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      大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置制造方法

      文檔序號(hào):4926091閱讀:199來(lái)源:國(guó)知局
      大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明屬于空分精餾設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】,涉及一種大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置。它解決了現(xiàn)有氣體分布裝置氣流分布不均勻等問(wèn)題。本大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,設(shè)置在具有進(jìn)氣通道的塔式容器內(nèi),包括具有中心通道的內(nèi)筒,所述的內(nèi)筒的兩端部分別設(shè)有呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的頂板和底板,且內(nèi)筒、頂板和底板能與塔式容器的塔壁合圍形成封閉的環(huán)形氣體通道,所述的環(huán)形氣體通道內(nèi)豎直設(shè)有能將該環(huán)形氣體通道隔斷的導(dǎo)流機(jī)構(gòu),所述的導(dǎo)流結(jié)構(gòu)的對(duì)稱軸位于塔式容器進(jìn)氣通道的中心截面上,所述的頂板上均勻設(shè)有若干出氣結(jié)構(gòu),所述的底板上設(shè)有若干周向均勻分布的均布孔。本發(fā)明的主要優(yōu)點(diǎn)在于:能夠?qū)崿F(xiàn)氣體均勻分布,防止渦流現(xiàn)象發(fā)生。
      【專利說(shuō)明】大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明屬于空分精餾設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】,涉及氣體分布裝置,尤其是涉及一種大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]隨著我國(guó)工業(yè)的快速發(fā)展,鋼鐵冶煉、石油化工、煤化工、大化肥等企業(yè)對(duì)氧氬氮的需求量急劇增加,從而帶動(dòng)精餾塔向著大型及特大型化發(fā)展,而氣體和液體在塔內(nèi)的均勻分布是塔器放大的主要問(wèn)題。同時(shí),隨著填料技術(shù)的不斷進(jìn)步,大空隙率、低壓降新型高效填料的開(kāi)發(fā),都對(duì)氣體初始分布的要求越來(lái)越高,氣體分布裝置的優(yōu)劣直接影響塔器精餾效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
      [0003]目前,對(duì)于精餾設(shè)備中氣體均布主要通過(guò)開(kāi)孔或加導(dǎo)流板的直管,或者是加導(dǎo)流板的環(huán)流型氣體分布裝置來(lái)實(shí)現(xiàn),由于氣體從不同位置的小孔或?qū)Я靼辶鞒觯ㄟ^(guò)每個(gè)小孔或?qū)Я靼宓牧髁烤煌?,并且分布器蓋板上方有大面積的渦流存在,所以此類分布器較難達(dá)到很好的氣體均布效果。同時(shí),此類氣體分布器進(jìn)口管截面的氣體分布均勻度對(duì)分布器的分布效果也有很大的影響,因此,對(duì)進(jìn)口管前的管路布置也有一定的要求,增加了管路布置的復(fù)雜程度,同時(shí)也增加了人力和物力的消耗。
      [0004]為了改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,人們進(jìn)行了長(zhǎng)期的探索,提出了各種各樣的解決方案。例如,中國(guó)專利文獻(xiàn)公開(kāi)了一種塔器的氣體分布裝置[申請(qǐng)?zhí)?201220320561.6],包括由至少一組合件組成的氣體分布層,組合件包括第一環(huán)體、第二環(huán)體、第三環(huán)體和第四環(huán)體,第一環(huán)體的外壁通過(guò)第一支板、第二支板、第三支板分別與第二環(huán)體、第三環(huán)體和第四環(huán)體的外壁相連,所述第二環(huán)體的外壁通過(guò)第四支板與第三環(huán)體的外壁相連,第三環(huán)體的外壁通過(guò)第五支板與第四環(huán)體的外壁相連,第一環(huán)體和第三環(huán)體的外壁上均布有三個(gè)支腳,第三環(huán)體的其中一支腳上設(shè)有凸鎖槽,第二環(huán)體和第四環(huán)體的外壁上均布有四個(gè)支腳,第二環(huán)體的其中一支腳上設(shè)有與所述凸鎖槽相匹配的凸鎖扣。
