用于掩膜地蝕刻出一種刺穿元件的方法
【專利摘要】本申請(qǐng)涉及一種用于掩膜蝕刻出刺穿元件（14）的方法，所述刺穿元件具有：縱長(zhǎng)延伸的桿部（16）；在遠(yuǎn)端伸出的尖端（18）；近端的保持件（20）；以及沿著所述桿部（16）一直伸展到所述尖端（18）的區(qū)域中的、在側(cè)面敞開(kāi)的、用于體液的收集槽（22）。為此，將雙面的蝕刻掩膜（10）施加到基體（12）的兩個(gè)側(cè)面上，并且在蝕刻劑的作用下作為成形蝕刻件地形成所述刺穿元件（14），其中給所述蝕刻掩膜（10）的槽側(cè)面（28）配備了用于單面地蝕出所述收集槽（22）的槽蝕刻縫隙（38）。在此建議，所述槽蝕刻縫隙（38）的、遠(yuǎn)端的和/或近端的端部區(qū)段（40、60）構(gòu)造為朝向縫隙端部變細(xì)的結(jié)構(gòu)。
【專利說(shuō)明】用于掩膜地蝕刻出一種刺穿元件的方法
[0001]本發(fā)明涉及一種用于掩膜地蝕刻出一種刺穿元件的方法，所述刺穿元件具有:縱長(zhǎng)延伸的桿部；遠(yuǎn)端地伸出的尖端；近端的保持件；以及沿著所述桿部一直伸展到所述尖端的區(qū)域中的、在側(cè)面敞開(kāi)的、用于體液的收集槽，其中分別將雙側(cè)面的蝕刻掩膜的一側(cè)面施加到基體的兩個(gè)側(cè)面上，并且在蝕刻劑的作用下作為成形蝕刻件來(lái)形成所述刺穿元件，其中給所述蝕刻掩膜的槽側(cè)面配備了用于單面地蝕刻出所述收集槽的槽蝕刻縫隙。此外，本發(fā)明涉及一種相應(yīng)地制造的刺穿元件。[0002]在WO 2006/066744 Al中建議了一種這樣的蝕刻方法，用于提供一次性的刺穿元件，所述刺穿元件則用來(lái)提取像比如為了現(xiàn)場(chǎng)的血糖測(cè)定而作為毛細(xì)血液從皮膚刺孔中提取的那樣的較小的試樣量。不過(guò)，在那里設(shè)置了用于正面敞開(kāi)的并且在近端封閉的毛細(xì)孔槽的蝕刻掩膜布置結(jié)構(gòu)，其中刺尖在背向所述槽的背面上在遠(yuǎn)端伸出。在這種情況中也成問(wèn)題的是，在刺入過(guò)程中避免通過(guò)在正面伸出的槽壁引起的干擾輪廓。
[0003]以此為出發(fā)點(diǎn)，本發(fā)明的任務(wù)是，進(jìn)一步地對(duì)于在現(xiàn)有技術(shù)中知道的蝕刻方法以及用其制造出來(lái)的刺穿元件進(jìn)行優(yōu)化，并且在所集成的診斷的系統(tǒng)中在取樣或者轉(zhuǎn)交試樣方面對(duì)其進(jìn)行改進(jìn)。
[0004]為了解決該任務(wù)，建議了在獨(dú)立權(quán)利要求中所說(shuō)明的特征組合。本發(fā)明的有利的設(shè)計(jì)方案及改進(jìn)方案由從屬權(quán)利要求中獲得。
[0005]本發(fā)明以以下構(gòu)思為出發(fā)點(diǎn):在端面對(duì)于用于取樣及試樣轉(zhuǎn)交的收集槽進(jìn)行優(yōu)化。相應(yīng)地，按照本發(fā)明建議，將所述槽蝕刻縫隙的近端的和/或遠(yuǎn)端的端部區(qū)段構(gòu)造為朝向縫隙端部變細(xì)的結(jié)構(gòu)。
[0006]由此，一方面可以保證，在蝕刻過(guò)程中在前面的、遠(yuǎn)端的尖端區(qū)域中槽橫截面變細(xì)或者至少保持相同，并且沒(méi)有由于蝕刻劑的、在槽末端上的流動(dòng)過(guò)程而出現(xiàn)骨頭狀的擴(kuò)展現(xiàn)象。即使對(duì)于在所述尖端區(qū)域中的液體獲取來(lái)說(shuō)首先可以將這樣的“骨頭形成現(xiàn)象”分級(jí)為不危險(xiǎn)，但是這在所述尖端的區(qū)域中可能由于材料厚度的降低而導(dǎo)致蝕穿(Durchjitzen)。