本實(shí)用新型涉及陶瓷基板涂覆技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陶瓷基板的涂覆裝置。

背景技術(shù)：
：

陶瓷材料是用天然或合成化合物經(jīng)過(guò)成形和高溫?zé)Y(jié)制成的一類無(wú)機(jī)非金屬材料，它具有高熔點(diǎn)、高硬度、高耐磨性、耐氧化等優(yōu)點(diǎn)，故在電子工業(yè)中大量作為電容器、電阻器、高溫高頻器件、變阻器、電路基板及散熱基板等領(lǐng)域。許多陶瓷基板上存在大量微孔，如散熱陶瓷基板上的導(dǎo)熱微孔，或手機(jī)、平板電腦等電子產(chǎn)品上聽筒、話筒的微孔。這些陶瓷基板微孔的孔徑約為80～150μm，若采用機(jī)械方式鉆孔，一方面受限于機(jī)械鉆頭的尺寸而難以加工，另外一方面由于陶瓷材料是脆性材料，機(jī)械鉆頭與陶瓷直接接觸加工，陶瓷易出現(xiàn)開裂、崩邊的現(xiàn)象。若采用激光加工工藝，現(xiàn)有陶瓷基板的激光鉆孔方法主要有CO₂激光器鉆孔和光纖激光器鉆孔兩種。對(duì)陶瓷基板進(jìn)行CO₂激光器鉆孔，由于陶瓷基板表面對(duì)CO₂激光吸收率比較高，可直接進(jìn)行激光鉆孔，但是其具有加工速度相對(duì)較慢、熱影響區(qū)域過(guò)大和熔渣較多等問(wèn)題。而采用光纖激光器鉆孔，由于陶瓷基板表面對(duì)光纖激光聚焦光束具有較強(qiáng)的反射性，使激光能量不能有效聚集，導(dǎo)致光纖激光器加工陶瓷基板時(shí)因激光能量反射過(guò)多而出現(xiàn)漏鉆孔現(xiàn)象，進(jìn)而降低了陶瓷激光加工的良品率。

為了提高陶瓷的切割速度及改善其切割效果，傳統(tǒng)的加工方法會(huì)在陶瓷基板表面涂刷一層有色油墨，以增強(qiáng)其對(duì)光的吸收作用，保證陶瓷基板的正常加工。但是光纖激光器加工陶瓷基板的過(guò)程中，前期的油墨涂覆會(huì)出現(xiàn)涂層不均，激光加工過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)漏孔等現(xiàn)象，后期會(huì)有陶瓷基板清洗不干凈等問(wèn)題，影響到產(chǎn)品的質(zhì)量和性能，且整個(gè)流程效率低下。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
：

本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種陶瓷基板的涂覆裝置。

本實(shí)用新型的技術(shù)解決措施如下：

一種陶瓷基板的涂覆裝置，包括陶瓷基板送入組件、循環(huán)提升組件、移動(dòng)噴槍組件以及陶瓷基板送出組件，移動(dòng)噴槍組件在循環(huán)提升組件的正上方，陶瓷基板送入組件以及陶瓷基板送出組件分別位于循環(huán)提升組件的兩側(cè)面；循環(huán)提升組件包括有機(jī)架、升降驅(qū)動(dòng)單元、接料槽、出料槽以及升降單元，接料槽、出料槽分別位于循環(huán)升降組件的兩側(cè)，且與陶瓷基板送入組件、陶瓷基板送出組件銜接；升降單元和升降驅(qū)動(dòng)單元位于機(jī)架上部；機(jī)架包括四根平行設(shè)置的支柱，支柱上固定連接有方形框架，方形框架上部?jī)蓚?cè)分別固定有門型架，門型架包括兩根豎直支撐柱以及將其連接起來(lái)的橫梁，相鄰支柱的中部還連接有加強(qiáng)梁；升降單元包括提升鏈輪和提升鏈條，提升鏈輪分為兩組，每組具有四個(gè)，每組提升鏈輪分別設(shè)置在門型架的四角，兩組提升鏈條分別設(shè)置在兩組提升鏈輪上，提升鏈條形成方形回路，兩組提升鏈條之間分布有連接桿，連接桿的兩端分別與兩組提升鏈條固定連接，連接桿上固定有安裝板，安裝板上設(shè)置有真空吸盤。

