轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及試驗(yàn)領(lǐng)域，尤其涉及轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架。包含試驗(yàn)臺，其下方中空，試驗(yàn)臺的臺面上有一個以上的頂盤，所述頂盤為板狀，其中部有升降柱，其上有兩個為一組的分布的容納部位，所述容納部位為容納孔，還包含能放進(jìn)該容納孔的滴定管，所述升降柱下方有升降部件。所述頂盤能夠圍繞升降柱轉(zhuǎn)動，即頂盤和升降柱之間有軸承。相對于現(xiàn)有技術(shù)有如下有益效果：同時能容納多組酸堿滴定管，使用方便、不占用上方空間，還能作為升降裝置來代替鐵架臺。
【專利說明】轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及試驗(yàn)領(lǐng)域，尤其涉及轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室滴定都是在專門的支架上安放滴定支架，濃度需要經(jīng)常調(diào)，需要經(jīng)常潤洗，浪費(fèi)時間，并且滴定管高度太高，大量占用試驗(yàn)臺面積，稍不留神還容易被碰倒。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]實(shí)用新型的目的:為了提供一種不占空間，方便使用的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，具體目的見具體實(shí)施部分的多個實(shí)質(zhì)技術(shù)效果。
[0004]為了達(dá)到如上目的，本實(shí)用新型采取如下技術(shù)方案:
[0005]轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，包含試驗(yàn)臺，其下方中空，試驗(yàn)臺的臺面上有一個以上的頂盤，所述頂盤為板狀，其中部有升降柱，其上有兩個為一組的分布的容納部位，所述容納部位為容納孔，還包含能放進(jìn)該容納孔的滴定管，所述升降柱下方有升降部件。
[0006]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述頂盤能夠圍繞升降柱轉(zhuǎn)動，即頂盤和升降柱之間有軸承。
[0007]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述頂盤邊側(cè)有標(biāo)簽槽，其內(nèi)可貼上標(biāo)簽。
[0008]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述升降部件為氣缸或者液壓缸。
[0009]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述頂盤邊沿有邊塊，所述邊塊能夠和試驗(yàn)臺的臺面契合。
[0010]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述容納孔孔壁為傾斜面，其孔徑上邊大，下邊小。
[0011]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述滴定管兩個一組，分別為酸式滴定管和堿式滴定管。
[0012]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述頂盤上方有一個以上的凹槽。
[0013]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，還包含內(nèi)置于頂盤的加熱絲，所述頂盤上方為金屬面。
[0014]本實(shí)用新型進(jìn)一步技術(shù)方案在于，所述頂盤為圓形，其上的容納孔圍繞頂盤中心分布。
[0015]采用如上技術(shù)方案的本實(shí)用新型，相對于現(xiàn)有技術(shù)有如下有益效果:同時能容納多組酸堿滴定管，使用方便、不占用上方空間，還能作為升降裝置來代替鐵架臺。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]為了進(jìn)一步說明本實(shí)用新型，下面結(jié)合附圖進(jìn)一步進(jìn)行說明:
[0017]圖1為實(shí)用新型的頂盤俯視結(jié)構(gòu)示意圖；[0018]圖2為實(shí)用新型的頂盤側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖3為實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]其中:1.軸承；2.頂盤；3.容納部位；4.標(biāo)簽槽；5.滴定管；6.邊塊；7.試驗(yàn)臺；
8.升降柱；9.液壓裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行說明，實(shí)施例不構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制:
[0022]轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，包含試驗(yàn)臺7，其下方中空，試驗(yàn)臺7的臺面上有一個以上的頂盤2，所述頂盤2為板狀，其中部有升降柱，其上有兩個為一組的分布的容納部位3，所述容納部位為容納孔，還包含能放進(jìn)該容納孔的滴定管5，所述升降柱下方有升降部件。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果至少是能夠整合多組的滴定管，兩個一組；由于可升降，因此其還可以作為可升降的鐵架臺，其的升降柱可以作為支架本體。
[0023]所述頂盤2能夠圍繞升降柱轉(zhuǎn)動，即頂盤2和升降柱之間有軸承。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是轉(zhuǎn)動頂盤2即可方便取到不同濃度的滴定管。
[0024]所述頂盤2邊側(cè)有標(biāo)簽槽4，其內(nèi)可貼上標(biāo)簽。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是能夠方便選取濃度，直觀看到相關(guān)濃度。
[0025]所述升降部件為氣缸或者液壓缸。所述頂盤2邊沿有邊塊6，所述邊塊6能夠和試驗(yàn)臺7的臺面契合。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是使得頂盤2降落下來后還能夠保持臺面的平整。
[0026]所述容納孔孔壁為傾斜面，其孔徑上邊大，下邊小。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是使得滴定管卡固方便安全。所述滴定管5兩個一組，分別為酸式滴定管和堿式滴定管。
[0027]所述頂盤2上方有一個以上的凹槽。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是在凹槽中能放進(jìn)去大燒瓶作為支架臺用。
[0028]還包含內(nèi)置于頂盤2的加熱絲，所述頂盤2上方為金屬面。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是還能提供加熱作用。
[0029]所述頂盤2為圓形，其上的容納孔圍繞頂盤2中心分布。本處的技術(shù)方案能實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果是整體結(jié)構(gòu)分布科學(xué)，受力均勻。
[0030]以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該了解本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，包含試驗(yàn)臺(7)，其下方中空，試驗(yàn)臺(7)的臺面上有一個以上的頂盤(2)，所述頂盤(2)為板狀，其中部有升降柱，其上有兩個為一組的分布的容納部位(3)，所述容納部位為容納孔，還包含能放進(jìn)該容納孔的滴定管(5)，所述升降柱下方有升降部件。
2.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述頂盤(2)能夠圍繞升降柱轉(zhuǎn)動，即頂盤(2)和升降柱之間有軸承。
3.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述頂盤(2)邊側(cè)有標(biāo)簽槽(4)，其內(nèi)可貼上標(biāo)簽。
4.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述升降部件為氣缸或者液壓缸。
5.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述頂盤(2)邊沿有邊塊(6)，所述邊塊(6)能夠和試驗(yàn)臺(7)的臺面契合。
6.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述容納孔孔壁為傾斜面，其孔徑上邊大，下邊小。
7.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述滴定管(5)兩個一組，分別為酸式滴定管和堿式滴定管。
8.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述頂盤(2)上方有一個以上的凹槽。
9.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，還包含內(nèi)置于頂盤(2)的加熱絲，所述頂盤(2)上方為金屬面。
10.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式可升降易選擇滴定裝置支架，其特征在于，所述頂盤(2)為圓形，其上的容納孔圍繞頂盤(2)中心分布。
【文檔編號】B01L9/00GK203711065SQ201320823234
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2013年12月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月16日
【發(fā)明者】許瓊 申請人:陜西理工學(xué)院