相應(yīng)地,所述收集槽可能不能向前引導(dǎo)得較遠(yuǎn)，并且在尖端與槽末端之間的、擴(kuò)大的間距必定會(huì)導(dǎo)致更深的刺入深度以及由此提高了的疼痛感。為了降低刺入深度、并且保證最佳的試樣或者血液獲取，因此決定性的是，毛細(xì)孔槽在所述刺入過(guò)程中在皮膚下面已經(jīng)與血液或者組織液體相接觸。這樣的蝕刻件設(shè)計(jì)方案通過(guò)一種蝕刻掩膜來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述蝕刻掩膜的槽蝕刻縫隙一直引導(dǎo)到所述遠(yuǎn)端的尖端區(qū)域中并且在那附近變細(xì)。
[0007]另一方面，通過(guò)在近端的端部上的蝕刻縫隙變細(xì)來(lái)實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn):所蝕刻出來(lái)的收集槽在后面的端部上以保持相同的或者甚至減小的毛細(xì)管直徑來(lái)結(jié)束，從而沒(méi)有像在通過(guò)常見(jiàn)的蝕刻方法來(lái)產(chǎn)生毛細(xì)管擴(kuò)展時(shí)不可避免的那樣提前中斷毛細(xì)管輸送過(guò)程。
[0008]一種有利的設(shè)計(jì)方案規(guī)定，所述槽蝕刻縫隙的端部區(qū)段線性地變細(xì)，使得所蝕出的收集槽朝向變細(xì)部的方向以保持相同的或者連續(xù)減小的橫截面伸展。
[0009]為了支持毛細(xì)活性的試樣轉(zhuǎn)移，有利的是，所述槽蝕刻縫隙如此定位在所述蝕刻掩膜的近端的部分中，使得所蝕出的收集槽在端面敞開(kāi)地匯入在所述保持件上。
[0010]關(guān)于在所集成的測(cè)試配置中的試樣處理方面的進(jìn)一步的改進(jìn)能夠通過(guò)以下方式來(lái)實(shí)現(xiàn):給所述蝕刻掩膜配備朝近端的方向連接到所述槽蝕刻縫隙上的法蘭形成區(qū)域，并且通過(guò)對(duì)于法蘭形成區(qū)域的掏蝕(Untedtzen)來(lái)產(chǎn)生尤其是用于將測(cè)試元件用法蘭連接在所述保持件上的、形成了所述收集槽的匯入處的、優(yōu)選筆直的法蘭邊緣。
[0011]為了平坦地限制所述匯入處，有利的是，所述法蘭形成區(qū)域具有橫向于所述槽蝕刻縫隙地越過(guò)其近端的縫隙端部伸展的掩膜橋。
[0012]一種關(guān)于所述保持件的所定義的設(shè)計(jì)方案的、進(jìn)一步的改進(jìn)方案規(guī)定，給所述蝕刻掩膜配備一種以近端的間距布置在所述槽蝕刻縫隙后面的、用于在所述收集槽的匯入?yún)^(qū)域中將蝕刻劑的作用遮蔽住的犧牲性突緣。
[0013]為了對(duì)于掩膜邊緣后面的半空間進(jìn)行徑向的遮蔽，有利的是，所述在掩膜邊緣上自由地伸出的犧牲性突緣在背向所述槽蝕刻縫隙近端縫隙端部的邊沿區(qū)域中弓形地、尤其是圓弧形地受到限制。在這種情況中，應(yīng)該如此使所述犧牲性突緣的尺寸與所述蝕刻劑的掏蝕寬度相匹配，從而完全地蝕刻除去所述犧牲性突緣一直到其近端的基礎(chǔ)。原則上也可以設(shè)想所述犧牲性突緣的其它幾何形狀，比如矩形或者三角形，用于提供進(jìn)行遮蔽的表面，所述進(jìn)行遮蔽的表面擁有合適的邊緣間距以及一定的伸展度，用于防止所述收集槽的匯入?yún)^(qū)域受到蝕刻介質(zhì)的影響。
[0014]另一種優(yōu)選的實(shí)施方式規(guī)定，在兩個(gè)基體側(cè)面上面給所述蝕刻掩膜配備了用于構(gòu)成尖端輪廓的尖端形成區(qū)域，其中所述槽側(cè)面的尖端形成區(qū)域在遠(yuǎn)端布置在所述處于相反側(cè)面上的尖端形成區(qū)域的前面。通過(guò)這種方式，在所述尖端的區(qū)域中也有足夠的基體材料供給盡可能往前拉的收集槽所使用，而切割作用沒(méi)有通過(guò)在所述相反側(cè)面上的干擾輪廓受到阻礙。
