廢氣處理裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種廢氣處理裝置，包括一廢氣處理槽，形成一廢氣進(jìn)氣口及一廢氣出氣口，且該廢氣處理槽內(nèi)的四周環(huán)繞配置一環(huán)狀加熱器，該環(huán)狀加熱器內(nèi)間隔設(shè)置一加熱棒，該環(huán)狀加熱器與加熱棒之間形成一加熱腔室；一隔板，穿設(shè)于環(huán)狀加熱器與加熱棒之間，該隔板于加熱腔室內(nèi)間隔形成一氣體流道；其中，該氣體流道的一進(jìn)氣端連通廢氣進(jìn)氣口，該氣體流道的一出氣端則通過加熱腔室連通廢氣出氣口，由此解決有害廢氣滯留于加熱腔室內(nèi)受熱凈化時間不足而有礙凈化效率的問題。
【專利說明】廢氣處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及廢氣凈化處理的【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種廢氣處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]周知，在半導(dǎo)體晶圓廠、光電廠、面板廠、太陽能廠于產(chǎn)制例如是晶圓或是各式 面板等產(chǎn)品的過程中，有時會生成有害的廢氣。例如:以半導(dǎo)體晶圓廠來說，其制作過程 中所生成的有害廢氣包含有單硅烷(SiH4)、氯氣(Cl2)、PFC(全氟化合物(perfluoro — compounds))等，在處理含有上述氣體的廢氣時，一般是使用濕式法、吸附法、加熱分解法及 燃燒法等4種方法。
[0003]其中，加熱分解法是指在廢氣處理槽內(nèi)設(shè)置加熱器，而加熱器在廢氣處理槽內(nèi)形 成一加熱腔室，當(dāng)有害廢氣進(jìn)入廢氣處理槽內(nèi)到達(dá)加熱腔室時，通過加熱器以熱輻射的方 式加熱有害廢氣，迫使有害廢氣中所含有害物質(zhì)接受高溫催化，而分解成無害物質(zhì)；而濕式 法是指使有害廢氣通過設(shè)置有多個灑水器的水洗室，憑借灑水器所噴灑的水幕與有害廢氣 接觸，將有害廢氣中所含可溶于水的有害物質(zhì)加以溶解，以達(dá)到凈化有害廢氣的效果；至于 燃燒法是指利用火焰燃燒有害廢氣，以達(dá)到凈化有害廢氣的效果，由于用來提供火焰燃燒 的燃?xì)馐菍⒓淄?CH4)、乙烷(C2H6)、丙烷(C3H8)等燃料和空氣以既定比例混合而成，其中甲 烷燃燒后會產(chǎn)生例如是一氧化碳(CO)等有害氣體，造成二次污染。因此，目前在以環(huán)保為 前提而采取的半導(dǎo)體制作過程廢氣處理方式，是利用加熱分解法搭配濕式法，來達(dá)到凈化 廢氣的效果。
[0004]然而，由于傳統(tǒng)的廢氣處理裝置內(nèi)缺乏延滯有害廢氣通過時間的設(shè)計，迫使有害 廢氣在通過廢氣處理槽內(nèi)接受加熱的時間較為短暫，導(dǎo)致在以加熱分解法凈化有害廢氣 時，由于有害廢氣接受加熱時間的不足，導(dǎo)致有害廢氣中的有害物質(zhì)難以完全催化，進(jìn)而影 響到有害廢氣的凈化效率，因此，如何能延滯有害廢氣在廢氣處理槽內(nèi)接受加熱的時間，進(jìn) 而提升有害廢氣的凈化效率，已成為熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】人士所應(yīng)面對的待以改善的重要課 題。
實用新型內(nèi)容
[0005]有鑒于此，本實用新型的目的旨在提供一種廢氣處理裝置，通過延滯有害廢氣在 廢氣處理槽內(nèi)受熱凈化的時間，進(jìn)而提升有害廢氣的凈化效率。
