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      一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法

      文檔序號(hào):4926102閱讀:309來源:國知局
      一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法,屬于無機(jī)介孔材料制備【技術(shù)領(lǐng)域】,包括以下步驟:1)將三嵌段共聚物加入水中,再加入酸性溶液,攪拌反應(yīng)后,加入正硅酸乙酯,繼續(xù)攪拌反應(yīng),得到反應(yīng)液;2)將反應(yīng)液水熱反應(yīng)后,抽濾,將濾餅洗滌干燥,得到雜合體;3)將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,水熱氧化反應(yīng)后,經(jīng)冷卻、過濾,將濾渣水洗至中性后干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料。本發(fā)明制得的二氧化硅介孔材料不僅完好地保留了無機(jī)骨架的結(jié)構(gòu)和表面性質(zhì),而且結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的去除率可達(dá)到98%以上,產(chǎn)品有序性較好,產(chǎn)品表面具有大量的硅羥基,適于作為色譜填料,且對(duì)有機(jī)小分子混合物具有良好的分離效果。
      【專利說明】一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明屬于無機(jī)介孔材料制備【技術(shù)領(lǐng)域】,涉及一種色譜填料及其制備方法,具體涉及一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]介孔材料是以1992年由Mobil公司開發(fā)的M41S為代表的一類新型的有序介孔材料。介孔材料在現(xiàn)代科學(xué)應(yīng)用中普遍存在并且必不可少。它們被廣泛應(yīng)用在電極材料(電池,超級(jí)電容)中,在分離過程中作為吸附劑和氣體儲(chǔ)存材料,在許多的重要的催化反應(yīng)過程中作為支持材料。其有多種多樣的應(yīng)用不僅與其物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)有關(guān)。近年來,許多先進(jìn)的制備各種材料的技術(shù)脫穎而出,不斷通過組裝方法持續(xù)改進(jìn)和新合成技術(shù)的引入。同時(shí),人們嘗試了利用不同方法制備介孔二氧化硅材料,并且將其作為色譜填料應(yīng)用于分離領(lǐng)域,以期進(jìn)一步提高填料在色譜柱中的穩(wěn)定性和更好的分離效果。
      [0003]有序介孔材料的制備中軟模板(如F127等)的使用必不可少,將模板劑和無機(jī)骨架分離開來是獲得其多孔結(jié)構(gòu)的一個(gè)必不可少的步驟(Angew.Chem.1nt.Ed.,2004, 43:3878-3880)ο新制備的SBA-15和MCM-41中的模板劑通常采用高溫下焙燒的方法除去.這種方法雖然能較好地除掉模板劑,但會(huì)不可避免地引起孔道的收縮,而且除掉模板后孔壁表面硅羥基的數(shù)量也明顯減少。另外,還采用如微波消解(Chem.Commun.,2002,11:1186-1187)、溶劑萃取(J.Catal.,1997,168:194-206)、超臨界 CO2 萃取(Langmuir, 2003,19:3966-3973)、臭氧處理(J.Mater.Chem.,2001,11:589-593)以及先用硫酸處理后再于低溫下焙燒的兩步法(Chem.Mater.,2004, 16:2918-2925)、高錳酸鉀氧化處理(高等學(xué)?;瘜W(xué)學(xué)報(bào), 2007,7,1214 - 1216)等方法除去模板劑.這些方法中有的除模板的效果雖然很好,但是由于需要特殊的儀器或設(shè)備或者實(shí)驗(yàn)條件苛刻而難以得到廣泛應(yīng)用,還有些方法本身較為煩瑣或者需要重復(fù)幾次操作才能獲得較高的模板劑去除率,有的會(huì)產(chǎn)生后續(xù)的固體產(chǎn)物污染材料。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,本發(fā)明的目的在于提供一種介孔二氧化硅色譜填料及其制備方法,該方法操作簡單、對(duì)設(shè)備要求低、模板劑去除率高,生成物的有序性好,并且材料的表面保存有大量的硅羥基。
      [0005]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
      [0006]一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,包括以下步驟:
      [0007]I)將三嵌段共聚物加入水中,攪拌均勻后加入酸性溶液,攪拌反應(yīng)后,加入正硅酸乙酯,在40~50°C下繼續(xù)攪拌反應(yīng),得到反應(yīng)液;其中,三嵌段共聚物、正硅酸乙酯、酸性溶液與水的質(zhì)量比為(I~3): (8~15): (3~8): (100~150);
      [0008]2)將反應(yīng)液在100~150°C下,水熱反應(yīng)后,抽濾,將濾餅洗滌、干燥后,得到雜合體;[0009]3)將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,攪拌均勻后,在60~130°C下水熱氧化反應(yīng)后,再經(jīng)冷卻、過濾,最后將濾渣水洗至中性后干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料;其中,所加入的雜合體與高氯酸銨的質(zhì)量比為(1~3): (0.2~0.7),且每1~3g雜合體加入10~3OmL濃度為6.0~10.0mol/L的硝酸。
      [0010]所述的三嵌段共聚物為三嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物。
      [0011]所述的三嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物為E013P07(iE013、EO17PO85EO17,EO20PO70EO20^ E020P 0 30 E020> EO26PO39EO26^ EO100PO39EO100^ EO106PO70EO106^ eo123po47eo123>EO132PO50EO132' PO19EO33PO19 或 EO39BO47EO39 等中的一種或幾種。