[0015]為了進(jìn)一步減少可能的干擾輪廓，有利的是，所述蝕刻掩膜在其背向所述槽蝕刻縫隙的相反側(cè)面上具有尤其是為了在所述尖端的區(qū)域中避免側(cè)凹的邊緣的輔助開(kāi)口。所述輔助開(kāi)口有利地在所述蝕刻掩膜的尖端形成區(qū)域中相對(duì)于掩膜邊緣以側(cè)向的間距來(lái)布置。在這方面，特別有利的是，所述輔助開(kāi)口具有兩條朝著遠(yuǎn)端的方向V形地朝彼此靠近的輔助開(kāi)口側(cè)腿以及一個(gè)朝遠(yuǎn)端的方向越過(guò)所述輔助開(kāi)口側(cè)腿延伸的、優(yōu)選構(gòu)造為縫隙或者系列孔的、遠(yuǎn)端的輔助開(kāi)口突緣。`
[0016]為了避免倒鉤或者不受歡迎的隆起，所述輔助開(kāi)口突緣的端部朝近端的方向看應(yīng)該處于有待形成的尖端的、遠(yuǎn)端的端部之后。
[0017]因此有利的是，所述輔助開(kāi)口構(gòu)造為Y形，其中離開(kāi)所述有待形成的尖端輪廓以一種遠(yuǎn)端的間距來(lái)布置所述朝彼此靠近的開(kāi)口側(cè)腿。
[0018]對(duì)于已經(jīng)在皮膚中進(jìn)行的取樣來(lái)說(shuō)，特別有利的是，所述槽蝕刻縫隙如此遠(yuǎn)地延伸到所述蝕刻掩膜的、遠(yuǎn)端的尖端形成區(qū)域中，使得所述收集槽以50到ΙΟΟΟμπκ優(yōu)選150到400 μ m的間距在所述尖端的、遠(yuǎn)端的端部之前終止。
[0019]另一種有利的設(shè)計(jì)方案規(guī)定，將所述槽蝕刻縫隙的、變細(xì)的端部區(qū)段在處于100與300 μ m之間的范圍內(nèi)的長(zhǎng)度范圍上在寬度方面朝向較鈍的端部邊緣降低了其開(kāi)始寬度的0.4到0.6倍。
[0020]另一個(gè)發(fā)明方面涉及一種刺穿元件，該刺穿元件具有:縱長(zhǎng)延伸的桿部；在遠(yuǎn)端伸出的尖端；近端的保持件；以及沿著所述桿部一直伸展到所述尖端的區(qū)域中的、在側(cè)面敞開(kāi)的、用于體液的收集槽，其中所述收集槽在至少一個(gè)端部區(qū)段上以連續(xù)減小的橫截面伸展，并且通過(guò)一種尤其是按照前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的掩膜蝕刻方法來(lái)形成。
[0021]下面借助于在附圖中示意性地示出的實(shí)施例來(lái)對(duì)于本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)解釋。附圖示出:
圖1是用于制造設(shè)有收集槽的刺穿元件的蝕刻掩膜的遠(yuǎn)端的、槽側(cè)面的掩膜區(qū)段的俯視圖；
圖2是所述刺穿元件的、利用按照?qǐng)D1的掩膜區(qū)段所產(chǎn)生的區(qū)域；
圖3是遠(yuǎn)端的、背側(cè)面的、掩膜區(qū)段的、與圖1相對(duì)應(yīng)的圖示；
圖4是所述刺穿元件的、利用按照?qǐng)D3的掩膜區(qū)段所產(chǎn)生的區(qū)域；
圖5是近端的、槽側(cè)面的、掩膜區(qū)段的俯視圖；
圖6是所述刺穿元件的、利用按照?qǐng)D5的掩膜區(qū)段所產(chǎn)生的區(qū)域；
圖7和8是所述蝕刻掩膜及所述刺穿元件的、沿著圖9的剖切線7-7以及8-8的橫截面；并且
圖9是作為成形蝕刻件所形成的刺穿元件連同在近端用法蘭連接的測(cè)試元件的透視圖。
