一種雙通道環(huán)形氣體分布裝置制造方法
【專利摘要】一種雙通道環(huán)形氣體分布裝置，它包括頂板、引氣管、外筒、導(dǎo)流板、內(nèi)筒、氣體分配板，所述外筒與所述頂板、內(nèi)筒和氣體分配板通過焊接組成獨(dú)立的環(huán)形一次氣體分布空間，所述外筒與塔體內(nèi)壁間形成有一個(gè)環(huán)形氣體分布通道；所述引氣管與氣體進(jìn)口管同軸布置；所述導(dǎo)流板以塔中心截面為對(duì)稱面左右對(duì)稱布置；所述頂板上設(shè)置供小部分氣體向上運(yùn)動(dòng)的、沿圓周均勻分布的升氣通道；所述氣體分配板位于環(huán)形一次氣體分布空間的下方，其具體的結(jié)構(gòu)形式為導(dǎo)流板形式或者開設(shè)均勻氣體分配孔的環(huán)板形式，并主要提供主體氣流向下運(yùn)動(dòng)，并使經(jīng)氣流能與塔器底部液體碰撞后折而向上運(yùn)動(dòng)；它具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)合理、安全穩(wěn)定、性能優(yōu)良等優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】一種雙通道環(huán)形氣體分布裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種大型或特大型塔式容器用氣相進(jìn)料的雙通道環(huán)形氣體分布裝置，是空分、化工等精餾設(shè)備中廣泛使用的重要部件，屬于能源類空分、化工設(shè)備中的氣體分布【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著我國(guó)工業(yè)的快速發(fā)展，鋼鐵冶煉、石油化工、煤化工、化肥等企業(yè)對(duì)氧、氬、氮的需求量急劇增加，從而帶動(dòng)精餾塔向著特大型化發(fā)展，而氣體和液體在塔內(nèi)的均勻分布是塔器放大的主要問題。同時(shí)，隨著填料技術(shù)的不斷進(jìn)步，大空隙率、低壓降新型高效填料的開發(fā)，都對(duì)氣體初始分布的要求越來(lái)越高，氣體分布裝置的優(yōu)劣直接影響塔器精餾效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
[0003]圖1所示，目前，對(duì)于精餾設(shè)備中的環(huán)形氣體分布器，主要通過在氣體分布器和殼體內(nèi)壁之間構(gòu)筑一個(gè)環(huán)形的一次氣體分布空間，氣體經(jīng)過一次氣體分布空間出來(lái)后，僅從一個(gè)氣體通道達(dá)到分布器的上方，然后通過擴(kuò)散將氣體均布在塔器的橫截面。為了方便描述，對(duì)于橫截面為環(huán)形或圓形的氣體通道，將氣體徑向向內(nèi)擴(kuò)散和徑向向外擴(kuò)散定義為它所具有的兩個(gè)徑向擴(kuò)散自由度(特別地，圓形氣體通道僅有一個(gè)徑向向外擴(kuò)散自由度，以塔體內(nèi)壁為外環(huán)面的環(huán)形氣體通道僅有一個(gè)徑向向內(nèi)擴(kuò)散自由度)，同時(shí)將氣體通道中心到一次氣體分布空間正上方的環(huán)向中心的距離定義為氣體的擴(kuò)散程S,顯然，圖1中的氣體分布器僅具有一個(gè)徑向向外的擴(kuò)散自由度，對(duì)于尺寸較大的塔器，氣體擴(kuò)散程S過長(zhǎng)，很難達(dá)到氣體均布的效果，同時(shí)由于氣體分布器與塔體內(nèi)壁緊密配合，也不利于分布器的安裝和檢修。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，而提供一種對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)的、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)合理、安全穩(wěn)定、性能優(yōu)良，且適用于各種形式塔式容器的雙通道環(huán)形氣體分布裝置。