      [0012]步驟1)所述的酸性溶液為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30~37%的鹽酸溶液。
      [0013]步驟1)所述的攪拌反應(yīng)時(shí)間為1~3h,繼續(xù)攪拌反應(yīng)時(shí)間為16~30h。
      [0014]步驟2)所述的水熱反應(yīng)時(shí)間為18~30h。
      [0015]步驟3)所述的水熱氧化反應(yīng)時(shí)間為8~20h。
      [0016]步驟2)、3)所述的干燥是在80~100°C下烘干。
      [0017]一種介孔二氧化硅色譜填料,該介孔二氧化硅色譜填料的孔徑為5.43~6.93nm,外表面積為316~421m2/g,微孔表面積為29~167m2/g,總孔體積為0.48~0.72cm3/g,微孔體積為0.017~0.09cm3/g,介孔率為81%~97%。
      [0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益的技術(shù)效果:
      [0019]本發(fā)明以三嵌段共聚物作為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑,以正硅酸乙酯作為硅源;在微酸性的條件下,硅的前驅(qū)體在結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑存在的條件下發(fā)生自組裝,合成二氧化硅和結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的雜合體;再使用高氯酸氨氧化法將該雜合體中的結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑氧化去除,制得介孔二氧化硅色譜填料。使用本發(fā)明方法制備出的二氧化硅介孔材料不僅完好地保留了無機(jī)骨架的結(jié)構(gòu)和表面性質(zhì),而且結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑的去除率可達(dá)到98%以上;同時(shí),介孔材料表面的硅羥基大量保留,不會(huì)像煅燒等方法除去結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑時(shí)硅羥基會(huì)急劇減少;另外,氧化劑發(fā)生還原反應(yīng)后的產(chǎn)物全部是一些小的氣體分子物質(zhì),不會(huì)產(chǎn)生后續(xù)的固體產(chǎn)物對(duì)固體材料造成不必要的污染。
      [0020]本發(fā)明制得的產(chǎn)品有序性較好,產(chǎn)品表面具有大量的硅羥基,更適于作為色譜填料,且該色譜填料對(duì)有機(jī)小分子混合物具有良好的分離效果。經(jīng)本發(fā)明制得的介孔二氧化硅色譜填料的孔徑為5.43~6.93nm,外表面積為316~421m2/g,微孔表面積為29~167m2/g,總孔體積為0.48~0.72cm3/g,微孔體積為0.017~0.09cm3/g,介孔率為81%~97%。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0021]圖1為本發(fā)明制得的S1-S_150(y)的N2吸脫附等溫線㈧;
      [0022]圖2為本發(fā)明制得的S1-S-150 (y)的BJH孔徑分布曲線⑶;
      [0023]圖3為本發(fā)明實(shí)施例3制得的S1-S_150(100)的透射電鏡照片和傅里葉轉(zhuǎn)換照片,其中,Ca)為透射電鏡照片,(b)為傅里葉轉(zhuǎn)換照片。
      【具體實(shí)施方式】
      [0024]下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說明,所述是對(duì)本發(fā)明的解釋而不是限定。[0025]實(shí)施例1
      [0026]一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,包括以下步驟:
      [0027]I)以EO13PO7tlEO13作為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑,以正硅酸乙酯作為硅源,按EO13PO7tlEO13:正硅酸乙酯:質(zhì)量分?jǐn)?shù)為35%的鹽酸:水=1:8:3:100的質(zhì)量比,將EO13PO7tlEO13加入水中,攪拌均勻后加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為35%的鹽酸,攪拌反應(yīng)Ih后,加入正硅酸乙酯,在50°C下,繼續(xù)攪拌反應(yīng)16h后,得到反應(yīng)液;
      [0028]2)將反應(yīng)液在100°C下,水熱反應(yīng)30h后,抽濾,將濾餅洗滌后,在80°C下干燥后,得到雜合體;
      [0029]3)按雜合體:高氯酸銨:硝酸=Ig:0.2g:12mL的料液比,將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,攪拌均勻后,在60°C下,水熱氧化反應(yīng)14h后,冷卻、過濾,將濾渣水洗至中性后,在80°C下干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料;其中,所述的硝酸的濃度為8.0mol/L。
      [0030]實(shí)施例2
      [0031]一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,包括以下步驟:
      [0032]I)以EO13PO7tlEO13作為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑,以正硅酸乙酯作為硅源,按EO13PO7tlEO13:正硅酸乙酯:質(zhì)量分?jǐn)?shù)為37%的鹽酸冰=2:13:8:115的質(zhì)量比,將EO13PO7tlEO13加入水中,攪拌均勻后加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為37%的鹽酸,攪拌反應(yīng)2h后,加入正硅酸乙酯,在40°C下,繼續(xù)攪拌反應(yīng)30h后,得到反應(yīng)液;