[0022]將在附圖中示出的蝕刻掩膜10作為雙面的布置結(jié)構(gòu)施加到較薄的優(yōu)質(zhì)鋼基體12的兩個(gè)側(cè)面上，用于將掩膜蝕刻作為成形蝕刻件來(lái)形成刺穿元件14，該刺穿元件按照?qǐng)D9具有:縱長(zhǎng)延伸的桿部16 ;在`遠(yuǎn)端伸出的尖端18 ;近端的保持件20:以及沿著所述桿部16一直伸展到所述尖端18的區(qū)域中的、在其長(zhǎng)度范圍內(nèi)半敞開(kāi)的或者凹槽狀的、用于在刺入皮膚時(shí)收集體液(血液、組織液體)的收集槽22。所述刺穿元件14可以作為所集成的、診斷用的耗材與測(cè)試元件24相組合，用于將在所述毛細(xì)的收集槽22中所接納的試樣液體轉(zhuǎn)移到用于測(cè)定一種分析物(比如葡萄糖)的試劑層26上。在這種情況中，所述測(cè)試元件24可以在一開(kāi)始就已經(jīng)被固定地集成在所述刺穿元件14上，或者不過(guò)可以在后來(lái)為了試樣轉(zhuǎn)移才與所述刺穿元件14相連接。
[0023]所述蝕刻掩膜10可以通過(guò)光蝕法、也就是說(shuō)通過(guò)曝光和從光刻膠中沖洗的過(guò)程以本身熟知的方式構(gòu)造在所述基體12上。通過(guò)在如此產(chǎn)生的蝕刻掩膜36中的凹處，隨后向所述基體12加載蝕刻劑，其中根據(jù)所述基本形狀來(lái)使得被遮蓋的或者被掩蓋的區(qū)域免除蝕刻(freBtzen)。在此要考慮到，不僅朝深度、而且也通過(guò)對(duì)于所述蝕刻掩膜10的邊緣輪廓所進(jìn)行的從后面蝕刻(Hinterjitzen)或者掏蝕(Unterjitzen)來(lái)實(shí)現(xiàn)材料削減。通過(guò)所述基體的外部的影響參數(shù)或者材料特性，所述蝕刻過(guò)程也可以各向異性地進(jìn)行，也就是說(shuō)，所述側(cè)向的掏蝕率或者掏蝕寬度那么就大于或者小于所述深度蝕刻率。
[0024]所述蝕刻掩膜10的、在圖1中在遠(yuǎn)端的截取部分中示出的槽側(cè)面28具有用于所述桿部16的桿部形成區(qū)域30以及用于形成所述尖端18的尖端形成區(qū)域32。由狹窄處34出發(fā)，在所述尖端形成區(qū)域32后面朝遠(yuǎn)端的方向跟隨著一個(gè)加寬的遮蔽區(qū)域36，該遮蔽區(qū)域防止在正面蝕刻去除所述尖端18，從而僅僅通過(guò)對(duì)于所述尖端形成區(qū)域32的、側(cè)面的掏蝕來(lái)蝕空特別鋒利的尖端輪廓。
[0025]這樣的、用于形成尖端輪廓的遮蔽方法的其它細(xì)節(jié)也可以從WO 2006/066744中得知，在這方面要參照該文件。不過(guò)，在該文件中所述在遠(yuǎn)端向外突出的尖端區(qū)域布置在背向毛細(xì)孔槽(在該文件中稱為背面的)基體側(cè)面上，而所述在正面敞開(kāi)的毛細(xì)孔槽只有在所述尖端的后面才在側(cè)面受到限制。[0026]在所述按本發(fā)明的掩膜布置結(jié)構(gòu)中，在槽側(cè)面28上設(shè)置了用于對(duì)于在所述尖端18的區(qū)域中終止的、在端面封閉的收集槽22進(jìn)行單面的(溝槽狀的)蝕刻的槽蝕刻縫隙38。為此目的，所述槽蝕刻縫隙38的、遠(yuǎn)端的端部區(qū)段40構(gòu)造為朝向處于所述尖端形成區(qū)域32中的、遠(yuǎn)端的縫隙端部42變細(xì)的結(jié)構(gòu)。
[0027]圖2以虛線示出示出了按照?qǐng)D1的蝕刻掩膜10的、放大的截取部分連同所述刺穿元件14的、被蝕空的、遠(yuǎn)端的區(qū)段。從中可以看出，如此選擇所述槽蝕刻縫隙38的端部區(qū)段40的線性的變細(xì)結(jié)構(gòu)，使得所蝕刻出來(lái)的收集槽22以連續(xù)減小的寬度和深度一直伸展到所述尖端18的區(qū)域中。
[0028]所述基體厚度有利地處于100到300 μ m的范圍內(nèi)。所述槽蝕刻縫隙38的、在中間部分中的寬度可以大約為100到150 μ m，而將所述變細(xì)的端部區(qū)段40在大約與基片厚度相對(duì)應(yīng)的、從100到300 μ m的長(zhǎng)度的范圍內(nèi)在其寬度方面朝向形成了所述縫隙端部42的、較鈍的端部邊緣降低了其開(kāi)始寬度的大約一半。在這種情況中可以實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn):所述收集槽22以處于150到400 μ m的范圍內(nèi)的、較小的間距在所述尖端18的、遠(yuǎn)端的端部44之前終止。
[0029]圖3示出了所述蝕刻掩膜10的、在背向所述槽側(cè)面28的背面46上面的、遠(yuǎn)端的區(qū)段。所述兩個(gè)掩膜面28、46在此如此相對(duì)于彼此定位，使得所述定位孔或者說(shuō)指示孔48、48’同心地處于彼此當(dāng)中。在所述相反側(cè)面46上面，所述蝕刻掩膜10具有用于所述桿部16的桿部形成區(qū)域30’以及用于形成尖端輪廓的尖端形成區(qū)域32’。在所述尖端形成區(qū)域32’的前面在遠(yuǎn)端布置了遮蔽區(qū)域36’，用于避免正面的變鈍。正如下面還要詳細(xì)解釋的那樣，在所述槽相反側(cè)面46上面額外地設(shè)置了構(gòu)造為Y形的輔助開(kāi)口 50，用于在所述尖端輪廓的區(qū)域中避免側(cè)凹的邊緣及隆起。
[0030]在所述相反側(cè)面46上面的尖端形成區(qū)域32’相對(duì)于所述槽側(cè)面的尖端形成區(qū)域32朝向近端的方向后縮，使得所述尖端18沿著縱向方向看從所述遠(yuǎn)端的端部44出發(fā)獲得一種凸出的倒圓結(jié)構(gòu)。
[0031]正如可以從圖4中看出的那樣，在所述刺穿元件14上，通過(guò)在所述相反側(cè)面46上面的尖端形成區(qū)域32’產(chǎn)生了朝向頂點(diǎn)52通過(guò)邊緣54逐漸變成楔形的尖端輪廓。所述頂點(diǎn)52在此有利地大于基體厚度地朝向近端的方向處于所述槽側(cè)面的、遠(yuǎn)端的端部44之后。所述輔助開(kāi)口 50的、大致平行于邊緣54地?fù)伍_(kāi)的開(kāi)口側(cè)腿用于:通過(guò)額外地?cái)D入的蝕刻劑對(duì)于所述邊緣54在橫截面中進(jìn)行凸出的倒圓處理，并且沒(méi)有構(gòu)成小洞穴。相應(yīng)地，所述朝向彼此靠近的開(kāi)口側(cè)腿50’的連接點(diǎn)56在遠(yuǎn)端布置在所述頂點(diǎn)52的前面，從而沿著縱向方向也沒(méi)有產(chǎn)生妨礙刺入過(guò)程的側(cè)凹的倒鉤。如果進(jìn)一步靠前地布置所述連接點(diǎn)56，則不再獲得這樣的效應(yīng)。與此相反，在進(jìn)一步向后移位時(shí)，會(huì)產(chǎn)生一種具有處于前面的隆起的橫向槽。為了對(duì)于針刺入來(lái)說(shuō)避免這樣的干擾輪廓，所述輔助開(kāi)口 50從所述連接點(diǎn)56出發(fā)擁有遠(yuǎn)端的基礎(chǔ)支臂或者說(shuō)輔助開(kāi)口縫隙50’’，該遠(yuǎn)端的基礎(chǔ)支臂優(yōu)選以均勻的寬度朝向遠(yuǎn)端的方向延伸。相對(duì)于有待形成的尖端18的、槽側(cè)面的遠(yuǎn)端的端部44，所述輔助開(kāi)口縫隙50’’以近端的間距終止。由此考慮到所述槽側(cè)面的尖端形成區(qū)域32的較大的寬度。
[0032]圖5示出了在所述槽側(cè)面28上面的、蝕刻掩膜10的近端的(后面的)部分58，該近端的部分58被設(shè)置用于產(chǎn)生所述保持件20。所述槽蝕刻縫隙38在那里在朝向近端的方向變細(xì)的端部區(qū)段60中結(jié)束。原則上，可以根據(jù)所述前面的、遠(yuǎn)端的端部區(qū)段40來(lái)設(shè)計(jì)這個(gè)后面的端部區(qū)段60的尺寸。在這種情況中，可以將所述槽蝕刻縫隙38如此定位在所述掩膜部分58中，使得所蝕刻出來(lái)的收集槽22在端面敞開(kāi)地匯入在所述保持件20上，用于能夠?qū)⒃嚇右后w線性地毛細(xì)地輸送給所述測(cè)試元件24。
[0033]為了使所述測(cè)試元件24對(duì)接，所述收集槽22的匯入?yún)^(qū)域應(yīng)該盡可能沒(méi)有橫截面加寬部，該橫截面加寬部可能會(huì)停止毛細(xì)的液體輸送。同樣，所述測(cè)試元件24應(yīng)該在沒(méi)有氣隙的情況下面狀地抵靠。為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，所述蝕刻掩膜10設(shè)有朝近端的方向連接到所述槽蝕刻縫隙38上的法蘭形成區(qū)域62。所述法蘭形成區(qū)域62具有橫向于所述槽蝕刻縫隙38越過(guò)其近端的縫隙端部伸展的掩膜橋64，所述掩膜橋在朝遠(yuǎn)端的方向均勻的掏蝕的情況下引起直線的邊緣輪廓。
[0034]但是，附加于所述遠(yuǎn)端的掏蝕，所述蝕刻劑通過(guò)所述槽蝕刻縫隙38也朝近端的方向流動(dòng)，并且會(huì)在所述匯入處引起相應(yīng)的蝕刻加寬。為了對(duì)這種效應(yīng)進(jìn)行補(bǔ)償，所述蝕刻掩膜10設(shè)有以近端的間距布置在所述槽蝕刻縫隙38后面的犧牲性突緣66，該犧牲性突緣在所述收集槽22的匯入?yún)^(qū)域中防止遠(yuǎn)端的蝕刻劑作用。
[0035]為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，所述在掩膜橋64上自由地伸出的犧牲性突緣66在近端的邊緣區(qū)域中構(gòu)造為弓形，其中所述半徑與所述掏蝕寬度相匹配，從而完全地蝕刻除去所述犧牲性突緣66。
[0036]正如在圖6中所描繪的那樣，通過(guò)前面所描述的掩膜布置結(jié)構(gòu)在所述保持件20中產(chǎn)生了筆直的法蘭邊緣68，該法蘭邊緣優(yōu)化地將試樣轉(zhuǎn)移到所述用法蘭連接的測(cè)試元件24上。在這種情況中，所述犧牲性突緣66不僅用于筆直地限制所述收集槽22的匯入處70，而且也防止所述槽末端區(qū)段的額外的蝕刻加寬。不言而喻，所述蝕刻掩膜10的、對(duì)于所述相反側(cè)面來(lái)說(shuō)未示出的、近端的部分沒(méi)有槽蝕刻縫隙并且因此沒(méi)有犧牲性突緣，不過(guò)其余之處與所述槽側(cè)面的、近 端的部分58相一致。
[0037]正如在圖7和8中進(jìn)一步說(shuō)明的那樣，所述刺穿元件14的構(gòu)件輪廓和拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)通過(guò)在所述基體12上面的、在兩側(cè)不同的掩膜布置結(jié)構(gòu)來(lái)確定。除了所述較細(xì)的收集槽22的、單面的表面蝕刻之外，通過(guò)借助于所述掩膜開(kāi)口 70、72進(jìn)行的深度蝕刻也在所述基體中實(shí)現(xiàn)所述成形蝕刻件的分離，其中通過(guò)相應(yīng)的掩膜重復(fù)這一措施也可以在必要時(shí)從卷筒到卷筒地制造較大的件數(shù)。
【權(quán)利要求】
1.用于掩膜蝕刻出一種刺穿元件(14)的方法，所述刺穿元件具有:縱長(zhǎng)延伸的桿部(16);在遠(yuǎn)端伸出的尖端(18);近端的保持件(20);以及沿著所述桿部(16) —直伸展到所述尖端(18)的區(qū)域中的、在側(cè)面敞開(kāi)的、用于體液的收集槽(22)，其中將雙側(cè)面的蝕刻掩膜(10)施加到基體(12)的兩個(gè)側(cè)面上，并且在蝕刻劑的作用下作為成形蝕刻件地形成所述刺穿元件(14)，其中給所述蝕刻掩膜(10)的槽側(cè)面(28)配備了用于單面地蝕刻出所述收集槽(22)的槽蝕刻縫隙(38)，其特征在于，所述槽蝕刻縫隙(38)的、近端的和/或遠(yuǎn)端的端部區(qū)段(40、60)構(gòu)造為朝向縫隙端部變細(xì)的結(jié)構(gòu)。
2.按權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述槽蝕刻縫隙(38)的端部區(qū)段(40、60)線性地變細(xì)，使得所蝕刻出的收集槽(22 )朝向變細(xì)結(jié)構(gòu)的方向以保持相同的或者連續(xù)地減小的橫截面伸展。
3.按權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述槽蝕刻縫隙(38)如此定位在所述蝕刻掩膜(10 )的、近端的部分(58 )中，使得所蝕刻出的收集槽(22 )在端面敞開(kāi)地匯入在所述保持件(20 )上。
4.按權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，給所述蝕刻掩膜(10)配備了朝近端的方向連接到所述槽蝕刻縫隙(38)上的法蘭形成區(qū)域(62)，并且通過(guò)對(duì)于所述法蘭形成區(qū)域(62)的掏蝕來(lái)產(chǎn)生一種形成了所述收集槽(22)匯入處的、優(yōu)選筆直的、尤其是用于用法蘭將測(cè)試元件(24)連接在所述保持件(20)上的法蘭邊緣(68)。
5.按權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述法蘭形成區(qū)域(62)具有橫向于所述槽蝕刻縫隙(38)地越過(guò)其近端的縫隙端部伸展的掩膜橋。
6.按權(quán)利要求1到5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，給所述蝕刻掩膜(10)配備了一種以近端的間距布置在所述槽蝕刻縫隙(38)后面的、用于在所述收集槽(22)的匯入?yún)^(qū)域中將蝕刻劑作用遮蔽住的犧牲性突緣(66)。
7.按權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，在背向所述槽蝕刻縫隙(38)近端縫隙端部(60)的邊沿區(qū)域中弓形地、尤其是圓弧形地限制所述在掩膜邊緣上自由地伸出的犧牲性突緣(66)。
8.按權(quán)利要求6或7所述的方法，其特征在于，使所述犧牲性突緣(66)的尺寸如此與所述蝕刻劑的掏蝕寬度相匹配，從而完全地蝕刻除去所述犧牲性突緣(66)直到其近端的基礎(chǔ)。
9.按權(quán)利要求1到8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在兩個(gè)基體側(cè)面上給所述蝕刻掩膜(10)配備了用于構(gòu)成尖端輪廓的尖端形成區(qū)域(32、32’)，其中所述槽側(cè)面的尖端形成區(qū)域(32)在遠(yuǎn)端布置在所述處于相反側(cè)面上的尖端形成區(qū)域(32’)的前面。
10.按權(quán)利要求1到9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述蝕刻掩膜(10)在其背向槽蝕刻縫隙(38)的相反側(cè)面(46)上具有尤其是用于在所述尖端(18)的區(qū)域中避免側(cè)凹的邊緣的輔助開(kāi)口(50)。
