流體污染預(yù)防系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】所公開的主題涉及流體處理系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和至少一個流體出口流體連通，且至少一個中間室布置在流體處理室及出口中的至少一個與至少一個入口之間。該至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。
【專利說明】流體污染預(yù)防系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及流體處理系統(tǒng)并且更具體地涉及配置有隔板隔間的系統(tǒng)，以用于在有關(guān)系統(tǒng)的上游和下游處防止流體的混合和污染。
[0002]背景
[0003]在液體處理中的重要考慮是防止未處理的液體和處理過的液體的污染。例證此需求的一個合適的實例是過濾設(shè)計，其中原液體進入過濾單元，過濾后的液體從中流出。這需要防止原液體朝著已過濾的(處理過的)液體的密封突破(有時這可以被稱為‘墊片/密封捷徑’，或‘密封元件超越’)以防止其污染。
[0004]另一實例是液體混合系統(tǒng)，其中第一液體，比如淡水，與一些化學(xué)試劑混合，且混合物然后通過液體處理系統(tǒng)的出口出來。這要求化學(xué)試劑在第一液體的方向不流到下游，流到下游可能污染淡水或者甚至更糟糕地造成危險的情況。
[0005]通常提出各種解決方案以減小在液體處理系統(tǒng)的上游和下游流動部分之間泄漏的可能性。最常見的是密封裝置，其包括各種墊片、O型環(huán)、面對面接觸密封件等。
[0006]然而，經(jīng)常出現(xiàn)這種密封裝置不充分或失效的情況，例如由于高壓流體設(shè)法克服這種密封裝置，或者例如由于在密封附近處灰塵的存在(灰塵可能在設(shè)備裝配期間進入或被流體帶到那里)，或者由于在裝配期間密封構(gòu)件錯放或擠壓，或者甚至由于在常規(guī)使用過程中的磨損，這在靜態(tài)設(shè)備和動態(tài)設(shè)備的情況下都可能發(fā)生，其中一個或多個元件線性地和/或圍繞密封元件旋轉(zhuǎn)地移位，其中在后一種情況下(動態(tài)設(shè)備)，磨損通常增加。
[0007]概述
[0008]下文說明書和權(quán)利要求中提及的流體處理系統(tǒng)表示配置有至少一個流體入口和至少一個操作室的任何流體系統(tǒng)，流體在通過至少一個流體出口流出之前在操作室中經(jīng)受任意類型的處理。
[0009]下文說明書和權(quán)利要求中提及的處理流體表示任何類型的流體處理，例如過濾、兩種或更多種流體成分的混合、化學(xué)處理等。
[0010]本公開的主題提供一種裝置，其配置成防止或明顯減少流體在流體處理系統(tǒng)內(nèi)的
混合/污染。
[0011]根據(jù)所公開的主題，提供了一種流體處理系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和至少一個流體出口流體連通，至少一個中間室布置在流體處理室及出口中的至少一個與至少一個入口之間；其中該至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。
[0012]該裝置使得在每個相應(yīng)入口處的壓力Ρλ、以及在流體處理室處的壓力Pt。或在出口處的壓力Pa比在中間室處的壓力Ps高，即:
[0013]P入>PS〈P 出
[0014]并且同樣地:
[0015]P 入〉PtcXP 出[0016]然而，在流體處理室處的壓力Pt。可以與在出口處的壓力大體相等，即Ptc=P出。
[0017]該裝置使得發(fā)生在流體處理系統(tǒng)內(nèi)的任何位置處的泄漏將從高壓區(qū)流向低壓區(qū)，即，流體系統(tǒng)內(nèi)的任何泄漏將流入到中間室中，導(dǎo)致泄漏發(fā)生在系統(tǒng)中的情況，任何泄漏流體從其被排出的地方流至中間室，且無論如何不在具有不同流體的區(qū)域之間流動，從而以避免其混合和/或污染。
