本技術(shù)涉及超細(xì)電子用氧化鈮制作沉淀，更具體地說(shuō)，本技術(shù)涉及一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置。

背景技術(shù)：

1、氧化鈮是一種常見(jiàn)的功能氧化物材料，在超細(xì)電子領(lǐng)域，氧化鈮可以用于制備超級(jí)電容器、薄膜晶體管、電子納米材料等器件，在氧化鈮的制作過(guò)程中，反應(yīng)液中得ph值非常重要，其對(duì)產(chǎn)物的形貌、尺寸等性質(zhì)有直接影響，為了保證ph值在最佳范圍內(nèi)，通常向裝置中加入氨水來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)，由于制作過(guò)程中的溫度較高，故在此過(guò)程中氨水會(huì)揮發(fā)并產(chǎn)生大量的氨氣，這一方面會(huì)造成資源的浪費(fèi)，另一方面氨氣具有一定的毒性，直接排放到空氣中會(huì)損害人體健康并對(duì)環(huán)境造成污染。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本實(shí)用新型提供一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，以解決傳統(tǒng)氧化鈮固定式沉淀裝置在制作氧化鈮沉淀過(guò)程中會(huì)使得氨氣揮發(fā)從而造成浪費(fèi)問(wèn)題。

2、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，包括

3、底板；

4、支柱，所述支柱固定連接在底板的頂側(cè)；

5、電動(dòng)推桿，所述電動(dòng)推桿固定連接在支柱的下方；

6、降溫組件，所述降溫組件固定連接在電動(dòng)推桿的底側(cè)；

7、收集組件，所述收集組件包括頂蓋、第一導(dǎo)流板、收集筒、過(guò)渡倉(cāng)、第二風(fēng)扇、第二導(dǎo)流板、儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)，所述第一導(dǎo)流板的頂側(cè)固定連接在頂蓋的底側(cè)，所述收集筒的頂側(cè)固定連接在第一導(dǎo)流板的底側(cè)，所述過(guò)渡倉(cāng)設(shè)置在頂蓋的頂側(cè)，所述第二風(fēng)扇的頂端固定連接在過(guò)渡倉(cāng)的頂側(cè)內(nèi)表面，所述第二導(dǎo)流板的底側(cè)固定連接在過(guò)渡倉(cāng)的頂側(cè)，所述儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)固定連接在第二導(dǎo)流板的頂側(cè)表面；

8、反應(yīng)釜主體，所述反應(yīng)釜主體設(shè)置在頂蓋的下方。

9、其中，所述儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)包括氣泵、導(dǎo)管、單向閥、儲(chǔ)水室、過(guò)濾盒，所述氣泵的底端固定連接在第二導(dǎo)流板的頂側(cè)，所述導(dǎo)管的一端固定連接在氣泵的頂端，所述單向閥的底側(cè)固定連接在導(dǎo)管的另一端，所述儲(chǔ)水室的底側(cè)固定連接在單向閥的頂側(cè)，所述儲(chǔ)水室設(shè)置在降溫組件的內(nèi)部，所述過(guò)濾盒的底側(cè)固定連接在儲(chǔ)水室的頂側(cè)。

10、其中，所述降溫組件包括保護(hù)殼、第一風(fēng)扇、連接架，所述保護(hù)殼的上下表面設(shè)置有圓孔，所述保護(hù)殼通過(guò)圓孔固定連接在儲(chǔ)水室的外側(cè)表面，所述第一風(fēng)扇的一端固定連接在保護(hù)殼的內(nèi)側(cè)表面，所述連接架的底端固定連接在保護(hù)殼的頂側(cè)。

11、其中，所述第一導(dǎo)流板的表面設(shè)置有第一通氣孔，所述過(guò)渡倉(cāng)的頂側(cè)表面設(shè)置有第二通氣孔，第一通氣孔和第二通氣孔的位置設(shè)置不在一條直線上。

