本發(fā)明涉及一種氧氣與可燃?xì)怏w旋流混合的方法。
背景技術(shù):
氧氣與可燃?xì)怏w混合過程廣泛存在于氧化反應(yīng)、富氧燃燒以及合成氨等過程,比如乙烯催化氧化制環(huán)氧乙烷工藝中,乙烯、甲烷等可燃?xì)怏w與氧氣按一定比例混合后,進(jìn)入反應(yīng)器。常見的可燃?xì)怏w如乙烯、甲烷等在氧氣中有較大的爆炸極限范圍,氣體混合過程要穿越可燃?xì)怏w爆炸極限,如果兩種氣體不能快速高效混合,在局部形成濃度過高區(qū)域時(shí)存在發(fā)生燃爆的危險(xiǎn)。
目前多數(shù)氣體混合裝置采用射流混合技術(shù)(如cn101848759a,cn104084065a),即氧氣與可燃?xì)怏w并流或錯(cuò)流接觸,氧氣通過噴嘴或小孔高速射流進(jìn)入可燃?xì)庵黧w中,通過射流卷吸效應(yīng)完成氣氣混合。這類射流氣體混合裝置結(jié)構(gòu)簡單,容易操作,但兩股氣體在較大空間內(nèi)靠并流或錯(cuò)流接觸混合很不充分,其后的自然發(fā)展階段不能保證氣體達(dá)到分子水平混合。
本發(fā)明有針對性的解決了該問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有技術(shù)中混合效果較差的問題,提供一種新的氧氣與可燃?xì)怏w旋流混合的方法。該方法用于氧氣與可燃?xì)怏w混合中,具有混合效果較好的優(yōu)點(diǎn)。
為解決上述問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:一種氧氣與可燃?xì)怏w旋流混合的方法,氧氣由進(jìn)氣管進(jìn)入各分布支管,分布支管數(shù)量最少為2根,在水平面內(nèi)對稱均勻分布且與氧氣進(jìn)氣管垂直,氧氣分布支管下表面開有若干等徑、等間距小孔,氧氣經(jīng)由分布支管從各射流小孔噴出,進(jìn)入氣體混合空間,氣體混合空間內(nèi)的混合氣體從混合氣體出口排出;可燃?xì)怏w由分布在氣體混合空間周圍的進(jìn)氣管進(jìn)入,進(jìn)氣管的數(shù)量至少為2個(gè),在水平面內(nèi)均勻分布,可燃?xì)怏w與氧氣形成錯(cuò)流流動;氧氣進(jìn)氣管上端設(shè)有電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置,能夠帶動整個(gè)氧氣分布裝置旋轉(zhuǎn),使射流進(jìn)入氣體混合空間的氧氣形成旋流流場,旋流擾動對混 合空間的氣體起到攪拌作用,促進(jìn)氣體混合達(dá)到分子水平,實(shí)現(xiàn)高效的氣體混合過程。
上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,所述氧氣分布支管的開孔率為0.2%~0.8%。
上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,所述電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)速為1000~2000rpm(轉(zhuǎn)/分鐘)。
目前的氧氣混合裝置一般采用射流混合技術(shù),利用氧氣的射流卷吸來實(shí)現(xiàn)與可燃?xì)怏w的混合,混合效果不能達(dá)到分子水平,本發(fā)明在射流混合基礎(chǔ)上增加了旋轉(zhuǎn)裝置,氧氣形成的旋流流場促進(jìn)了氣體擾動是氣體混合達(dá)到分子水平,取得了較好的技術(shù)效果。
附圖說明
圖1為氧氣與可燃?xì)怏w混合裝置的整體示意圖;
圖2為氧氣分布裝置俯視圖。
圖1、圖2中,1為可燃?xì)怏w進(jìn)口;2為氧氣進(jìn)氣管;3為電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置;4為氧氣分布支管;5為射流小孔;6為氣體混合空間;7為混合氣體出口。