      [0033]2)將反應(yīng)液在120°C下,水熱反應(yīng)22h后,抽濾,將濾餅洗滌后,在90°C下干燥后,得到雜合體;
      [0034]3)按雜合體:高氯酸銨:硝酸=Ig:0.5g:10mL的料液比,將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,攪拌均勻后,在80°C下,水熱氧化反應(yīng)IOh后,冷卻、過濾,將濾渣水洗至中性后,在80°C下干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料;
      [0035]其中,所述的硝酸的濃度為6.0mol/L。
      [0036]實(shí)施例3
      [0037]一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,包括以下步驟:
      [0038]I)以EO17PO85EO17作為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑,以正硅酸乙酯作為硅源,按EO17PO85EO17:正硅酸乙酯:質(zhì)量分?jǐn)?shù)為37%的鹽酸:7jC =1:15:4:100的質(zhì)量比,將EO17PO85EO17加入水中,攪拌均勻后加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為37%的鹽酸,攪拌反應(yīng)3h后,加入正硅酸乙酯,在45°C下,繼續(xù)攪拌反應(yīng)24h后,得到反應(yīng)液;
      [0039]2)將反應(yīng)液在150°C下,水熱反應(yīng)18h后,抽濾,將濾餅洗滌后,在100°C下干燥后,得到雜合體;
      [0040]3)按雜合體:高氯酸銨:硝酸=3g:0.7g:30mL的料液比,將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,攪拌均勻后,在100°c下,水熱氧化反應(yīng)15h后,冷卻、過濾,將濾渣水洗至中性后,在80°C下干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料;其中,所述的硝酸的濃度為8.0mol/L。
      [0041]對(duì)實(shí)施例1~3制得的介孔二氧化硅色譜填料進(jìn)行分析,結(jié)果如下表1所示,S1-S-150 (y)中的“y”表示水熱氧化反應(yīng)去除模板劑時(shí)的反應(yīng)溫度。
      [0042]表1制得的介孔二氧化硅色譜填料的孔參數(shù)
      [0043]
      【權(quán)利要求】
      1.一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: O將三嵌段共聚物加入水中,攪拌均勻后加入酸性溶液,攪拌反應(yīng)后,加入正硅酸乙酯,在40~50°C下繼續(xù)攪拌反應(yīng),得到反應(yīng)液;其中,三嵌段共聚物、正硅酸乙酯、酸性溶液與水的質(zhì)量比為(I~3): (8~15): (3~8): (100~150); 2)將反應(yīng)液在100~150°C下,水熱反應(yīng)后,抽濾,將濾餅洗滌、干燥后,得到雜合體; 3)將雜合體和高氯酸銨加入硝酸中,攪拌均勻后,在60~130°C下水熱氧化反應(yīng)后,再經(jīng)冷卻、過濾,最后將濾渣水洗至中性后干燥,得到介孔二氧化硅色譜填料;其中,所加入的雜合體與高氯酸銨的質(zhì)量比為(I~3): (0.2~0.7),且每I~3g雜合體加入10~30mL濃度為6.0~10.0moI/L的硝酸。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,所述的三嵌段共聚物為三嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,所述的三嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物為E013P07QE013、EO17PO85EO17, EO20PO70EO20,EO20PO30EO20、EO26PO39EO26、EO100PO39EO100、EO106PO70EO106、EO123PO47EO123、EO132PO50EO132、PO19EO33PO19或EO39BO47EO39等中的一種或幾種。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,步驟I)所述的酸性溶液為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30~37%的鹽酸溶液。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,步驟1)所述的攪拌反應(yīng)時(shí)間為I~3h`,繼續(xù)攪拌反應(yīng)時(shí)間為16~30h。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,步驟2)所述的水熱反應(yīng)時(shí)間為18~30h。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,其特征在于,步驟3)所述的水熱氧化反應(yīng)時(shí)間為8~20h。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化硅色譜填料的制備方法,步驟2)、3)所述的干燥是在80~100°C下烘干。
      9.一種采用權(quán)利要求1~8中任意一項(xiàng)所述的方法制得的介孔二氧化硅色譜填料,其特征在于:該介孔二氧化娃色譜填料的孔徑為5.43~6.93nm,外表面積為316~421m2/g,微孔表面積為29~167m2/g,總孔體積為0.48~0.72cm3/g,微孔體積為0.017~0.09cm3/g,介孔率為81%~97%。
      【文檔編號(hào)】B01J20/283GK103601198SQ201310638911
      【公開日】2014年2月26日 申請(qǐng)日期:2013年11月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月29日
      【發(fā)明者】李江濤 申請(qǐng)人:西安文理學(xué)院
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