5的底部。所述油管6通過一便捷卡頭固定于所述第二遮擋盤5上，所述油管6的另一端與排放管路相(圖中未示出)連接，用于把第二遮擋盤5中的油潰排放出。所述攪拌棒2穿過所述第二遮擋盤5的開孔，并與所述第二遮擋盤5保持一定距離，所述第二遮擋盤5的開孔優(yōu)選大于所述攪拌棒2的直徑，避免所述攪拌棒2觸碰到所述第二遮擋盤5。在本實用新型的其他實施例中，第一遮擋盤和第二遮擋盤可以為其他形狀，并不限于圓盤形。但是得保證第一遮擋盤與攪拌棒固定連接，第二遮擋盤要稍大于第一遮擋盤，并固定在研磨液缸的開口處。綜上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不對本實用新型起到任何限制作用。任何所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的技術(shù)方案的范圍內(nèi)，對本實用新型揭露的技術(shù)方案和技術(shù)內(nèi)容做任何形式的等同替換或修改等變動，均屬未脫離本實用新型的技術(shù)方案的內(nèi)容，仍屬于本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種除油裝置，用于去除研磨液攪拌裝置的油潰，所述研磨液攪拌裝置包括攪拌馬達、攪拌棒以及研磨液缸，所述研磨液缸設(shè)有一開口 ；其特征在于，所述除油裝置包括第一遮擋盤、第二遮擋盤和油管，所述第一遮擋盤設(shè)有一第一開孔，所述第二遮擋盤設(shè)有一第二開孔；所述第二遮擋盤的尺寸大于所述第一遮擋盤的尺寸，所述攪拌棒穿過所述第一開孔和第二開孔伸入到所述研磨液缸，所述第一遮擋盤與所述攪拌棒連接并隨所述攪拌棒轉(zhuǎn)動，所述第二遮擋盤固定于所述研磨液缸的開口上，所述油管與所述第二遮擋盤連通。
2.如權(quán)利要求1所述的除油裝置，其特征在于，所述第一遮擋盤包括圓形的底壁以及與所述底壁外邊緣連接的側(cè)壁，所述第一開孔設(shè)置于所述底壁上。
3.如權(quán)利要求2所述的除油裝置，其特征在于，所述第一遮擋盤的側(cè)壁高度范圍為lcnT3cm,所述第一遮擋盤的底壁的直徑范圍為8cnTl2cm。
4.如權(quán)利要求3所述的除油裝置，其特征在于，還包括設(shè)置于所述第一開孔內(nèi)的密封圈，所述第一遮擋盤通過所述密封圈與所述攪拌棒密封連接。
5.如權(quán)利要求2所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤包括圓形的底壁、與所述底壁外邊緣連接的外側(cè)壁以及與所述底壁內(nèi)邊緣連接的內(nèi)側(cè)壁，所述第二開孔設(shè)置于所述底壁上。
6.如權(quán)利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤的底壁的直徑大于所述第一遮擋盤的底壁的直徑。
7.如權(quán)利要求6所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤的外側(cè)壁及內(nèi)側(cè)壁的高度范圍均為lcnT3cm，所述第二遮擋盤的底壁的直徑范圍為10cnTl4cm。
8.如權(quán)利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤通過一螺絲與所述研磨液缸的開口固定連接。
9.如權(quán)利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述外側(cè)壁上設(shè)有一排油孔，所述油管通過所述排油孔與所述第二遮擋盤連通。
10.如權(quán)利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述底壁上設(shè)有一排油孔，所述油管通過所述排油孔與所述第二遮擋盤連通。
11.如權(quán)利要求9或10所述的除油裝置，其特征在于，所述油管通過一便捷卡頭固定于所述第二遮擋盤上。
12.—種研磨液攪拌裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至11中任意一項所述的除油>j-U ρ α裝直。
專利摘要本實用新型提出一種除油裝置以及研磨液攪拌裝置，所述除油裝置用于去除研磨液攪拌裝置的油漬，通過添加第一遮擋盤遮擋住攪拌馬達泄露出的油漬，通過添加第二遮擋盤遮擋住研磨液缸的開口，并連接一油管排走第二遮擋盤的油漬，從而避免油漬落入研磨液缸中污染研磨液。
文檔編號B01F15/00GK202823221SQ20122052126
公開日2013年3月27日 申請日期2012年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月11日
發(fā)明者沈葉舟 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司