[0005]本發(fā)明的目的是通過如下技術(shù)方案來(lái)完成的，所述的一種雙通道環(huán)形氣體分布裝置，它包括頂板、引氣管、外筒、導(dǎo)流板、內(nèi)筒、氣體分配板，所述外筒與所述頂板、內(nèi)筒和氣體分配板通過焊接組成獨(dú)立的環(huán)形一次氣體分布空間，所述外筒與塔體內(nèi)壁間形成有一個(gè)環(huán)形氣體分布通道；所述引氣管與氣體進(jìn)口管同軸布置；所述導(dǎo)流板以塔中心截面為對(duì)稱面左右對(duì)稱布置，其中心軸線正對(duì)所述引氣管的中心軸，并通過焊接固定在所述內(nèi)筒上。
[0006]所述頂板上設(shè)置供小部分氣體向上運(yùn)動(dòng)的、沿圓周均勻分布的升氣通道；所述氣體分配板位于環(huán)形一次氣體分布空間的下方，其具體的結(jié)構(gòu)形式為導(dǎo)流板形式或者開設(shè)均勻氣體分配孔的環(huán)板形式，并主要提供主體氣流向下運(yùn)動(dòng)，并使經(jīng)氣流能與塔器底部液體碰撞后折而向上運(yùn)動(dòng)。
[0007]本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn): 1.在本發(fā)明中，氣體經(jīng)所述引氣管2進(jìn)入分布器的一次氣體分布空間，主體氣流通過一次氣體分布空間的所述氣體分配板7導(dǎo)向塔器底部空間，而后折返到兩個(gè)氣體通道到達(dá)分布器上方進(jìn)行擴(kuò)散，較之只有一個(gè)氣體通道的氣體分布器，增加了一個(gè)徑向擴(kuò)散自由度，縮短了氣體的擴(kuò)散程，能促使氣體更快更好的達(dá)到均布，優(yōu)化氣體分布效果。
[0008]2.在本發(fā)明中，氣體分布器的一次氣體分布空間獨(dú)立于塔體內(nèi)壁，降低了分布器與塔體的配合要求，給安裝和檢修提供了很大的方便。
[0009]本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)合理、安全穩(wěn)定、性能優(yōu)良等優(yōu)點(diǎn)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是現(xiàn)有氣體分布裝置的擴(kuò)散示意圖。
[0011]圖2是本發(fā)明所述氣體分布裝置的擴(kuò)散示意圖。
[0012]圖3為本發(fā)明所述氣體分布裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖4為本發(fā)明所述氣體分布裝置的主視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖5為本發(fā)明所述氣體分布裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明:圖2所示，本發(fā)明是對(duì)現(xiàn)有氣體分布器進(jìn)行的技術(shù)改進(jìn)，它是將分布器的一次分布空間獨(dú)立出來(lái)，從而在氣體分布器與塔體內(nèi)壁之間創(chuàng)造一個(gè)環(huán)形氣體通道1，氣體從一次氣體分布空間出來(lái)后，分兩部分分別從氣體通道I和氣體通道2達(dá)到分布器上方,然后各自向分布器一次氣體分布空間正上方擴(kuò)散，此時(shí)氣體擁有了兩個(gè)徑向擴(kuò)散自由度:氣體通道I的徑向向內(nèi)擴(kuò)散自由度和氣體通道2的徑向向外擴(kuò)散自由度，每個(gè)通道內(nèi)的氣體分別具有較短的擴(kuò)散程S1、S2，從而實(shí)現(xiàn)氣體在分布器頂部空間快速有效的均布，優(yōu)化分布器的均布效果。同時(shí)，該裝置除開必要支承外，不需將塔體內(nèi)壁和分布器緊密配合在一起，從而給分布器的安裝和檢修提供了方便。
[0016]圖3-5所示，本發(fā)明所述的一種雙通道環(huán)形氣體分布裝置，它包括頂板1、引氣管