下面通過實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的闡述,但不僅限于本實(shí)施例。
具體實(shí)施方式
【實(shí)施例1】
如圖1所示,氣體混合裝置包括氧氣進(jìn)氣與分布裝置、可燃?xì)怏w進(jìn)口、圓柱形混合空間以及混合氣體出口組成。在氣體混合空間周圍均勻設(shè)置2個(gè)可燃?xì)怏w進(jìn)氣管1,可燃?xì)怏w由此進(jìn)入氣體混合空間6,與氧氣形成錯(cuò)流流動。氧氣進(jìn)氣與分布裝置包括氧氣進(jìn)氣管2、與之相連的電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置備3、氧氣分布支管4以及支管上的射流小孔5,如圖2氧氣分布裝置俯視圖所示,氧氣分布支管4設(shè)置于氧氣進(jìn)氣管2的底部并與之垂直,分布支管的數(shù)量為2根,支管在水平面內(nèi)呈軸對稱分布,支管的下表面開有若干等間距、等徑圓孔。氧氣由氧氣進(jìn)氣管2進(jìn)入各氧氣分布支管4,由支管上的射流小孔5噴出,電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置3帶動整個(gè)氧氣進(jìn)氣與分布裝置旋轉(zhuǎn),從而使氧氣以旋流狀態(tài)進(jìn)入氣體混合空間6,旋流擾動和射流卷吸共同促進(jìn)氧氣與可燃?xì)怏w發(fā)生混合,并最終達(dá)到分子混合水平。混合氣體由混合氣體出口8進(jìn)入下游設(shè)備。
所述氧氣分布支管的開孔率為0.2%。所述電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)速為1500rpm。
【實(shí)施例2】
按照實(shí)施例1所述的條件和步驟,在氣體混合空間周圍均勻設(shè)置4個(gè)可燃?xì)怏w進(jìn)氣管1,氧氣分布支管的數(shù)量為4根。所述氧氣分布支管的開孔率為0.36%。所述電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)速為1200rpm。
【實(shí)施例3】
按照實(shí)施例1所述的條件和步驟,在氣體混合空間周圍均勻設(shè)置6個(gè)可燃?xì)怏w進(jìn)氣管1,氧氣分布支管的數(shù)量為6根。所述氧氣分布支管的開孔率為0.45%。所述電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)速為1000rpm。
【實(shí)施例4】
按照實(shí)施例1所述的條件和步驟,在氣體混合空間周圍均勻設(shè)置8個(gè)可燃?xì)怏w進(jìn)氣管1,氧氣分布支管的數(shù)量為8根。所述氧氣分布支管的開孔率為0.6%。所述電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)速為1600rpm。
【實(shí)施例5】
按照實(shí)施例1所述的條件和步驟,在氣體混合空間周圍均勻設(shè)置4個(gè)可燃?xì)怏w進(jìn)氣管1,氧氣分布支管的數(shù)量為4根。所述氧氣分布支管的開孔率為0.8%。所述電機(jī)轉(zhuǎn)動裝置轉(zhuǎn)速為2000rpm。
【比較例】
現(xiàn)有技術(shù)中,采用射流混合的設(shè)備內(nèi)部,氣體達(dá)到均勻混合時(shí)在氣體射流方向需要0.5-1.0m距離,該段區(qū)域內(nèi)濃度分布不均勻,存在發(fā)生燃爆的危險(xiǎn)。設(shè)備出口處氧氣濃度分布不是恒定值,而是在±10%范圍內(nèi)波動。
本發(fā)明在射流混合基礎(chǔ)上增加了旋轉(zhuǎn)裝置,氧氣形成的旋流流場促進(jìn)了氣體擾動是氣體混合達(dá)到分子水平,在射流方向上只需0.1-0.5m即可完全混合,且出口處濃度分布均一。實(shí)現(xiàn)了高效的氣體混合,取得了較好的技術(shù)效果。