[0018]根據(jù)所公開的主題的另一個方面，提供了一種流體過濾系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和至少一個流體出口流體連通,且至少一個中間室布置在流體處理室及至少一個流體出口中的至少一個與至少一個入口之間；其中該至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。
[0019]根據(jù)實施例，該裝置使得在每個相應(yīng)入口處的壓力P入、以及在流體處理室處的壓力Ptc或在出口處的壓力P &比在至少一個中間室處的壓力Ps高。
[0020]該裝置使得流體入口延伸到原流體室中并且至少一個過濾模塊在原流體室和至少一個流體處理室之間延伸。根據(jù)實施例，提供了兩個過濾模塊。至少一個流體處理室通過至少兩個隔板壁與原流體室分離。
[0021]根據(jù)實施例，該至少兩個隔板壁大體互相平行并且界定在其間的空間，從而界定至少一個中間室。還根據(jù)實施例，提供至少三個隔板壁，界定在其間的至少兩個中間室。
[0022]下述的設(shè)計和配置中的任何一種或多種能分開地或結(jié)合地應(yīng)用到流體處理系統(tǒng):
[0023]?根據(jù)一個具體實施例，液體處理室和至少一個出口直接流體連通并且處于大體相同的壓力；
[0024]?中間室與流體處理系統(tǒng)的上游側(cè)和流體處理系統(tǒng)的下游側(cè)共通；
[0025]?獨立的中間室與流體處理系統(tǒng)的上游側(cè)和流體處理系統(tǒng)的下游側(cè)關(guān)聯(lián)，即，與流體處理系統(tǒng)的入口和出口關(guān)聯(lián)。獨立的中間室是不同的，即，不延伸成直接流體連通；
[0026]?中間室通至大氣或者暴露于真空；
[0027].在流體處理系統(tǒng)內(nèi)的口和室之間的密封能夠通過各種墊片、O型環(huán)、面對面接觸密封件等來進行；
[0028]?中間室配置成聯(lián)接到排水管；
[0029]?中間室的出口裝有單向閥或護罩(trap)，以防止流體、灰塵、昆蟲及類似物進入到所述中間室中。實質(zhì)上在屏障上沒有壓降；
[0030]?根據(jù)所公開的主題的流體處理系統(tǒng)配置成處理任何流體，即，液體或氣體或其結(jié)合物；
[0031]?根據(jù)所公開的主題的流體處理系統(tǒng)配置成與不同工業(yè)和目的中的不同流體處理應(yīng)用結(jié)合使用，包括但不限于，制藥工業(yè)、醫(yī)藥用途(例如藥物管理等)、食品工業(yè)、化學(xué)工業(yè)等等；
[0032]?流體處理系統(tǒng)，其中該流體處理系統(tǒng)是液體過濾單元。
[0033]附圖簡述 [0034]為了理解本公開的主題以及觀察其在實踐中可以如何實施，現(xiàn)在將參考附圖僅通過非限制性實例的方式來描述實施方式，在附圖中:[0035]圖1是根據(jù)本公開的主題的第一實施例的流體過濾器的頂部透視圖；
[0036]圖2是沿圖1中的線I1-1I的縱向剖面圖；
[0037]圖3是圖2的平面視圖；
[0038]圖4是根據(jù)本公開的主題的另一實施例的流體過濾器的頂部透視圖；
[0039]圖5A是沿圖4中的線V-V的縱向剖面圖；
[0040]圖5B是圖5A中標記為VI的部分的放大圖；
[0041]圖6是根據(jù)本公開的主題的另一實施例的又一種流體過濾器的頂部透視圖；
[0042]圖7是沿圖6中的線VI1-VII的縱向剖面圖；
[0043]圖8是示出了流體處理系統(tǒng)的不同構(gòu)造的示意表示，其中:
[0044]圖8A示出了包括與入口和出口共通的中間室的流體處理系統(tǒng)；
[0045]圖SB示出了包括與入口及出口獨立地關(guān)聯(lián)的中間室的流體處理系統(tǒng)；
[0046]圖SC示出了包括與出口及兩個入口獨立地關(guān)聯(lián)的中間室的流體處理系統(tǒng)；以及
[0047]圖9是根據(jù)所公開的主題的不同的流體處理系統(tǒng)的一部分的表示。
[0048]實施方式的詳細描述
[0049]首先針對附圖的圖1到圖3和圖8A加以注意，示出了流體處理系統(tǒng)即通常標記為10的液體過濾單元。
[0050]流體處理系統(tǒng)10包括配置有流體入口 14 (原流體入口)的圓柱形殼體12，流體入口 14配置在殼體12的底部部分處并延伸到原流體室16中。配置有流體出口 20的流體處理室18在殼體12的上部部分處延伸。然而，應(yīng)理解，流體流動也可能在相反的方向進行。[0051 ] 配置的一對過濾模塊24在原流體室16和流體處理室18之間延伸，該對過濾模塊24具有在原流體室16內(nèi)延伸的入口 26，所述入口 26延伸到過濾模塊24中的每個的過濾空間28中。