12、其中，所述過(guò)濾盒的內(nèi)部設(shè)置有活性炭過(guò)濾芯和氧化鐵過(guò)濾芯。

13、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

14、本實(shí)用新型通過(guò)啟動(dòng)電動(dòng)推桿電源，電動(dòng)推桿開(kāi)始伸長(zhǎng)并通過(guò)連接架帶動(dòng)頂蓋向下運(yùn)動(dòng)，等到頂蓋完全覆蓋在反應(yīng)釜主體表面時(shí)斷開(kāi)電動(dòng)推桿電源，頂蓋停止運(yùn)動(dòng)，此時(shí)再沉淀過(guò)程中由于高溫作用，反應(yīng)釜主體內(nèi)部的反應(yīng)液中會(huì)有大量的氨氣揮發(fā)出，此時(shí)啟動(dòng)第二風(fēng)扇電源，第二風(fēng)扇旋轉(zhuǎn)將會(huì)發(fā)出的氨氣通過(guò)第一導(dǎo)流板表面的第一通氣孔中吸入并將氨氣輸送至第二導(dǎo)流板下方，隨后啟動(dòng)氣泵電源，氣泵將聚集在第二導(dǎo)流板下方的氨氣泵入導(dǎo)管中，隨后導(dǎo)管中的氨氣會(huì)通過(guò)單向閥進(jìn)入儲(chǔ)水室的內(nèi)部，利用上述結(jié)構(gòu)，可以對(duì)反應(yīng)過(guò)程中揮發(fā)出的氨氣做出收集處理，并將氨氣儲(chǔ)存起來(lái)并再次制作成氨水以便重復(fù)使用，在避免了氨氣污染空氣的同時(shí)減少了資源的浪費(fèi)；

15、本實(shí)用新型通過(guò)啟動(dòng)第一風(fēng)扇電源，第一風(fēng)扇將外部的空氣吹到儲(chǔ)水室表面，空氣通過(guò)保護(hù)殼一側(cè)的長(zhǎng)槽被吸入，經(jīng)過(guò)儲(chǔ)水室表面后再?gòu)谋Ｗo(hù)殼另一側(cè)的長(zhǎng)槽被吹出，利用上述結(jié)構(gòu)，可以對(duì)儲(chǔ)水室表面起到降溫效果，從而加強(qiáng)氨氣的溶解量，使得儲(chǔ)水室內(nèi)部的水中能夠溶入更多的氨氣。

技術(shù)特征：

1.一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，其特征在于，包括

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)存機(jī)構(gòu)(57)包括氣泵(571)、導(dǎo)管(572)、單向閥(573)、儲(chǔ)水室(574)、過(guò)濾盒(575)，所述氣泵(571)的底端固定連接在第二導(dǎo)流板(56)的頂側(cè)，所述導(dǎo)管(572)的一端固定連接在氣泵(571)的頂端，所述單向閥(573)的底側(cè)固定連接在導(dǎo)管(572)的另一端，所述儲(chǔ)水室(574)的底側(cè)固定連接在單向閥(573)的頂側(cè)，所述儲(chǔ)水室(574)設(shè)置在降溫組件(4)的內(nèi)部，所述過(guò)濾盒(575)的底側(cè)固定連接在儲(chǔ)水室(574)的頂側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，其特征在于，所述降溫組件(4)包括保護(hù)殼(41)、第一風(fēng)扇(42)、連接架(43)，所述保護(hù)殼(41)的上下表面設(shè)置有圓孔，所述保護(hù)殼(41)通過(guò)圓孔固定連接在儲(chǔ)水室(574)的外側(cè)表面，所述第一風(fēng)扇(42)的一端固定連接在保護(hù)殼(41)的內(nèi)側(cè)表面，所述連接架(43)的底端固定連接在保護(hù)殼(41)的頂側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，其特征在于，所述第一導(dǎo)流板(52)的表面設(shè)置有第一通氣孔，所述過(guò)渡倉(cāng)(54)的頂側(cè)表面設(shè)置有第二通氣孔，第一通氣孔和第二通氣孔的位置設(shè)置不在一條直線上。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，其特征在于，所述過(guò)濾盒(575)的內(nèi)部設(shè)置有活性炭過(guò)濾芯和氧化鐵過(guò)濾芯。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種超細(xì)電子用氧化鈮固定式沉淀裝置，包括收集組件，所述收集組件包括頂蓋、第一導(dǎo)流板、收集筒、過(guò)渡倉(cāng)、第二風(fēng)扇、第二導(dǎo)流板，所述第一導(dