本技術涉及研磨機，特別涉及一種立式雙分散盤研磨機。

背景技術：

1、砂磨機是目前物料適應性最廣、最為先進、效率最高的研磨設備，研磨腔最為狹窄，撥桿間隙最小，研磨能量最密集，配合高性能的冷卻系統(tǒng)和自動控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，極大的提高了生產效率。

2、而現(xiàn)有的一些砂磨機，例如申請?zhí)枺篶n202120513948.2，申請日：2021-03-11提出了一種立式雙分散盤研磨機，包括研磨筒和設置在研磨筒內的主軸，所述主軸套設有若干組合分散盤，所述組合分散盤由第一分散盤和第二分散盤，所述第一分散盤開設有若干第一通孔，所述第二分散盤開設有若干第二通孔，所述第二分散盤下表面凸設有若干弧形葉片，所述弧形葉片相對第二分散盤的中心旋轉對稱。本實用新型采用組合分散盤取代傳統(tǒng)的棒釘，物料和研磨介質從第一分散盤的第一通孔和第二分散盤的第二通孔進入，而后在轉動離心的作用下，物料迅速通過由第一分散盤上表面、第二分散盤下表面和弧形葉片組成的渦輪料道，發(fā)生強烈的對撞作用，從而達到細化物料的作用，可以顯著提升研磨效率。

3、上述公開的專利雖然在第一分散盤和第二分散盤相結合的作用下提高了研磨機的研磨效率，但是由于研磨筒通常采用圓筒的形狀，其空間始終保持一個固定的狀態(tài)，從而導致該裝置使用起來具有一定的局限性，同時也限制了不同物料只能夠達到相同的效果，無法根據(jù)實際的情況以達到想要的研磨以及分散效果。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種立式雙分散盤研磨機，能夠使得研磨筒的空間不會處于一個固定的狀態(tài)，同時也能夠根據(jù)實際的不同物料的研磨，以達到不同效果的研磨以及分散的效果，同時也能夠進一步的提高研磨機的研磨效果以及研磨效率。

2、為解決上述技術問題，本實用新型采用的一個技術方案：

3、一種立式雙分散盤研磨機，包括，

4、研磨筒，所述研磨筒呈錐形結構；

5、所述研磨筒上部的一側固定設置有進料管；

6、所述研磨筒下部的一側固定設置有出料管；

7、所述研磨筒的內腔中轉動設置有傳動軸，所述傳動軸的頂端穿過所述研磨筒，并延伸至所述研磨筒的外部；

8、所述傳動軸上分別滑動套設有第一套塊和第二套塊，且所述第一套塊與所述第二套塊呈相對設置，所述第一套塊與所述第二套塊之間通過螺栓相連接；

9、所述第一套塊與所述第二套塊相背的一側分別開設有安裝槽；

10、所述安裝槽內固定設置有多個彈性件，所述彈性件的一端固定連接有分散盤組件，所述分散盤組件與所述研磨筒內腔的內壁相接觸。

11、根據(jù)一些實施例，所述彈性件為彈簧。

12、根據(jù)一些實施例，所述彈性件的一端固定設置有所述分散盤組件，所述分散盤組件包括：

13、安裝板，所述安裝板滑動嵌設于所述安裝槽內，且所述安裝板的一側與所述彈性件的一端固定連接；

14、第一分散盤本體，所述第一分散盤本體固定設于所述安裝板上部的一側；

15、第二分散盤本體，所述第二分散盤本體固定設于所述安裝板下部的一側，所述第二分散盤本體與所述第一分散盤本體呈相對設置；

16、立柱，所述立柱設于所述第一分散盤與所述第二分散盤之間，且所述立柱上固定設置有多個分散片。

17、根據(jù)一些實施例，所述第一分散盤本體與所述第二分散盤本體之間設置有防護組件，所述防護組件包括：

18、固定塊，所述固定塊固定設于所述第一分散盤本體與所述第二分散盤本體之間，且所述固定塊位于所述立柱的一側；

19、凸頭，所述凸頭固定設于所述固定塊的一側，且所述凸頭的一端與所述研磨筒的內側壁相接觸。

20、根據(jù)一些實施例，所述研磨筒的內壁上沿其高度方向開設有多個環(huán)形槽，所述環(huán)形槽內設置有防護圈，所述防護圈與所述凸頭相接觸。

21、根據(jù)一些實施例，所述防護圈為橡膠材質。

22、有益效果：

23、1、通過將研磨筒設置成為錐形結構，使得在這樣結構的設計作用下，研磨筒的空間不再處于一個固定的狀態(tài)，可以根據(jù)實際的不同物料的研磨需求，調整研磨筒的空間大小，以達到不同效果的研磨和分散效果。

24、2、通過在第一套塊和第二套塊上分別開設有安裝槽，且在安裝槽內固定設置有彈性件，使得在彈性件的作用下，能夠使得分散組件具有伸縮的功能，在這樣的設計作用下，可以增加研磨筒內腔的分散盤組件與內壁之間的接觸面積，大大的提高了該研磨機的分散效果。

25、3、通過將第一套塊和第二套塊采用螺栓的方式進行連接，使得在這樣的方式作用下，可以根據(jù)實際的情況，以對上下相鄰兩個分散盤組件之間的間距進行調節(jié)。

26、實用新型的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

技術特征：

1.一種立式雙分散盤研磨機，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權利要求1所述的一種立式雙分散盤研磨機，其特征在于：所述彈性件(6)為彈簧。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種立式雙分散盤研磨機，其特征在于：所述彈性件(6)的一端固定設置有所述分散盤組件(7)，所述分散盤組件(7)包括：

4.根據(jù)權利要求3所述的一種立式雙分散盤研磨機，其特征在于：所述第一分散盤本體(72)與所述第二分散盤本體(73)之間設置有防護組件(76)，所述防護組件(76)包括：

5.根據(jù)權利要求4所述的一種立式雙分散盤研磨機，其特征在于：所述研磨筒(1)的內壁上沿其高度方向開設有多個環(huán)形槽(13)，所述環(huán)形槽(13)內設置有防護圈(8)，所述防護圈(8)與所述凸頭(762)相接觸。

6.根據(jù)權利要求5所述的一種立式雙分散盤研磨機，其特征在于：所述防護圈(8)為橡膠材質。

技術總結
本技術公開了一種立式雙分散盤研磨機，通過將研磨筒設置成為錐形結構，使得在這樣結構的設計作用下，研磨筒的空間不再處于一個固定的狀態(tài)，可以根據(jù)實際的不同物料的研磨需求，調整研磨筒的空間大小，以達到不同效果的研磨和分散效果；通過在第一套塊和第二套塊上分別開設有安裝槽，且在安裝槽內固定設置有彈性件，使得在彈性件的作用下，能夠使得分散組件具有伸縮的功能，在這樣的設計作用下，可以增加研磨筒內腔的分散盤組件與內壁之間的接觸面積，大大的提高了該研磨機的分散效果；通過將第一套塊和第二套塊采用螺栓的方式進行連接，使得在這樣的方式作用下，可以根據(jù)實際的情況，以對上下相鄰兩個分散盤組件之間的間距進行調節(jié)。

技術研發(fā)人員：徐勇
受保護的技術使用者：重慶渝輝智能裝備有限公司
技術研發(fā)日：20230928
技術公布日：2024/6/26