本發(fā)明涉及研磨設備,尤其涉及一種用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備。
背景技術:
1、納米活性碳酸鈣(nano?active?calcium?carbonate)是指經過表面活性劑處理,顆粒大小在納米尺度范圍內的碳酸鈣材料。其外觀通常為白色或淡黃色六方晶體粉末狀,無味、不溶于水和乙醇、能溶于酸并釋放出二氧化碳。
2、在納米活性碳酸鈣的生產過程中,濕磨設備扮演著至關重要的角色。濕磨設備是專門設計用于在濕潤環(huán)境下對物料進行超細研磨的設備,其工作原理主要基于研磨介質與物料漿料之間的摩擦、撞擊和剪切作用。
3、物料漿料是通過在碳化鈣粉末中加入濕磨溶液而生成的,碳化鈣粉末中加入濕磨溶液的方式會影響粉碎效果,如果加入溶液過快,可能會導致顆粒之間的摩擦力減小,反而降低研磨效果,如果加入溶液過多,會使得物料漿料濃度過高,雖然會導致顆粒之間的碰撞頻率增加,但也可能增加顆粒之間的團聚和粘附現象。
技術實現思路
1、針對上述的缺陷,本發(fā)明本著提供一種納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,可分次加入濕磨溶液,確保物料漿料的濃度處于最佳狀態(tài),提升濕磨效果。
2、為實現上述目的,本發(fā)明提供了如下技術方案:一種用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,包括粉碎倉,所述粉碎倉內設置有兩條可轉動連接的破碎輥,所述破碎輥通過粉碎驅動裝置驅動,所述粉碎倉的底部連通至儲料倉,所述儲料倉的底部設置有若干送料管,所述送料管上設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的送料閥,所述儲料倉下方設置有濕磨倉,所述濕磨倉內設置有可間歇往復運動的濕磨裝置,所述濕磨裝置電連接至plc控制系統(tǒng),所述濕磨裝置底部設置有研磨盤,所述研磨盤可活動連接在濕磨倉下部設置的研磨孔內,所述研磨孔內上部設置有進液孔,所述進液孔通過進液管連通至與plc控制系統(tǒng)電連接的進液泵,所述研磨孔內進液孔的下方設置有供料孔,所述供料孔通過所述送料管連通至儲料倉,所述研磨孔底部設置有出料孔,所述出料孔處設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的出料閥,所述研磨孔通過出料孔連通至下方的烘干倉,所述烘干倉內設置有加熱裝置,所述烘干倉一側鉸接有倉門,所述烘干倉連通至下方的排液倉,所述排液倉的一側設置有排水管。
3、作為本發(fā)明的進一步改進,所述濕磨裝置包括豎直固定連接在濕磨倉頂部的電缸,所述電缸的輸出端固定連接有推板,所述推板底部固定連接有若干組環(huán)形設置的推桿,所述推桿的底部固定連接有內套,所述內套可活動連接在套筒上部,所述套筒固定連接在濕磨倉中部,所述套筒下部設置有兩條平行設置的限位槽,兩條所述限位槽之間設置有兩條豎直的滑道,兩條所述滑道呈180°設置,所述內套內部的上、下兩側均固定連接有卡塊,所述內套內部可滑動連接有壓桿,所述壓桿上開設有與卡塊相匹配傾斜設置的卡槽,所述壓桿的中部穿出內套設置有限位臺,所述限位臺外緣兩側設置有限位塊,所述限位臺及限位塊可活動連接在套筒底部的限位槽和滑道中,所述壓桿的下部穿出套筒,所述研磨盤固定連接在壓桿的底部。
4、作為本發(fā)明的進一步改進,兩個所述卡塊呈180°設置,所述壓桿上設置的兩條卡槽呈180°設置。作為本發(fā)明的進一步改進,所述加熱裝置固定連接在烘干倉的側壁上。
5、作為本發(fā)明的進一步改進,所述加熱裝置固定連接在烘干倉的側壁上。
6、作為本發(fā)明的進一步改進,所述烘干倉內遠離倉門的一側設置有電動推桿,所述電動推桿電連接至plc控制系統(tǒng),所述電動推桿的輸出端固定連接有推料板。
7、作為本發(fā)明的進一步改進,所述烘干倉的底板為濾網。
8、作為本發(fā)明的進一步改進,所述粉碎驅動裝置包括粉碎電機,所述粉碎電機的輸出端固定連接至粉碎減速器的輸入端,所述粉碎減速器的輸出端固定連接至其中一根破碎輥的一端,兩條所述破碎輥之間通過齒輪嚙合傳動。
9、作為本發(fā)明的進一步改進,所述齒輪外部設置有保護殼。
10、作為本發(fā)明的進一步改進,所述儲料倉的下部呈斗狀傾斜設置。
11、本發(fā)明的有益效果:
12、1.通過plc控制系統(tǒng)控制供料、供液裝置,使得在對納米活性碳酸鈣的濕磨過程中,分次加入濕磨溶液然后進行反復研磨。分次加入研磨溶液,可以使碳化鈣粉末在研磨過程中逐漸濕潤和分散,有助于減少顆粒之間的團聚現象,提高研磨效率,同時可以調整研磨介質的濃度,使其保持在適宜的范圍內,從而提高研磨效果。