移動(dòng)噴槍組件包括第一橫向梁，第一橫向梁的上部滑動(dòng)連接有第一滑塊，第一滑塊的下部設(shè)置有開口，開口內(nèi)滑動(dòng)設(shè)置有第二橫梁，第二橫梁前端鉸接有噴槍；噴槍包括擺動(dòng)氣缸和噴槍本體，噴槍本體鉸接在第二橫梁前端的耳座上，擺動(dòng)氣缸通過(guò)氣缸座與第二橫梁固定連接，擺動(dòng)氣缸的活塞桿與噴槍本體固定連接。

升降驅(qū)動(dòng)單元包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)以及減速機(jī)，驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)電機(jī)安裝座固定設(shè)置在加強(qiáng)梁上，減速機(jī)固定在方形框架上，驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸連接有主動(dòng)輪，減速機(jī)的輸入軸連接有從動(dòng)輪，主動(dòng)輪和從動(dòng)輪之間連接有驅(qū)動(dòng)皮帶。

支柱的下部設(shè)置有緩沖支腳，緩沖支腳為彈性結(jié)構(gòu)；連接桿為多跟，相鄰連接桿之間的距離相等，安裝板的長(zhǎng)度小于連接桿的長(zhǎng)度，且連接桿的寬度小于安裝板的寬度，安裝板上的真空吸盤具有多個(gè)，且相鄰真空吸盤之間的距離相等。

升降驅(qū)動(dòng)單元與控制組件電連接，控制組件內(nèi)部預(yù)先設(shè)定進(jìn)行一塊陶瓷基板噴涂處理的時(shí)間，控制組件根據(jù)該時(shí)間對(duì)升降驅(qū)動(dòng)單元進(jìn)行間歇控制，從而實(shí)現(xiàn)升降組件的間歇運(yùn)動(dòng)。

真空吸盤包括主體部、連接部以及吸盤部,主體部與連接部通過(guò)緊固螺釘固定連接，吸盤部緊密套設(shè)在連接部上，主體部外部還連接有真空管路；主體部為中空結(jié)構(gòu)，其內(nèi)部設(shè)置有固定件，固定件下部具有托舉件，固定件包括球頭和設(shè)置在球頭上部的管狀部，球頭和管狀部均設(shè)置有通路，管狀部穿出主體部與真空管路通過(guò)卡箍密閉連接，球頭內(nèi)部的通路向外延伸并與穿過(guò)連接部的真空吸管連接，真空吸管的末端位于吸盤部?jī)?nèi)，吸盤部的內(nèi)表面為波浪狀，吸盤部的外部為喇叭狀；吸盤部的邊緣還設(shè)置有除靜電網(wǎng)。

本實(shí)用新型的有益效果在于：與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型通過(guò)陶瓷基板的涂覆裝置將涂層膠涂覆于陶瓷基板上，該涂層溶膠增加陶瓷基板對(duì)激光的吸收率，使激光鉆孔加工避免漏鉆現(xiàn)象，且溶膠涂覆均勻，鉆孔后容易從陶瓷基板上分離下來(lái)，不會(huì)出現(xiàn)清洗不凈的現(xiàn)象。

附圖說(shuō)明：

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為循環(huán)提升組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為循環(huán)提升組件的正視圖；

圖4為機(jī)架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為真空吸盤的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為移動(dòng)噴槍組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式：

