專利名稱：一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種反應(yīng)釜合成裝置，特別涉及一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
納米三氧化二鋁在橡膠、玻璃、陶瓷、塑料、涂料、耐火材料、遠(yuǎn)紅外發(fā)射、高壓納燈、集成電路基板、電池，以及化纖產(chǎn)品等領(lǐng)域有驚人的作用，其應(yīng)用前景巨大。在制備時(shí)需要用到反應(yīng)釜合成裝置?，F(xiàn)有的反應(yīng)釜為水熱合成反應(yīng)釜，又稱聚合反應(yīng)釜，是一種能分解難溶物質(zhì)的密閉容器，是用于鋁水反應(yīng)的水熱合成反應(yīng)釜。它能承載反應(yīng)物，收集氣體，還能讓納米材料的前驅(qū)體生長。但現(xiàn)有的水熱合成裝置容易使固體反應(yīng)物堆積在釜底，隨著反應(yīng)的進(jìn)行，所形成的絮狀物沉淀在反應(yīng)物之上，越積越厚，如果用排料的動(dòng)力拉動(dòng)，則使新老生成物一起涌出。由此，因過熱而引起物料碳化、產(chǎn)物顏色變深、金屬鈍化、反應(yīng)衰減甚至過早終止。不僅造成了物料的浪費(fèi)，還使生成物成分不均勻，結(jié)晶不好。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、能形成水流渦旋并為反應(yīng)釜提供冷卻的渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)。實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案是一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)，所述補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)設(shè)置在反應(yīng)釜體的內(nèi)膽內(nèi)，包括補(bǔ)水噴嘴；所述補(bǔ)水噴嘴安裝在反應(yīng)釜體的內(nèi)膽上，位于設(shè)置在內(nèi)膽上的上層隔離篩的上方，并與外部水源連通。所述補(bǔ)水噴嘴的噴嘴位置對準(zhǔn)設(shè)置在內(nèi)膽中的中心柱與所述反應(yīng)釜體的內(nèi)膽內(nèi)壁的中間點(diǎn)，其噴射出的水使位于所述上層隔離篩上的反應(yīng)物按逆時(shí)針方向移動(dòng)。進(jìn)一步地，還包括補(bǔ)水盤管、止水閥和補(bǔ)水泵；所述補(bǔ)水盤管為緊貼在所述反應(yīng)釜體的內(nèi)膽外壁的不銹鋼半管，并與補(bǔ)水噴嘴連通；所述止水閥設(shè)置在補(bǔ)水盤管的進(jìn)水口處；所述補(bǔ)水泵與補(bǔ)水盤管相通。采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型具有以下的有益效果(I)本實(shí)用新型的補(bǔ)水噴嘴使得能形成水流渦旋，能促進(jìn)反應(yīng)的進(jìn)行，同時(shí)不需要任何方式的加熱，如電加熱、水加熱、導(dǎo)電油循環(huán)加熱、遠(yuǎn)紅外加熱，外(內(nèi))盤管加熱等，就可以實(shí)現(xiàn)使補(bǔ)水與釜中溫度環(huán)境相融，促進(jìn)反應(yīng)進(jìn)行。(2)本實(shí)用新型可以通過開啟補(bǔ)水泵、關(guān)閉止回閥的方式，輕松使得補(bǔ)水反向流動(dòng)即可對反應(yīng)釜進(jìn)行降溫，因而不需要不任何方式的冷卻降溫，如夾套冷卻或釜底盤管冷卻等，更加方便，成本更低。

為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖中的標(biāo)號為反應(yīng)釜體1、外殼11、內(nèi)膽12、夾層13、補(bǔ)水噴嘴2、補(bǔ)水盤管3、上層隔離篩4、中心柱5、進(jìn)料裝置6、排料閥7。
具體實(shí)施方式
見圖1，本實(shí)施例的渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)設(shè)置在反應(yīng)釜體I的內(nèi)膽12內(nèi)，包括補(bǔ)水噴嘴2、補(bǔ)水盤管3、止水閥和補(bǔ)水泵。補(bǔ)水噴嘴2安裝在反應(yīng)釜體I的內(nèi)膽12上，位于上層隔離篩4上方，并與外部水源連通。補(bǔ)水噴嘴2的噴嘴位置對準(zhǔn)中心柱5與反應(yīng)釜體I的內(nèi)膽12內(nèi)壁的中間點(diǎn)，其噴射出的水使位于上層隔離篩4上的反應(yīng)物按逆時(shí)針方向移動(dòng)，以圖1所示為例，補(bǔ)水噴嘴2的設(shè)置需要使其噴射的射線偏向中心柱5右側(cè)與內(nèi)膽12內(nèi)壁間距的中間，也即射點(diǎn)與中心柱5和右側(cè)內(nèi)膽12內(nèi)壁點(diǎn)等距。補(bǔ)水噴嘴2的噴嘴口徑根據(jù)補(bǔ)水時(shí)段的用水量來確定。補(bǔ)水盤管3為緊貼在反應(yīng)釜體I的內(nèi)膽12外壁的不銹鋼半管，并與補(bǔ)水噴嘴2連通；止水閥設(shè)置在補(bǔ)水盤管3的進(jìn)水口處；補(bǔ)水泵與補(bǔ)水盤管3相通。反應(yīng)釜體I采用316L型不銹鋼制成，包括外殼11、內(nèi)膽12、進(jìn)料口和出料口。外殼11和內(nèi)膽12之間形成夾層13。反應(yīng)釜體I的外殼11和內(nèi)膽12均由依次相連的圓弧頂部、垂直壁和圓弧底部組成。進(jìn)料口和出料口分別設(shè)置在反應(yīng)釜體I頂部和底部。進(jìn)料口處設(shè)置進(jìn)料裝置6。出料口處設(shè)置排料閥7。上層隔離篩4、中心柱5均設(shè)置在反應(yīng)釜體I的內(nèi)膽12內(nèi)。以上所述的具體實(shí)施例，對本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)，其特征在于所述補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)設(shè)置在反應(yīng)釜體⑴的內(nèi)膽(12)內(nèi)，包括補(bǔ)水噴嘴(2);所述補(bǔ)水噴嘴⑵安裝在反應(yīng)釜體⑴的內(nèi)膽(12)上，位于設(shè)置在內(nèi)膽(12)上的上層隔離篩(4)的上方，并與外部水源連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)，其特征在于所述補(bǔ)水噴嘴(2)的噴嘴位置對準(zhǔn)設(shè)置在內(nèi)膽(12)中的中心柱(5)與所述反應(yīng)釜體(I)的內(nèi)膽(12)內(nèi)壁的中間點(diǎn)，其噴射出的水使位于所述上層隔離篩(4)上的反應(yīng)物按逆時(shí)針方向移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)，其特征在于還包括補(bǔ)水盤管(3)、止水閥和補(bǔ)水泵；所述補(bǔ)水盤管(3)為緊貼在所述反應(yīng)釜體(I)的內(nèi)膽(12)外壁的不銹鋼半管，并與補(bǔ)水噴嘴(2)連通；所述止水閥設(shè)置在補(bǔ)水盤管(3)的進(jìn)水口處；所述補(bǔ)水泵與補(bǔ)水盤管(3)相通。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種渦旋反應(yīng)釜合成裝置的補(bǔ)水冷卻機(jī)構(gòu)，其設(shè)置在反應(yīng)釜體的內(nèi)膽內(nèi)，包括補(bǔ)水噴嘴；所述補(bǔ)水噴嘴安裝在反應(yīng)釜體的內(nèi)膽上，位于設(shè)置在內(nèi)膽上的上層隔離篩的上方，并與外部水源連通。本實(shí)用新型的補(bǔ)水噴嘴使得能形成水流渦旋，能促進(jìn)反應(yīng)的進(jìn)行，同時(shí)不需要任何方式的加熱，如電加熱、水加熱、導(dǎo)電油循環(huán)加熱、遠(yuǎn)紅外加熱，外(內(nèi))盤管加熱等，就可以實(shí)現(xiàn)使補(bǔ)水與釜中溫度環(huán)境相融，促進(jìn)反應(yīng)進(jìn)行。
文檔編號B01J19/00GK202876822SQ20122059222
公開日2013年4月17日 申請日期2012年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月12日
發(fā)明者龔光波 申請人:武漢金一波科技有限公司