13、2.通過設置可上、下運動且能夠轉動的研磨盤,可使得研磨盤在下壓過程中對物料產生一個擠壓力,使得在轉動研磨時,除了摩擦物料還會對其產生一個剪切力,彌補了不能持續(xù)高速轉動所導致可能存在的研磨不充分的問題,確保了濕磨的質量。
1.一種用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,包括粉碎倉(5),所述粉碎倉(5)內設置有兩條可轉動連接的破碎輥(50),所述破碎輥(50)通過粉碎驅動裝置(4)驅動,所述粉碎倉(5)的底部連通至儲料倉(6),所述儲料倉(6)的底部設置有若干送料管(20),所述送料管(20)上設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的送料閥,所述儲料倉(6)下方設置有濕磨倉,所述濕磨倉內設置有可間歇往復運動的濕磨裝置,所述濕磨裝置電連接至plc控制系統(tǒng),所述濕磨裝置底部設置有研磨盤(21),所述研磨盤(21)可活動連接在濕磨倉下部設置的研磨孔(17)內,所述研磨孔(17)內上部設置有進液孔(19),所述進液孔(19)通過進液管連通至與plc控制系統(tǒng)電連接的進液泵,所述研磨孔(17)內進液孔(19)的下方設置有供料孔(18),所述供料孔(18)通過所述送料管(20)連通至儲料倉(6),所述研磨孔(17)底部設置有出料孔,所述出料孔處設置有電連接至plc控制系統(tǒng)的出料閥(22),所述研磨孔(17)通過出料孔連通至下方的烘干倉(13),所述烘干倉(13)內設置有加熱裝置(16),所述烘干倉(13)一側鉸接有倉門(3),所述烘干倉(13)連通至下方的排液倉,所述排液倉的一側設置有排水管(14)。
2.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述濕磨裝置包括豎直固定連接在濕磨倉頂部的電缸(7),所述電缸(7)的輸出端固定連接有推板(8),所述推板(8)底部固定連接有若干組環(huán)形設置的推桿(9),所述推桿(9)的底部固定連接有內套(11),所述內套(11)可活動連接在套筒(12)上部,所述套筒(12)固定連接在濕磨倉中部,所述套筒(12)下部設置有兩條平行設置的限位槽,兩條所述限位槽之間設置有兩條豎直的滑道(121),兩條所述滑道(121)呈180°設置,所述內套(11)內部的上、下兩側均固定連接有卡塊(111),所述內套(11)內部可滑動連接有壓桿(10),所述壓桿(10)上開設有與卡塊(111)相匹配傾斜設置的卡槽(100),所述壓桿(10)的中部穿出內套(11)設置有限位臺(101),所述限位臺(101)外緣兩側設置有限位塊(102),所述限位臺(101)及限位塊(102)可活動連接在套筒(12)底部的限位槽和滑道(121)中,所述壓桿(10)的下部穿出套筒(12),所述研磨盤(21)固定連接在壓桿(10)的底部。
3.根據權利要求2所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,兩個所述卡塊(111)呈180°設置,所述壓桿(10)上設置的兩條卡槽(100)呈180°設置。
4.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述加熱裝置(16)固定連接在烘干倉(13)的側壁上。
5.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述烘干倉(13)內遠離倉門(3)的一側設置有電動推桿(15),所述電動推桿(15)電連接至plc控制系統(tǒng),所述電動推桿(15)的輸出端固定連接有推料板。
6.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述烘干倉(13)的底板為濾網。
7.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述排液倉的底板呈傾斜設置,所述排水管(14)設置在排液倉內較低的一側。
8.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述粉碎驅動裝置(4)包括粉碎電機,所述粉碎電機的輸出端固定連接至粉碎減速器的輸入端,所述粉碎減速器的輸出端固定連接至其中一根破碎輥(50)的一端,兩條所述破碎輥(50)之間通過齒輪嚙合傳動。
9.根據權利要求8所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述齒輪外部設置有保護殼(2)。
10.根據權利要求1所述的用于納米活性碳酸鈣生產的濕磨設備,其特征在于,所述儲料倉(6)的下部呈斗狀傾斜設置。