[0006]為能實現(xiàn)上述目的并解決問題，本實用新型的廢氣處理裝置的技術(shù)手段，包括:一 廢氣處理槽，形成一廢氣進(jìn)氣口及一廢氣出氣口，且該廢氣處理槽內(nèi)的四周環(huán)繞配置一環(huán) 狀加熱器，該環(huán)狀加熱器內(nèi)設(shè)置一加熱棒，該環(huán)狀加熱器與加熱棒之間形成一加熱腔室；一 隔板，穿設(shè)于環(huán)狀加熱器與加熱棒之間，該隔板于加熱腔室內(nèi)間隔形成一氣體流道。其中， 該氣體流道的一進(jìn)氣端連通廢氣進(jìn)氣口，該氣體流道的一出氣端則通過加熱腔室連通廢氣 出氣口，廢氣自廢氣進(jìn)氣口經(jīng)由氣體流道通過加熱腔室流向廢氣進(jìn)氣口。
[0007]依此，本實用新型是經(jīng)由在環(huán)狀加熱器與加熱棒之間設(shè)置隔板進(jìn)而形成的氣體流道，并利用該氣體流道延滯有害廢氣通過加熱腔室的時間，使廢氣能充分得到加熱，以凈化 有害廢氣中所含有害物質(zhì)，進(jìn)而避免污染環(huán)境。
[0008]在實施上，本實用新型還包括:
[0009]該氣體流道為迂回形流道。依此，以延滯有害廢氣經(jīng)由氣體流道通過加熱腔室的 時間，使有害廢氣在加熱腔室得到充分加熱，進(jìn)而提升廢氣的凈化效率。
[0010]該隔板包含一外隔板及一內(nèi)隔板，該外隔板穿設(shè)于環(huán)狀加熱器與加熱棒之間，該 內(nèi)隔板穿設(shè)于外隔板與加熱棒之間，該氣體流道是經(jīng)由外隔板及內(nèi)隔板于加熱腔室內(nèi)間隔 而形成。其中，該氣體流道包含一第一氣體流道、一第二氣體流道及一第三氣體流道，該第 一氣體流道形成于環(huán)狀加熱器與外隔板之間，該第二氣體流道形成于外隔板與內(nèi)隔板之 間，該第三氣體流道形成于內(nèi)隔板與加熱棒之間，該氣體流道的進(jìn)氣端依序經(jīng)由第一氣體 流道、第二氣體流道及第三氣體流道連通出氣端。依此，通過外隔板及內(nèi)隔板在加熱腔室間 隔形成氣體流道，進(jìn)而延滯有害廢氣通過加熱腔室的時間，以提升有害廢氣的凈化效率。
[0011]還包含一水洗室，該水洗室是設(shè)置于廢氣進(jìn)氣口的一端或廢氣出氣口的一端。其 中該水洗室還可為多個，所述水洗室是分別設(shè)置于廢氣進(jìn)氣口的一端及廢氣出氣口的一 端。依此，利用水洗室將有害廢氣中可溶于水的有害物質(zhì)加以溶解，同時冷卻加熱后的廢 氣，以利于排放至外界大氣中，而不會造成環(huán)境的污染。
[0012]還包含一高壓空氣進(jìn)氣口，形成于廢氣處理槽上且連通氣體流道的進(jìn)氣端。依此， 利用高壓空氣帶動有害廢氣通過氣體流道，并提供有害廢氣中所含有害物質(zhì)在接受高溫催 化時需要的氧氣。
[0013]該廢氣處理槽外部包覆有一隔熱層。依此，能減少廢氣處理槽在處理有害廢氣時 所發(fā)出的高溫影響到外界環(huán)境。
[0014]該廢氣處理裝置是一配置于半導(dǎo)體晶圓廠、光電廠、面板廠、太陽能廠的廢氣處理 裝置。依此，通過廢氣處理裝置來凈化例如是半導(dǎo)體等制作過程中所生成的有害廢氣，以避 免污染環(huán)境。
[0015]以上內(nèi)容與后續(xù)的實施方式及附圖簡單說明，皆是為了能夠進(jìn)一步說明本實用新 型為解決問題所采取的技術(shù)手段及其所能產(chǎn)生的功效。而有關(guān)本實用新型可供據(jù)以實施的 相關(guān)細(xì)節(jié)，也將在后續(xù)的詳細(xì)說明及附圖中加以闡述。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1是本實用新型的第一種實施例的配置示意圖；
[0017]圖2是本實用新型的第二種實施例的配置示意圖；
[0018]圖3是本實用新型的第三種實施例的配置示意圖；