[0052]應(yīng)理解，過濾模塊24可以為任何類型的過濾模塊，例如盤型過濾模塊、樁型過濾模塊、螺紋式過濾模塊、屏式過濾模塊等等。
[0053]還應(yīng)理解，過濾模塊的數(shù)量和構(gòu)造可以變化并且除了過濾模塊之外，還可以設(shè)置一個或多個其他流體處理單元，例如混合器及類似物。
[0054]還應(yīng)注意，流體處理室18通過兩個隔板水平面(即，壁)，即隔板32和隔板34，與原流體室16分離,從而在隔板32和34之間界定了中間室38。
[0055]中間室38通過多個密封構(gòu)件與原流體室16并且同樣地與流體處理室18密封地分離，本實例中的密封構(gòu)件是在較低隔板34和原流體室16的相應(yīng)部分之間延伸的以及同樣地在較高隔板32和流體處理室18的相應(yīng)部分之間延伸的O型環(huán)40和42。然而，應(yīng)理解，可以提供不同的密封方法，例如墊片、面對面密封接觸等。
[0056]出口 46從中間室38延伸，通至大氣并且配置有外螺紋48，外螺紋48配置成聯(lián)接到排水管(未示出)或屏障以防止液體、灰塵、昆蟲及類似物出來。
[0057]本公開的裝置使得原流體通過流體入口 14進入，流經(jīng)原流體室16，流經(jīng)過濾模塊24的入口 26，其中流體經(jīng)受通過對其加壓使透過過濾模塊24流到流體處理室18的過濾，并且然后經(jīng)過流體出口 20離開過濾處理系統(tǒng)10。流體流動路徑在附圖中通過實線箭頭表
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[0058]在原流體室16和中間室38之間延伸的、和/或在流體處理室18和中間室38之間延伸的、和/或在過濾模塊24的支撐部和中間空間38之間延伸的密封裝置之間泄漏的情況下，任何泄漏流體必將從高壓區(qū)流至低壓區(qū)，即，流入到通至大氣的中間室38中。
[0059]然而，應(yīng)理解，除了通至大氣之外，中間室38還可以置于低壓，即真空。
[0060]在圖2和圖3中，一組實線箭頭表示在正常的過濾過程中的流體流動，流體經(jīng)由入口 14進入流體處理系統(tǒng)10的原流體室16，并且接著進入到過濾模塊24，其中流體在壓力下穿過過濾介質(zhì)并且從過濾空間28出來進入到流體處理室18中，并且接著經(jīng)過出口 20離開系統(tǒng)。然而，在泄漏的情況下，例如由于O型環(huán)40或42的失效或擠壓，或由于在組件的密封部件之間的灰塵的存在，流體可能如虛線箭頭所示的，從原流體室16和/或流體處理室18或過濾模塊24的附近泄漏到中間室38中并且經(jīng)過口 48從那里出來。
[0061]圖1-3中所公開的裝置在圖8A的框圖中被示意性表示，其中實線箭頭線表示受壓流體在其處理的過程中在流體處理系統(tǒng)10內(nèi)的流動，且虛線箭頭線表示在任一 /或原流體室、流體處理室或過濾模塊之間的泄漏，如上文所討論的。
[0062]如圖8A中所表示的，入口 14和原流體室16處的壓力P入、以及在流體處理室18處的壓力Pt?；蛘叱隹趬毫 a比在中間室38處的壓力Ps高，即:
[0063]P入>PS〈P 出
[0064]并且同樣地，
[0065]P入〉Ptc ≤P出
[0066]現(xiàn)在針對附圖的圖4、圖5A、圖5B和圖8B，針對通常被標記為70的流體處理系統(tǒng)的另一實例加以注意。該流體處理系統(tǒng)70類似于結(jié)合圖1和圖2公開的流體處理系統(tǒng)，然而有一些不同，如將在下文中討論的。
[0067]流體處理系統(tǒng)70包括配置`有流體入口 74 (原流體入口)的圓柱形殼體72，流體入口 74配置在殼體72的底部部分處并且延伸到原流體室76中。配置有流體出口 80的流體處理室78在殼體72的上部部分處延伸。然而應(yīng)理解，流體流動也可能在相反的方向進行。
[0068]配置的一對過濾模塊84在原流體室76和流體處理室78之間延伸，該對過濾模塊84具有在原流體室76內(nèi)延伸的入口 86，所述入口 86延伸到過濾模塊84中的每一個的過濾空間88中。