      [0005]上述方案對(duì)現(xiàn)有塔器的氣體分布技術(shù)有所改善,一定程度上使得氣體分布較均勻,提高了填料和塔器的使用效率。然而,上述方案不僅結(jié)構(gòu)復(fù)雜,氣流損耗嚴(yán)重,增加了設(shè)備成本,而且均布效果不佳,容易發(fā)生偏流,同時(shí)塔器內(nèi)容易產(chǎn)生渦流現(xiàn)象。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006]本發(fā)明的目的是針對(duì)上述問(wèn)題,提供一種設(shè)計(jì)合理,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能夠?qū)崿F(xiàn)氣體的均勻分布,防止渦流現(xiàn)象發(fā)生,減少預(yù)分布空間,節(jié)約投資成本的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置。該裝置適用于多種形式的塔式容器,并克服了分布裝置進(jìn)口管截面的氣體分布均勻度對(duì)分布裝置分布效果的影響,同時(shí)成功解決了分布裝置蓋板上方存在渦流的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)均布的目的。
      [0007]為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用了下列技術(shù)方案:本大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,設(shè)置在具有進(jìn)氣通道的塔式容器內(nèi),包括具有中心通道的內(nèi)筒,所述的內(nèi)筒的兩端部分別設(shè)有呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的頂板和底板,且內(nèi)筒、頂板和底板能與塔式容器的塔壁合圍形成封閉的環(huán)形氣體通道,所述的環(huán)形氣體通道內(nèi)豎直設(shè)有能將該環(huán)形氣體通道隔斷的導(dǎo)流機(jī)構(gòu),所述的導(dǎo)流結(jié)構(gòu)的對(duì)稱軸位于塔式容器進(jìn)氣通道的中心截面上,所述的頂板上均勻設(shè)有若干出氣結(jié)構(gòu),所述的底板上設(shè)有若干周向均勻分布的均布孔。導(dǎo)流機(jī)構(gòu)的設(shè)置使得氣體的分布均勻,環(huán)形氣體通道內(nèi)氣體的壓力處處相等,能夠有效避免渦流現(xiàn)象發(fā)生。
      [0008]進(jìn)一步地,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,每個(gè)所述的出氣結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在頂板上的開(kāi)孔。這里的出氣結(jié)構(gòu)可以根據(jù)實(shí)際出氣需要采取多種各樣的替代方式,均勻分布的開(kāi)孔能夠使得出氣更加均勻。
      [0009]更進(jìn)一步地,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的開(kāi)孔上端連接有出氣管。出氣管的設(shè)置能夠?qū)怏w形成較好的導(dǎo)流作用。
      [0010]再進(jìn)一步地,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的出氣管上設(shè)有擋液罩。擋液罩的設(shè)置有利于氣液分離,也能夠防止液體倒流,進(jìn)一步減少渦流現(xiàn)象發(fā)生的概率。
      [0011]在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)沿著遠(yuǎn)離內(nèi)筒的方向漸窄。這種結(jié)構(gòu)能夠減少氣體的沿程阻力,達(dá)到更好的導(dǎo)流效果。
      [0012]作為一種較為優(yōu)化的技術(shù)方案,在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)兩側(cè)均具有弧形導(dǎo)流面?;⌒螌?dǎo)流面的設(shè)置能夠使得氣體的沿程阻力降到最低,當(dāng)然,這里的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)也可以根據(jù)導(dǎo)流需要采用其他的替代方式。
      [0013]在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)的中心線位于內(nèi)筒的中心截面上。這種結(jié)構(gòu)能夠保證環(huán)形氣體通道內(nèi)的氣體分布均勻。
      [0014]在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)與內(nèi)筒、頂板和底板通過(guò)焊接結(jié)構(gòu)連接。
      [0015]在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的均布孔沿底板的周向分布有至少兩圈,且每圈均分布均勻。
      [0016]在上述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置中,所述的均布孔呈條狀結(jié)構(gòu)。
      [0017]與現(xiàn)有的技術(shù)相比,本大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置的優(yōu)點(diǎn)在于:1.氣體進(jìn)入分布裝置后將速度全部耗散,使環(huán)形氣體通道內(nèi)氣體的壓力處處相等,不但確保了通過(guò)每個(gè)均布孔的氣體流量相等,而且消除了分布裝置進(jìn)口管截面的氣體分布均勻度對(duì)分布裝置分布效果的影響,使得氣體分布更加均勻;2.底板上設(shè)有周向均勻分布的均布孔,使得進(jìn)入分布裝置后的氣體向下運(yùn)動(dòng),碰到液面后折而向上,充分利用了進(jìn)口管與液面之間的距離,從而減小分布裝置頂部的預(yù)分布空間,使得塔器設(shè)備高度降低,減少了成本;
      3.均布孔的設(shè)置確保了在整個(gè)分布裝置圓周截面上均有等流量的氣體,使得氣體分布更加均勻;4.頂板上設(shè)置有出氣結(jié)構(gòu),使得部分氣體從出氣結(jié)構(gòu)中流出,消除了由于頂板沒(méi)有開(kāi)孔氣體從氣體分布裝置流出后流通面積突然擴(kuò)大而產(chǎn)生的渦流區(qū),使得氣體分布更加均勻。
      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】[0018]圖1是本發(fā)明提供的結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0019]圖2是本發(fā)明提供的主視圖。
      [0020]圖3是本發(fā)明提供的俯視圖。
      [0021]圖4是本發(fā)明提供的圖1中導(dǎo)流機(jī)構(gòu)的A向剖視圖。
      [0022]圖中,中心通道1、內(nèi)筒2、頂板3、底板4、環(huán)形氣體通道5、導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6、弧形導(dǎo)流面61、出氣結(jié)構(gòu)7、開(kāi)孔71、出氣管72、擋液罩73、均布孔8。
      【具體實(shí)施方式】
      [0023]如圖1所示,本大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,設(shè)置在具有進(jìn)氣通道的塔式容器內(nèi),包括具有中心通道I的內(nèi)筒2,上述的內(nèi)筒2的兩端部分別設(shè)有呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的頂板3和底板4,且內(nèi)筒2、頂板3和底板4能與塔式容器的塔壁合圍形成封閉的環(huán)形氣體通道5,在環(huán)形氣體通道5內(nèi)豎直設(shè)有能將該環(huán)形氣體通道5隔斷的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6,導(dǎo)流結(jié)構(gòu)6的對(duì)稱軸位于塔式容器進(jìn)氣通道的中心截面上,在頂板3上均勻設(shè)有若干出氣結(jié)構(gòu)7,在底板4上設(shè)有若干周向均勻分布的均布孔8。導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6的設(shè)置使得氣體的分布均勻,環(huán)形氣體通道5內(nèi)氣體的壓力處處相等,能夠有效避免渦流現(xiàn)象發(fā)生。
      [0024]作為一種較為優(yōu)化的技術(shù)方案,在本實(shí)施例中,每個(gè)上述的出氣結(jié)構(gòu)7包括設(shè)置在頂板3上的開(kāi)孔71,在開(kāi)孔71上端連接有出氣管72,在出氣管72上設(shè)有擋液罩73。這里的出氣結(jié)構(gòu)7可以根據(jù)實(shí)際出氣需要采取多種各樣的替代方式,均勻分布的開(kāi)孔71能夠使得出氣更加均勻。
      [0025]導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6沿著遠(yuǎn)離內(nèi)筒2的方向漸窄,在導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6兩側(cè)均具有弧形導(dǎo)流面61?;⌒螌?dǎo)流面61的設(shè)置能夠使得氣體的沿程阻力降到最低,當(dāng)然,這里的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6也可以根據(jù)導(dǎo)流需要采用其他的替代方式。導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6的中心線位于內(nèi)筒2的中心截面上,上述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6與內(nèi)筒2、頂板3和底板4通過(guò)焊接結(jié)構(gòu)連接,均布孔8沿底板4的周向分布有至少兩圈,且每圈均分布均勻,且均布孔8呈條狀結(jié)構(gòu)。同樣地,這里的均布孔8的結(jié)構(gòu)形狀可以采取多種各樣的替代方式,比如圓形、三角形等,只要有利于氣流的均勻分布即可。
      [0026]本發(fā)明的工作原理簡(jiǎn)單介紹如下:
      [0027]氣體進(jìn)入分布裝置后,被導(dǎo)流結(jié)構(gòu)6隔斷成左右兩部分,分別進(jìn)入到由塔式容器的塔壁與頂板3、底板4和內(nèi)筒2合圍形成的環(huán)形氣體通道5。在氣體的速度全部耗散后,一部分氣體等流量的通過(guò)上述底板4上的每個(gè)均布孔8,發(fā)生向下運(yùn)動(dòng),與塔式容器底部液體碰撞后折而向上運(yùn)動(dòng),經(jīng)過(guò)上述的中心通道I后向分布裝置的頂部塔體擴(kuò)散。另一部分氣體等流量通過(guò)上述頂板3上的每個(gè)出氣結(jié)構(gòu)7后直接向分布裝置的頂部塔體擴(kuò)散。實(shí)現(xiàn)了氣體在塔式容器內(nèi)的均勻分布,防止了渦流現(xiàn)象發(fā)生,減少了預(yù)分布空間,能夠節(jié)約投資成本。
      [0028]本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明精神作舉例說(shuō)明。本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代,但并不會(huì)偏離本發(fā)明的精神或者超越所附權(quán)利要求書(shū)所定義的范圍。
      [0029]盡管本文較多地使用了中心通道1、內(nèi)筒2、頂板3、底板4、環(huán)形氣體通道5、導(dǎo)流機(jī)構(gòu)6、弧形導(dǎo)流面61、出氣結(jié)構(gòu)7、開(kāi)孔71、出氣管72、擋液罩73、均布孔8等術(shù)語(yǔ),但并不排除使用其它術(shù)語(yǔ)的可能性。使用這些術(shù)語(yǔ)僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質(zhì),把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。
      【權(quán)利要求】
      1.一種大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,設(shè)置在具有進(jìn)氣通道的塔式容器內(nèi),包括具有中心通道(I)的內(nèi)筒(2),其特征在于,所述的內(nèi)筒(2)的兩端部分別設(shè)有呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的頂板(3)和底板(4),且內(nèi)筒(2)、頂板(3)和底板(4)能與塔式容器的塔壁合圍形成封閉的環(huán)形氣體通道(5),所述的環(huán)形氣體通道(5)內(nèi)豎直設(shè)有能將該環(huán)形氣體通道(5)隔斷的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)(6),所述的導(dǎo)流結(jié)構(gòu)(6)的對(duì)稱軸位于塔式容器進(jìn)氣通道的中心截面上,所述的頂板(3)上均勻設(shè)有若干出氣結(jié)構(gòu)(7),所述的底板(4)上設(shè)有若干周向均勻分布的均布孔(8)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,每個(gè)所述的出氣結(jié)構(gòu)(7)包括設(shè)置在頂板(3)上的開(kāi)孔(71)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的開(kāi)孔(71)上端連接有出氣管(72)。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的出氣管(72)上設(shè)有擋液罩(73)。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)(6)沿著遠(yuǎn)離內(nèi)筒(2)的方向漸窄。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)(6)兩側(cè)均具有弧形導(dǎo)流面(61 )。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)(6)的中心線位于內(nèi)筒(2)的中心截面上。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的導(dǎo)流機(jī)構(gòu)(6)與內(nèi)筒(2)、頂板(3)和底板(4)通過(guò)焊接結(jié)構(gòu)連接。
      9.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的均布孔(8)沿底板(4)的周向分布有至少兩圈,且每圈均分布均勻。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的大型及特大型塔式容器用新型氣體分布裝置,其特征在于,所述的均布孔(8)呈條狀結(jié)構(gòu)。
      【文檔編號(hào)】B01D3/16GK103657131SQ201310637382
      【公開(kāi)日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年12月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月2日
      【發(fā)明者】陳軼光, 顧燕新, 余曉赟, 孫磊磊 申請(qǐng)人:杭州杭氧股份有限公司
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