[0019]圖4是本實用新型的第四種實施例的配置示意圖；
[0020]圖5是圖4中的局部放大示意圖。
[0021]附圖標(biāo)記說明:10_廢氣處理槽；11_廢氣進(jìn)氣口 ；12_廢氣出氣口 ；13_高壓空 氣進(jìn)氣口 ； 131-高壓空氣管；20_環(huán)狀加熱器；21_加熱腔室；22_氣體流道；221-進(jìn)氣端; 222-出氣端；223_第一氣體流道；224_第二氣體流道；225_第三氣體流道；30_加熱棒; 40-隔板；41_外隔板；411- 口部；412_上座部；42_內(nèi)隔板；421_第一口部；422_第二口部； 423-下座部；50_隔熱層；60_水洗室；61_灑水器；70_廢氣管?！揪唧w實施方式】
[0022]請參閱圖1，揭示出本實用新型的第一種實施例的配置示意圖，說明本實用新型提 供一種廢氣處理裝置，包括一廢氣處理槽10、一環(huán)狀加熱器20、一加熱棒30及一隔板40。 其中:
[0023]廢氣處理槽10為一金屬制的容器，該廢氣處理槽10的槽壁上形成有相連通的廢 氣進(jìn)氣口 11及廢氣出氣口 12，該廢氣進(jìn)氣口 11與一廢氣管70相連通，廢氣是由廢氣管70 自廢氣進(jìn)氣口 11進(jìn)入廢氣處理槽10內(nèi)而由廢氣出氣口 12流出，而廢氣處理槽10內(nèi)的四 周環(huán)繞配置有環(huán)狀加熱器20，且在環(huán)狀加熱器20內(nèi)設(shè)置有一加熱棒30，在實施上，加熱棒 30可以是設(shè)置于環(huán)狀加熱器20的中心位置，而環(huán)狀加熱器20與加熱棒30之間形成有加熱 腔室21，當(dāng)有害廢氣進(jìn)入加熱腔室21后，同時受到由環(huán)狀加熱器20與加熱棒30所發(fā)生的 高熱來加以催化，以增加有害廢氣受熱凈化時的效果。在本實施例中，環(huán)狀加熱器20與加 熱棒30為電熱式加熱器，相較燃燒式加熱器來說，可避免作為燃料的燃?xì)庥谌紵螽a(chǎn)生有 害氣體，造成二次污染。
[0024]隔板40是呈環(huán)狀且圍繞設(shè)置于環(huán)狀加熱器20與加熱棒30之間，通過隔板40將 加熱腔室21間隔形成一氣體流道22，該氣體流道22鄰近廢氣進(jìn)氣口 11的一端形成一進(jìn)氣 端221，而該氣體流道22鄰近廢氣出氣口 12的一端則形成一出氣端222，廢氣是經(jīng)由廢氣 進(jìn)氣口 11通過進(jìn)氣端221進(jìn)入氣體流道22內(nèi)而由出氣端222流向廢氣出氣口 12，通過廢 氣通過氣體流道22以延長廢氣通過加熱腔室21的行程，進(jìn)而增加廢氣通過加熱腔室21的 時間，使廢氣能得到充分的加熱。
[0025]進(jìn)一步的說，請參閱圖2，揭示本實用新型的第二種實施例的配置示意圖，說明圖1中所示的隔板40實質(zhì)上可以包含外隔板41及內(nèi)隔板42，而外隔板41及內(nèi)隔板42分別 為一圓形管體,外隔板41是通過一上座部412組設(shè)于廢氣處理槽10的頂部并朝底部延伸， 內(nèi)隔板42是通過一下座部423組設(shè)置于廢氣處理槽10的底部并朝頂部延伸，外隔板41位 于廢氣處理槽10頂部的一端封閉，而延伸至廢氣處理槽10底部的一端具有一口部411，內(nèi) 隔板42位于廢氣處理槽10底部的具有一第一口部421，而延伸至廢氣處理槽10頂部的一 端具有一第二口部422，通過外隔板41與內(nèi)隔板42將位于環(huán)狀加熱器20與加熱棒30之間 的加熱腔室21區(qū)隔形成一迂回形的氣體流道22。