[0069]如結(jié)合圖1和圖2的實例所討論的，應(yīng)理解，過濾模塊84可以為任何類型的過濾模塊，例如盤型過濾模塊、樁型過濾模塊、螺紋式過濾模塊、屏式過濾模塊等等。此外，過濾模塊的數(shù)量和構(gòu)造可以變化并且除了過濾模塊之外，還可以設(shè)置一種或多種其他流體處理單元，例如混合器及類似物。
[0070]還應(yīng)注意，流體處理室78通過三個隔板水平面(即，壁)，即隔板92、隔板94和隔板96，與原流體室76分離，從而在隔板92、94和96之間界定了兩個中間室，即與原流體室76關(guān)聯(lián)的第一中間室98、以及與過濾模塊84的聯(lián)接部分和流體處理室78關(guān)聯(lián)的第二中間室100。
[0071]第一中間室98與原流體室76密封地分離并且第二中間室100與流體處理室78密封地分離，且同樣地所述第一中間室98與第二中間室100密封地分離，這通過多個密封構(gòu)件來完成，本實施例中的密封構(gòu)件是O型環(huán)112、114、116和118。然而，應(yīng)理解，可以提供不同的密封方法，例如墊片、面對面密封接觸等。
[0072]兩個出口 126從第一中間室98延伸，通至大氣并且配置有外螺紋128，外螺紋128配置成聯(lián)接到排水管(未示出)或屏障以防止液體、灰塵、昆蟲及類似物出來。兩個出口 130從第二中間室100延伸，通至大氣，也配置有外螺紋128。
[0073]所公開的實施例的裝置使得原流體通過流體入口 74進入，流過原流體室76，流過過濾模塊84的入口 86，其中流體經(jīng)受通過對其加壓使透過過濾模塊84流到流體處理室78的過濾，并且接著經(jīng)過流體出口 80離開過濾處理系統(tǒng)70。流體流動路徑在附圖中通過實線箭頭表示。
[0074]在原流體室76和第一中間室98之間延伸的、和/或在流體處理室78和第二中間室100之間延伸的、和/或在第一中間室及第二中間室中的任一個和過濾模塊84的支撐部之間延伸的密封裝置(即，O型環(huán))之間泄漏的情況下，任何泄漏流體必將從高壓區(qū)流至低壓區(qū)，即，或者流入到第一中間室98中或者流入到第二中間室100中，第一中間室98和第二中間室100通至大氣。
[0075]然而，應(yīng)理解，除了通至大氣之外，第一中間室98和第二中間室100中任一個或者兩者都可以置于低壓，即真空。
[0076]在圖5中，一組實線箭頭表示在正常的過濾過程中的流體流動，流體經(jīng)由入口 74進入流體處理系統(tǒng)70的原流體室76，并且接著進入到過濾模塊84中，其中流體在壓力下穿過過濾介質(zhì)并且從過濾空間88出來進入到流體處理室78，并且接著通過出口 80離開系統(tǒng)。然而，在泄漏的情況下，例如由于O型環(huán)112、114、116和118中的任一個或多個的失效或擠壓，或由于在組件的密封部件之間的灰塵的存在，流體可能如由虛線箭頭所示的，從原流體室76和/或流體處理室78或過濾模塊84的附近分別泄漏到中間室98和100，且穿過各自的口 126和130從那里出來。
[0077]圖4和圖5中所公開的裝置在圖SB的框圖中被示意性表示，其中實線箭頭線表示受壓流體在其處理過程中在流體處理系統(tǒng)70內(nèi)的流動，且虛線箭頭線表示在任一 /或原流體室、流體處理室或過濾模塊之間的泄漏，如上文所討論的。
[0078]與入口室和流體處理室中的每一個(或流體處理系統(tǒng)中的任何其他室)關(guān)聯(lián)的中間室的提供便于泄漏的容易識別和區(qū)分以及其與各自的源的關(guān)聯(lián)。
[0079]如圖8B中所表示的，在入口 74處和原流體室76處的壓力P人、以及在流體處理室78處的壓力Pt。或者出口壓力P &分別比在中間室98和100處的壓力Psl和Ps2高，即:
[0080]P 入〉Psl ;Ps2〈P 出
[0081]這也可以表示為:
[0082]P 入〉Psl ≈Ps2〈P 出
[0083]并且同樣地:
[0084]P入〉Ptc ≥ P出
[0085]在圖6和圖7中示出的、以及圖8C中示意性表示的實施方式涉及包括圓柱形殼體122的流體處理系統(tǒng)120，圓柱形殼體122配置有在殼體122的底部部分處并且延伸到第一原流體室126中的第一流體入口 124 (第一原流體入口)。在殼體122的頂部部分處并且延伸到第二原流體室130中的第二流體入口 128 (第二原流體入口)在殼體122的上部部分處延伸。
[0086]流體處理室148在第一原流體室126和第二流體入口 128之間延伸，所述流體處理室148配置有流體出口 150。然而要理解的是，流體流動也可能在相反的方向進行(B卩，穿過口 150進入并且穿過口 124及128中的一個或兩個出去)。
[0087]配置的一對過濾模塊156在第一原流體室126和第二原流體室130之間的流體處理室148內(nèi)延伸，各自具有在第一原流體室126內(nèi)延伸的底部入口 158和在第一原流體室126內(nèi)延伸的頂部入口 162，所述入口 158和126延伸到過濾模塊156中的每一個的過濾空間164中。
[0088]如結(jié)合圖1至圖6的實施例所討論的，應(yīng)理解，過濾模塊可以為任何類型的過濾模塊，例如盤型過濾模塊、樁型過濾模塊、螺紋式過濾模塊、屏式過濾模塊等等。此外，過濾模塊的數(shù)量和構(gòu)造可以變化并且除了過濾模塊之外，還可以設(shè)置一個或多個其他流體處理單元，例如混合器及類似物。
[0089]還應(yīng)注意，流體處理室148通過三個隔板水平面(即，壁)即隔板170、172和174，與第一原流體室126分離，從而在隔板170、172和174之間界定了兩個中間室，即與第一原流體室126關(guān)聯(lián)的第一中間室176、以及與過濾模塊156的聯(lián)接部分和流體處理室148關(guān)聯(lián)的第二中間室178。同樣地，流體處理室148通過三個隔板水平面(B卩，壁)即隔板180、182和184,與第二原流體室126分離，因此在隔板180、182和184之間界定了兩個中間室，即與第二原流體室126關(guān)聯(lián)的第三中間室190、以及與過濾模塊156的聯(lián)接部分和流體處理室148關(guān)聯(lián)的第四中間室192。
[0090]第一中間室176與第一原流體室126密封地分離并且第二中間室178與流體處理室148密封地分離，且同樣地，所述第一中間室176與第二中間室178密封地分離，這通過多個密封構(gòu)件來完成，本實施例中的密封構(gòu)件是O型環(huán)202、204、206和208。同樣地，第三中間室190與第二原流體室130密封地分離并且第四中間室192與流體處理室148密封地分離，且所述第三中間室190與第四中間室192密封地分離，這通過多個密封構(gòu)件來完成，本實施例中的密封構(gòu)件分別是O型環(huán)210、212、214和216。
[0091]然而，應(yīng)理解，可以提供不同的密封方法，例如墊片、面對面密封接觸等。
[0092]兩個出口 220從第一中間室176延伸，通至大氣并且配置有外螺紋222，外螺紋222配置成聯(lián)接到排水管(未示出)或屏障以防止液體、灰塵、昆蟲及類似物出來。然而，屏障實質(zhì)上不造成壓頭損失。兩個出口 226從第二中間室178延伸，通至大氣，也配置有外螺紋228。類似地，第三中間室190配置有兩個出口 230，該兩個出口 230通至大氣并且配置有外螺紋232，該外螺紋232配置成聯(lián)接到排水管(未示出)或屏障以防止液體、灰塵、昆蟲及類似物出來。兩個出口 230從第四中間室192延伸，通至大氣，還配置有外螺紋232。
[0093]本公開的裝置使得原流體分別穿過第一流體入口 124和第二入口 128進入，流過第一原流體室126和第二原流體室130，接著流過過濾模塊156的入口 158及162，其中流體經(jīng)受通過對其加壓使透過過濾模塊156流至流體處理室148的過濾，并且接著穿過流體出口 150離開過濾處理系統(tǒng)120。流體流動路徑在附圖中通過實線箭頭表示。
[0094]在第一原流體室126和第一中間室176之間延伸的、和/或在流體處理室148和第二中間室178之間延伸的、和/或在第一中間室及第二中間室中的任一個和過濾模塊156的支撐部之間延伸的、或者在第二原流體室130和第三中間室190之間延伸的、和/或在流體處理室148和第四中間室192之間延伸的、和/或在第三中間室及第四中間室中的任一個和過濾模塊156的支撐部之間延伸的密封裝置(即，O型環(huán))之間泄漏的情況下，任何泄漏流體必將從高壓區(qū)流至低壓區(qū)，即，流入到通至大氣的相應(yīng)中間室中的任一個或多個中。[0095]然而，應(yīng)理解，除了通至大氣之外，第一中間室98、100、190和192中的任一個或多