為了使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式做出詳細(xì)的說(shuō)明。

如圖1-4所示，陶瓷基板的涂覆裝置包括陶瓷基板送入組件、循環(huán)提升組件、移動(dòng)噴槍組件5以及陶瓷基板送出組件，移動(dòng)噴槍組件 5在循環(huán)提升組件的正上方，陶瓷基板送入組件以及陶瓷基板送出組件分別位于循環(huán)提升組件的兩側(cè)面；循環(huán)提升組件包括有機(jī)架、升降驅(qū)動(dòng)單元、接料槽31、出料槽32以及升降單元，接料槽31、出料槽 32分別位于循環(huán)升降組件的兩側(cè)，且與陶瓷基板送入組件、陶瓷基板送出組件銜接；升降單元和升降驅(qū)動(dòng)單元位于機(jī)架上部；機(jī)架包括四根平行設(shè)置的支柱13，支柱13上固定連接有方形框架11，方形框架11上部?jī)蓚?cè)分別固定有門型架，門型架包括兩根豎直支撐柱16以及將其連接起來(lái)的橫梁17，相鄰支柱13的中部還連接有加強(qiáng)梁12；升降單元包括提升鏈輪41和提升鏈條42，提升鏈輪41分為兩組，每組具有四個(gè)，每組提升鏈輪41分別設(shè)置在門型架的四角，兩組提升鏈條42分別設(shè)置在兩組提升鏈輪41上，提升鏈條42形成方形回路，兩組提升鏈條42之間分布有連接桿43，連接桿43的兩端分別與兩組提升鏈條42固定連接，連接桿43上固定有安裝板44，安裝板44上設(shè)置有真空吸盤45。

升降驅(qū)動(dòng)單元包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)21以及減速機(jī)25，驅(qū)動(dòng)電機(jī)21通過(guò)電機(jī)安裝座15固定設(shè)置在加強(qiáng)梁12上，減速機(jī)25固定在方形框架11上，驅(qū)動(dòng)電機(jī)21的輸出軸連接有主動(dòng)輪22，減速機(jī)25的輸入軸連接有從動(dòng)輪23，主動(dòng)輪22和從動(dòng)輪23之間連接有驅(qū)動(dòng)皮帶24。

支柱13的下部設(shè)置有緩沖支腳14，緩沖支腳14為彈性結(jié)構(gòu)；連接桿43為多跟，相鄰連接桿之間的距離相等，安裝板44的長(zhǎng)度小于連接桿43的長(zhǎng)度，且連接桿43的寬度小于安裝板44的寬度，安裝板44上的真空吸盤45具有多個(gè)，且相鄰真空吸盤45之間的距離相等。

升降驅(qū)動(dòng)單元與控制組件電連接，控制組件內(nèi)部預(yù)先設(shè)定進(jìn)行一塊陶瓷基板噴涂處理的時(shí)間，控制組件根據(jù)該時(shí)間對(duì)升降驅(qū)動(dòng)單元進(jìn)行間歇控制，從而實(shí)現(xiàn)升降組件的間歇運(yùn)動(dòng)。

如圖5所示，真空吸盤45包括主體部453、連接部456以及吸盤部457,主體部453與連接部456通過(guò)緊固螺釘459固定連接，吸盤部457緊密套設(shè)在連接部456上，主體部453外部還連接有真空管路451；主體部453為中空結(jié)構(gòu)，其內(nèi)部設(shè)置有固定件454，固定件 454下部具有托舉件455，固定件454包括球頭和設(shè)置在球頭上部的管狀部，球頭和管狀部均設(shè)置有通路，管狀部穿出主體部453與真空管路451通過(guò)卡箍452密閉連接，球頭內(nèi)部的通路向外延伸并與穿過(guò)連接部456的真空吸管450連接，真空吸管450的末端位于吸盤部 457內(nèi)，吸盤部457的內(nèi)表面為波浪狀，吸盤部457的外部為喇叭狀；吸盤部457的邊緣還設(shè)置有除靜電網(wǎng)458。

如圖6所示，移動(dòng)噴槍組件5包括第一橫向梁53，第一橫向梁 53的上部滑動(dòng)連接有第一滑塊52，第一滑塊52的下部設(shè)置有開口，開口內(nèi)滑動(dòng)設(shè)置有第二橫梁51，第二橫梁51前端鉸接有噴槍；噴槍包括擺動(dòng)氣缸54和噴槍本體6，噴槍本體6鉸接在第二橫梁51前端耳座55上，擺動(dòng)氣缸54通過(guò)氣缸座與第二橫梁51固定連接，擺動(dòng)氣缸54的活塞桿與噴槍本體6固定連接。

所述實(shí)施例用以例示性說(shuō)明本實(shí)用新型，而非用于限制本實(shí)用新型。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員均可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下，對(duì)所述實(shí)施例進(jìn)行修改，因此本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)范圍，應(yīng)如本實(shí)用新型的權(quán)利要求所列。