[0026]更進(jìn)一步的說，請再參閱圖2，說明圖2中所示的氣體流道22包含一第一氣體流 道223、一第二氣體流道224及一第三氣體流道225，該第一氣體流道223是形成于環(huán)狀加 熱器20與外隔板41之間，該第二氣體流道224是形成于外隔板41與內(nèi)隔板42之間，該第 三氣體流道225是形成于內(nèi)隔板42與加熱棒30之間，當(dāng)有害廢氣經(jīng)由廢氣進(jìn)氣口 11進(jìn)入 加熱腔室21后，先經(jīng)由進(jìn)氣端221后進(jìn)入第一氣體流道223，再通過外隔板41的口部411 進(jìn)入第二氣體流道224，接著，通過內(nèi)隔板42的第二口部422進(jìn)入第三氣體流道225，而由 出氣端222經(jīng)由內(nèi)隔板42的第一口部421流向廢氣出氣口 12，并通過環(huán)狀加熱器20與加 熱棒30使有害廢氣在通過第一氣體流道223與第三氣體流道225時，能保持穩(wěn)定的溫度， 進(jìn)而有利于維持有害廢氣的凈化效率。
[0027]此外，請參閱圖3，揭示本實用新型的第三種實施例的配置示意圖，說明本實用新 型的廢氣處理裝置還包含有水洗室60，而水洗室60是指在有害廢氣通過的區(qū)域內(nèi)配置有多個灑水器61，通過灑水器61所噴灑的水幕與廢氣的接觸，將有害廢氣中所含可溶于水的 有害物質(zhì)加以溶解，以達(dá)到凈化有害廢氣的機(jī)能。水洗室60能設(shè)置于廢氣處理槽10的廢 氣進(jìn)氣口 11或廢氣出氣口 12的一端，又或者同時設(shè)置于廢氣處理槽10的廢氣進(jìn)氣口 11 及廢氣出氣口 12的一端。其中，設(shè)置于廢氣進(jìn)氣口 11的一端的水洗室60，使廢氣在受熱凈 化前，先將有害廢氣中所含可溶于水的有害物質(zhì)加以溶解，而設(shè)置于廢氣出氣口 12的一端 的水洗室60，除能將有害廢氣中所含可溶于水的有害物質(zhì)加以溶解外，并具有冷卻高溫廢 氣的功能。在本實施例中，在廢氣處理槽10的廢氣進(jìn)氣口 11的一端及廢氣出氣口 12的一 端分別設(shè)置有水洗室60，使廢氣在接受加熱處理前，先將有害廢氣中所含可溶于水的有害 物質(zhì)加以溶解，能避免有害廢氣中可溶于水的有害物質(zhì)在接受加熱處理時產(chǎn)生變質(zhì)，進(jìn)而 生成新的有害物質(zhì)，當(dāng)有害廢氣在受熱凈化后，則能通過水洗室60將原本殘留及因受熱而 產(chǎn)生的可溶于水的有害物質(zhì)加以溶解，以及將高溫的廢氣加以冷卻，進(jìn)而提升凈化有害廢 氣的效果。
[0028]接著，請參閱圖4，揭示本實用新型的第四種實施例的配置示意圖，說明本實用新 型的廢氣處理裝置還包含一高壓空氣進(jìn)氣口 13，其形成于廢氣處理槽10的槽壁上且連通 氣體流道22的進(jìn)氣端221，高壓空氣進(jìn)氣口 13連接一高壓空氣管131，通過高壓空氣管131 導(dǎo)入的高壓空氣與有害廢氣接觸及混合后，來帶動有害廢氣通過氣體流道22，并提供有害 廢氣在接受高溫催化時所需的氧氣(O2)。
[0029]請參閱圖5，揭示圖4中的局部放大示意圖，說明本實用新型的廢氣處理槽10在加 熱凈化有害廢氣時的溫度約在攝氏950度到攝氏1100度之間，為避免廢氣處理槽10所產(chǎn) 生的高溫對環(huán)境及人體造成影響，因此在廢氣處理槽10的表面包覆一隔熱層50，除了通過 隔熱層50來減少廢氣處理槽10所發(fā)出的高溫影響到外界環(huán)境外，同時能避免廢氣處理槽 10內(nèi)的熱能因流失到外界而導(dǎo)致溫度下降，進(jìn)而影響到有害廢氣的凈化效率。
[0030]此外，本實用新型的廢氣處理裝置是用來凈化工業(yè)產(chǎn)制物品的過程中所生成有害 的廢氣。在本實施例中，廢氣處理裝置是配置于半導(dǎo)體晶圓廠、光電廠、面板廠、太陽能廠 內(nèi)，用以凈化例如是半導(dǎo)體制作過程中所生成的有害廢氣。
