氣液反應(yīng)分布攪拌裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，包括罩形轉(zhuǎn)盤和進氣管，該罩形轉(zhuǎn)盤的罩體上制出一組氣孔，罩形轉(zhuǎn)盤同軸轉(zhuǎn)動安裝在進氣管的上端，進氣管的側(cè)壁上制出多排出氣支管，該出氣支管均與進氣管相連通且位于罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)部，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上安裝一組擋板，每排出氣支管對應(yīng)一個擋板。本發(fā)明是一種設(shè)計巧妙、結(jié)構(gòu)合理的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，本分布攪拌裝置采用氣流沖擊作為動力，工作過程中環(huán)保無能耗，可降低生產(chǎn)成本，并符合節(jié)能環(huán)保的趨勢。此外，使用本分布攪拌裝置可以增加反應(yīng)塔底部氣液接觸機會、改善反應(yīng)效果。
【專利說明】氣液反應(yīng)分布損拌裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及氣液反應(yīng)領(lǐng)域中的輔助設(shè)備，尤其是一種氣液反應(yīng)分布攪拌裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]氣液反應(yīng)是化工生產(chǎn)中很常見的反應(yīng)，如苯甲酸的生產(chǎn)方式就是將甲苯溶液加入反應(yīng)塔內(nèi)，然后向反應(yīng)塔內(nèi)通入空氣進行氧化催化反應(yīng)，最終生成苯甲酸。氣液反應(yīng)通常在反應(yīng)塔中完成，現(xiàn)有的反應(yīng)塔都是在塔體下部安裝氣體分布器并通入空氣，由于現(xiàn)有的氣體分布器主要靠氣體的噴射，因此氣液混合效果較差，形成的氣泡較大、較少，氣液接觸表面積較少，導(dǎo)致反應(yīng)不完全，最終影響產(chǎn)品質(zhì)量以及生產(chǎn)速度。若縮小進氣管出口的孔徑，并打入高壓空氣，雖可制造小氣泡，但是其阻力及能耗大，不易實現(xiàn)。目前 申請人:已研發(fā)出一種新型氣體分布器，該分布器可保證氣液反應(yīng)效果，但是由于其使用電機提供動力，因此存在能耗。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種能夠保證反應(yīng)效果且沒有能耗的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置。
[0004]本發(fā)明解決其技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0005]一種氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，包括罩形轉(zhuǎn)盤和進氣管，該罩形轉(zhuǎn)盤的罩體上制出一組氣孔，其特征在于:罩形轉(zhuǎn)盤同軸轉(zhuǎn)動安裝在進氣管的上端，進氣管的側(cè)壁上制出多排出氣支管，該出氣支管均與進氣管相連通且位于罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)部，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上安裝一組擋板，每排出氣支管對應(yīng)一個擋板。
[0006]而且，所述的氣孔制在罩形轉(zhuǎn)盤罩體的頂板和\或側(cè)壁上。
[0007]而且，所述的進氣管為L形管，該L形管的豎直段伸入罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)，該豎直段的上端與罩形轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動連接，出氣支管均安裝在豎直段上且與豎直段內(nèi)部相連通。
[0008]而且，所述的進氣管的側(cè)壁上沿周向均布制出四排出氣支管，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上沿周向均布安裝四個擋板，該擋板均豎直設(shè)置。
[0009]而且，每排出氣支管與各自的擋板之間均形成一個氣流沖擊區(qū)域，氣孔設(shè)置在遠離該區(qū)域的罩形轉(zhuǎn)盤罩體側(cè)壁和\或頂板上。
[0010]而且，所述進氣管軸心到出氣支管最外沿的距離小于軸心到擋板的距離。
[0011]而且，所述擋板與罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)側(cè)壁之間的夾角為50-70度。
[0012]而且，所述出氣支管的出口角度為50-70度。
[0013]本發(fā)明的優(yōu)點和有益效果為:
[0014]1、本分布攪拌裝置進氣管的側(cè)壁上制出多排出氣支管，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上安裝一組擋板，每排出氣支管對應(yīng)一個擋板。從出氣支管中排出的空氣對擋板進行沖擊形成推力，推動擋板轉(zhuǎn)動，最終帶動罩形轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，本裝置中罩形轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動靠氣流沖擊，由于不使用電機等設(shè)備，因此本裝置沒有能耗，符合節(jié)能環(huán)保的趨勢。[0015]2、本分布攪拌裝置的罩形轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時，在罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)部形成負壓，因此進入塔體的空氣即可從罩體上的氣孔中高速甩出，形成大量小氣泡，從而改善反應(yīng)效果、提高反應(yīng)速度。
[0016]3、罩形轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)還起到攪拌作用，不但使氣體得到了充分分散，而且還增加了反應(yīng)塔底部氣液接觸機會，保證了氣液充分反應(yīng)、保障了反應(yīng)效果。
[0017]4、本發(fā)明是一種設(shè)計巧妙、結(jié)構(gòu)合理的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，本分布攪拌裝置采用氣流沖擊作為動力，工作過程中環(huán)保無能耗，可降低生產(chǎn)成本，并符合節(jié)能環(huán)保的趨勢。此外，使用本分布攪拌裝置可以增加反應(yīng)塔底部氣液接觸機會、改善反應(yīng)效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是本發(fā)明的主視圖；
[0019]圖2是圖1的剖視圖；
[0020]圖3是圖1的俯視示意圖一(去掉罩形轉(zhuǎn)盤的上端面)；
[0021]圖4是圖1的俯視示意圖二 (去掉罩形轉(zhuǎn)盤的上端面)。
【具體實施方式】
[0022]下面通過具體實施例對本發(fā)明作進一步詳述，以下實施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本發(fā)明的保護范圍。
[0023]一種氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，包括罩形轉(zhuǎn)盤2和進氣管3，該罩形轉(zhuǎn)盤的罩體上制出一組氣孔1，該氣孔制在罩形轉(zhuǎn)盤罩體的頂板和\或側(cè)壁上，氣孔數(shù)量不限，直徑可根據(jù)需要調(diào)整。
[0024]本發(fā)明的創(chuàng)新點在于:罩形轉(zhuǎn)盤同軸轉(zhuǎn)動安裝在進氣管的上端，進氣管的側(cè)壁上制出多排出氣支管4，如圖3和圖4所示，出氣支管形狀不限。該出氣支管均與進氣管相連通且位于罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)部。其具體連接結(jié)構(gòu)為:進氣管為L形管，該L形管的豎直段伸入罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)，該豎直段的上端與罩形轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動連接，出氣支管均安裝在豎直段上且與豎直段內(nèi)部相連通。
[0025]罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上安裝一組擋板5，每排出氣支管對應(yīng)一個擋板。擋板與罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)側(cè)壁之間的夾角為50-70度，出氣支管的出口角度也為50-70度，進氣管軸心到出氣支管最外沿的距離小于軸心到擋板的距離，以避免旋轉(zhuǎn)時擋板與出氣支管發(fā)生碰撞。擋板的數(shù)量以及出氣支管的排數(shù)不限，本實施例中，進氣管的側(cè)壁上沿周向均布制出四排出氣支管，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上沿周向均布安裝四個擋板，該擋板均豎直設(shè)置。每排出氣支管與各自的擋板之間均形成一個氣流沖擊區(qū)域6，氣孔設(shè)置在遠離該區(qū)域的罩形轉(zhuǎn)盤罩體側(cè)壁和\或頂板上。
[0026]本發(fā)明的工作原理是:
[0027]空氣由進氣管進入，從出氣支管中排出，排出的空氣對擋板進行沖擊形成推力，推動擋板轉(zhuǎn)動，最終帶動罩形轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，從而對反應(yīng)塔底部的混合物進行攪拌，加快反應(yīng)進度。
[0028]罩形轉(zhuǎn)盤在轉(zhuǎn)動過程中，空氣經(jīng)罩體上的氣孔甩出，形成大量密集的小氣泡，從而改善了反應(yīng)效果、提高了反應(yīng)速度。
【權(quán)利要求】
1.一種氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，包括罩形轉(zhuǎn)盤和進氣管，該罩形轉(zhuǎn)盤的罩體上制出一組氣孔，其特征在于:罩形轉(zhuǎn)盤同軸轉(zhuǎn)動安裝在進氣管的上端，進氣管的側(cè)壁上制出多排出氣支管，該出氣支管均與進氣管相連通且位于罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)部，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上安裝一組擋板，每排出氣支管對應(yīng)一個擋板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:所述的氣孔制在罩形轉(zhuǎn)盤罩體的頂板和\或側(cè)壁上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:所述的進氣管為L形管，該L形管的豎直段伸入罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)，該豎直段的上端與罩形轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動連接，出氣支管均安裝在豎直段上且與豎直段內(nèi)部相連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:所述的進氣管的側(cè)壁上沿周向均布制出四排出氣支管，罩形轉(zhuǎn)盤的內(nèi)側(cè)壁上沿周向均布安裝四個擋板，該擋板均豎直設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:每排出氣支管與各自的擋板之間均形成一個氣流沖擊區(qū)域，氣孔設(shè)置在遠離該區(qū)域的罩形轉(zhuǎn)盤罩體側(cè)壁和\或頂板上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:所述進氣管軸心到出氣支管最外沿的距離小于軸心到擋板的距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:所述擋板與罩形轉(zhuǎn)盤內(nèi)側(cè)壁之間的夾角為50-70度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣液反應(yīng)分布攪拌裝置，其特征在于:所述出氣支管的出口角度為50-70度。
【文檔編號】B01J19/26GK103801250SQ201310553359
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年11月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月8日
【發(fā)明者】王昶, 趙富貴 申請人:天津科技大學(xué), 天津東大化工集團有限公司