2、外筒3、導(dǎo)流板4、內(nèi)筒5、氣體分配板7,所述外筒3與所述頂板1、內(nèi)筒5和氣體分配板7通過焊接組成獨(dú)立的環(huán)形一次氣體分布空間，所述外筒3與塔體內(nèi)壁間形成有一個(gè)環(huán)形氣體分布通道；所述引氣管2與氣體進(jìn)口管同軸布置；所述導(dǎo)流板4以塔中心截面為對(duì)稱面左右對(duì)稱布置，其中心軸線正對(duì)所述引氣管2的中心軸，并通過焊接固定在所述內(nèi)筒5上。
[0017]本發(fā)明所述頂板I上設(shè)置供小部分氣體向上運(yùn)動(dòng)的、沿圓周均勻分布的升氣通道6 ;所述氣體分配板7位于環(huán)形一次氣體分布空間的下方，其具體的結(jié)構(gòu)形式為導(dǎo)流板形式或者開設(shè)均勻氣體分配孔的環(huán)板形式，并主要提供主體氣流向下運(yùn)動(dòng)，并使經(jīng)氣流能與塔器底部液體碰撞后折而向上運(yùn)動(dòng)。
[0018]本發(fā)明的具體工作過程是:氣體從所述引氣管2進(jìn)入分布器后，被所述導(dǎo)流板4分成左右兩部分，分別進(jìn)入到由所述外筒3與所述頂板1、所述內(nèi)筒5、所述氣體分配板7組成的環(huán)形一次氣體分布空間。除小部分氣體經(jīng)所述升氣通道6向上運(yùn)動(dòng)外，主體氣流經(jīng)所述氣體分配板7發(fā)生向下運(yùn)動(dòng)，與塔器底部液體碰撞后折而向上運(yùn)動(dòng)，經(jīng)過所述內(nèi)筒5以及塔體內(nèi)壁和所述外筒3組成的環(huán)形氣體通道后到達(dá)分布器頂部空間，在分布器頂部空間，氣體分別通過兩個(gè)氣體通道向分布器一次氣體分布空間正上方擴(kuò)散，從而實(shí)現(xiàn)氣體在塔式容器內(nèi)的均勻分布。
[0019]本發(fā)明將流體流動(dòng)機(jī)理、流體均布技術(shù)、結(jié)構(gòu)優(yōu)化技術(shù)等技術(shù)有機(jī)的結(jié)合起來(lái),實(shí)現(xiàn)了氣體在特大型塔式容器中的均勻分布，通過增加一個(gè)氣體分布通道，為氣體增加了一個(gè)擴(kuò)散自由度，縮短了氣體的擴(kuò)散程，促進(jìn)氣體在分布器頂部更快更好的均布，是一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)合理、安全穩(wěn)定、性能優(yōu)良的氣體分布裝置。
【權(quán)利要求】
1.一種雙通道環(huán)形氣體分布裝置，它包括頂板(I)、引氣管(2)、外筒(3)、導(dǎo)流板(4)、內(nèi)筒(5)、氣體分配板(7)，其特征在于所述外筒(3)與所述頂板(I)、內(nèi)筒(5)和氣體分配板(7)通過焊接組成獨(dú)立的環(huán)形一次氣體分布空間，所述外筒(3)與塔體內(nèi)壁間形成有一個(gè)環(huán)形氣體分布通道；所述引氣管(2)與氣體進(jìn)口管同軸布置；所述導(dǎo)流板(4)以塔中心截面為對(duì)稱面左右對(duì)稱布置，其中心軸線正對(duì)所述引氣管2的中心軸，并通過焊接固定在所述內(nèi)筒(5)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙通道環(huán)形氣體分布裝置，其特征在于所述頂板(I)上設(shè)置供小部分氣體向上運(yùn)動(dòng)的、沿圓周均勻分布的升氣通道￠);所述氣體分配板(7)位于環(huán)形一次氣體分布空間的下方，其具體的結(jié)構(gòu)形式為導(dǎo)流板形式或者開設(shè)均勻氣體分配孔的環(huán)板形式，并主要提供主體氣流向下運(yùn)動(dòng)，并使經(jīng)氣流能與塔器底部液體碰撞后折而向上運(yùn)動(dòng)。
【文檔編號(hào)】B01D3/16GK104399275SQ201410618368
【公開日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年11月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月6日
【發(fā)明者】文順清, 顧燕新, 裴洪敏, 康康, 尹路, 黃劍能, 何珍珍, 盧炳攀 申請(qǐng)人:杭州杭氧股份有限公司