個都能夠置于比大氣壓力低，即，真空。
[0096]在圖7中，一組實線箭頭表示在正常的過濾過程中的流體流動，流體經(jīng)由流體處理系統(tǒng)120的第一入口 124進入第一原流體室126且經(jīng)由流體處理系統(tǒng)120的第二入口128進入第二原流體室130，并且接著進入到過濾模塊156中，其中流體在壓力下穿過過濾介質(zhì)并且從過濾空間164出來進入到流體處理室148中，并且接著穿過出口 150離開系統(tǒng)。然而在泄漏的情況下，例如由于O型環(huán)200、202、204、206、210、212、214和216中的任一個或多個的失效或擠壓，或由于在組件的密封部件之間的灰塵的存在，流體可能如由虛線箭頭所示的，從原流體室126和130、和/或流體處理室148或過濾模塊156的附近分別泄漏到中間室176、178、190和192中，且通過各自的口 122、226、230和234從那里排出。
[0097]圖6和圖7中所公開的裝置在圖SC的框圖中被示意性表示，其中實線箭頭線表示受壓流體在其處理過程中在流體處理系統(tǒng)120內(nèi)的流動，并且虛線箭頭線表示在任一 /或原流體室、流體處理室或過濾模塊之間的泄漏，如上文所討論的。
[0098]與入口室和流體處理室中的每一個(或流體處理系統(tǒng)的任何其他室)關(guān)聯(lián)的中間室的提供便于泄漏的容易識別和區(qū)分以及其與各自的源的關(guān)聯(lián)。
[0099]如圖8C中所表示的，第一原流體室126的壓力Ρλ1、在第二原流體室130處的壓力P^2以及在流體處理室148處的壓力Pt?；蛘叱隹趬毫出比在各自的中間室176、178、190和192處的壓力Psl> Ps2> Ps3和Ps4高，即:
[0100]Ρλ ^Psl ;Ps2〈P 出
[0101]P 入 2>Ps4;Ps3〈P 出
[0102]該裝置保證在流體處理系統(tǒng)內(nèi)的任`何位置處發(fā)生的泄漏將從高壓區(qū)流至低壓區(qū)，并且還便于泄漏的容易識別和區(qū)分以及其與各自的源的關(guān)聯(lián)。
[0103]現(xiàn)在參考圖9，其示出了根據(jù)所公開的主題的不同的流體處理系統(tǒng)的一部分，即通常標記為250的流體混合器?；旌掀靼んw254,殼體254分成平行地延伸并且相互密封的三個室256、258和260，然而每個室分別配置有入口 264、266和268。壓力帽264A、266A和268A分別配置在每個室內(nèi)，以用于在相對壓力下保持每個室內(nèi)含有的流體。
[0104]混合器軸270穿過殼體254并且穿過三個室256、258和260中的每一個室延伸。密封元件(實施例中的O型環(huán))274可旋轉(zhuǎn)地支撐混合器軸270并且對在室之間的通道進行密封。通風(fēng)的中間室在相鄰的室之間延伸(通風(fēng)的中間室282在室256和258之間延伸；通風(fēng)的中間室284在室258和260之間延伸；以及通風(fēng)的中間室285在室260和殼體之間延伸)。通風(fēng)室282和284中的每一個分別配置有出口 286、288和290。
[0105]混合器軸270的旋轉(zhuǎn)伴有混合器葉片(未示出，配置成安裝在容器279處)的旋轉(zhuǎn)，這導(dǎo)致室256、258和260內(nèi)包含的流體的混合。
[0106]然而，在支撐往復(fù)式混合器軸270的O型環(huán)中的任一個的附近處發(fā)生泄漏的情況下，泄漏流體將流入到各自的通風(fēng)中間室282、284或285中并且將接著穿過各自的出口286、288或290流出混合器250。
[0107]作為例證，超越密封構(gòu)件(即O型環(huán)274)的泄漏流體將從室內(nèi)的高壓區(qū)流至存在于各自的中間室內(nèi)的低壓區(qū)并且從那離開系統(tǒng)。
[0108]雖然上文公開的實施例中提及的流體處理系統(tǒng)是過濾單元，但應(yīng)理解，所公開的 主題可配置成任何流體處理系統(tǒng)，例如醫(yī)藥管理設(shè)備、流體混合器、流體化學(xué)處理設(shè)備等。
【權(quán)利要求】
1.一種流體處理系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口流體連通，且至少一個中間室布置在所述流體處理室及出口中的至少一個與至少一個入口之間；其中所述至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中該裝置使得在每個相應(yīng)入口處的壓力P入、以及在所述流體處理室處的壓力Ptc或在所述出口處的壓力PaK在所述至少一個中間室處的壓力Ps高。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體處理系統(tǒng)，其中在所述流體處理室處的壓力Ptc與在所述出口處的壓力P出大體相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述液體處理室和所述至少一個出口直接流體連通并且處于大體相同的壓力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中，中間室與所述流體處理系統(tǒng)的上游側(cè)和所述流體處理系統(tǒng)的下游側(cè)共通。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中獨立的中間室與所述流體處理系統(tǒng)的上游側(cè)和所述流體處理系統(tǒng)的下游側(cè)中的每一個關(guān)聯(lián)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述獨立的中間室是不同的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室通至大氣。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室暴露于真空。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室配置成聯(lián)接到排水管。`
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室的出口裝有單向閥。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述流體處理系統(tǒng)配置成處理任何流體。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述流體處理系統(tǒng)是液體過濾單元。
14.一種流體過濾系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口流體連通，且至少一個中間室布置在所述流體處理室及所述至少一個流體出口中的至少一個與至少一個入口之間；其中所述至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流體過濾系統(tǒng)，其中該裝置使得在每個相應(yīng)入口處的壓力Ρλ>以及在所述流體處理室處的壓力Ptc或在所述出口處的壓力Pa比在所述至少一個中間室處的壓力Ps高。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述流體入口延伸到原流體室中，并且其中至少一個過濾模塊在所述原流體室和所述至少一個流體處理室之間延伸。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述至少一個流體處理室通過至少兩個隔板壁與所述原流體室分離。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述至少兩個隔板壁大體上是互相平行的。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述至少兩個隔板壁界定在其間的空間，從而界定所述至少一個中間室。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的流體系統(tǒng)，其中設(shè)置有至少三個隔板壁，從而界定在其間的至少兩 個中間室。
【文檔編號】B01D29/11GK103889539SQ201280051646
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2012年11月14日 優(yōu)先權(quán)日:2011年11月14日
【發(fā)明者】約拉姆·本托爾, 拉阿南·本-霍林 申請人:阿米亞德過濾系統(tǒng)公司