11.按權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述輔助開(kāi)口(50)相對(duì)于掩膜邊緣以側(cè)向的間距布置在所述蝕刻掩膜(10)的尖端形成區(qū)域(32’)中。
12.按權(quán)利要求10或11所述的方法，其特征在于，所述輔助開(kāi)口(50)具有兩個(gè)朝遠(yuǎn)端的方向V形地朝彼此靠近的輔助開(kāi)口側(cè)腿(50’)。
13.按權(quán)利要求10到12中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述輔助開(kāi)口(50)具有朝遠(yuǎn)端的方向延伸的、優(yōu)選構(gòu)造為縫隙或者系列孔的、遠(yuǎn)端的輔助開(kāi)口突緣(50’’)。
14.按權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述輔助開(kāi)口突緣(50’’)的近端的端部朝近端的方向看布直在有待形成的尖端(18)的、遠(yuǎn)端的端部(44)之后。
15.按權(quán)利要求10到14中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述輔助開(kāi)口(50)構(gòu)造為Y形，其中所述朝彼此靠近的開(kāi)口側(cè)腿的連接點(diǎn)(56)離開(kāi)所述槽相反側(cè)面(46)的、有待形成的尖端輪廓(52)以一種遠(yuǎn)端的間距來(lái)布置。
16.按權(quán)利要求1到15中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述槽蝕刻縫隙(38)如此程度地延伸到所述蝕刻掩膜(10)的遠(yuǎn)端的尖端形成區(qū)域(32)中，使得所述收集槽(22)以150到400 μ m的間距在所述尖端(18)的、遠(yuǎn)端的端部(44)之前終止。
17.按權(quán)利要求1到16中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將所述槽蝕刻縫隙的、變細(xì)的端部區(qū)段(40、60)在寬度方面朝向較鈍的端部邊緣降低了其開(kāi)始寬度的0.4到0.6倍。
18.按權(quán)利要求1到17中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述槽蝕刻縫隙(38)在其端部區(qū)段(40、60 )上在處于100與300 μ m之間的范圍內(nèi)的長(zhǎng)度范圍上朝向縫隙端部變細(xì)。
19.刺穿元件(14)，該刺穿元件具有:縱長(zhǎng)延伸的桿部(16);在遠(yuǎn)端伸出的尖端(18)；近端的保持件(20);以及沿著所述桿部(16)—直伸展到所述尖端(18)的區(qū)域中的、在側(cè)面敞開(kāi)的、用于體液的收集槽(22)，其中所述收集槽(22)在至少一個(gè)端部區(qū)段(40、60)上以連續(xù)地減小的橫截面伸展，并且通過(guò)一種尤其是按照前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的掩膜蝕刻方法來(lái)形成。
【文檔編號(hào)】B01L3/00GK103813750SQ201280046413
【公開(kāi)日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2012年9月19日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月23日
【發(fā)明者】M.齊普費(fèi)爾, A.洛佩斯姆拉斯 申請(qǐng)人:霍夫曼-拉羅奇有限公司