[0031]根據(jù)以上實施例的說明，本實用新型的廢氣處理裝置首先是利用環(huán)狀加熱器及加 熱棒以內(nèi)外雙側(cè)同時朝有害廢氣加熱，避免有害廢氣在加熱時因受熱不均而降低其凈化 率，此外，利用外隔板及內(nèi)隔板將加熱腔室區(qū)隔形成蛇行式的氣體流道，以延滯有害廢氣在 廢氣處理槽內(nèi)受熱凈化的時間，進(jìn)而提升有害廢氣的凈化效率。
[0032]綜上所陳，僅為本實用新型的較佳實施例而已，并非用以限定本實用新型；凡其他 未脫離本實用新型所揭示的精神下而完成的等效修飾或置換，均應(yīng)包含于權(quán)利要求所要求 保護(hù)的專利范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種廢氣處理裝置，其特征在于，包括:一廢氣處理槽，形成一廢氣進(jìn)氣口及一廢氣出氣口，且該廢氣處理槽內(nèi)的四周環(huán)繞配 置一環(huán)狀加熱器，該環(huán)狀加熱器內(nèi)設(shè)置一加熱棒，該環(huán)狀加熱器與加熱棒之間形成一加熱腔室；一隔板，穿設(shè)于環(huán)狀加熱器與加熱棒之間，該加熱腔室內(nèi)經(jīng)由隔板間隔形成一氣體流道；其中，該氣體流道的一進(jìn)氣端連通廢氣進(jìn)氣口，該氣體流道的一出氣端則通過加熱腔 室連通廢氣出氣口，廢氣自廢氣進(jìn)氣口經(jīng)由氣體流道通過加熱腔室流向廢氣進(jìn)氣口。
2.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，該氣體流道為迂回形流道。
3.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，該隔板包含一外隔板及一內(nèi)隔板， 該外隔板穿設(shè)于環(huán)狀加熱器與加熱棒之間，該內(nèi)隔板穿設(shè)于外隔板與加熱棒之間，該氣體 流道是經(jīng)由外隔板及內(nèi)隔板于加熱腔室內(nèi)間隔而形成。
4.如權(quán)利要求3所述的廢氣處理裝置，其特征在于，該氣體流道包含一第一氣體流道、 一第二氣體流道及一第三氣體流道，該第一氣體流道形成于環(huán)狀加熱器與外隔板之間，該 第二氣體流道形成于外隔板與內(nèi)隔板之間，該第三氣體流道形成于內(nèi)隔板與加熱棒之間， 該氣體流道的進(jìn)氣端依序經(jīng)由第一氣體流道、第二氣體流道及第三氣體流道連通出氣端。
5.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，還包含一水洗室，該水洗室是設(shè)置 于廢氣進(jìn)氣口的一端或廢氣出氣口的一端。
6.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，還包含多個水洗室，所述水洗室是 分別設(shè)置于廢氣進(jìn)氣口的一端及廢氣出氣口的一端。
7.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，還包含一高壓空氣進(jìn)氣口，形成于 廢氣處理槽上且連通氣體流道的進(jìn)氣端。
8.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，該廢氣處理槽外部包覆有一隔熱層。
【文檔編號】B01D53/86GK203379811SQ201320496570
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2013年8月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月9日
【發(fā)明者】馮五裕 申請人:東服企業(yè)股份有限公司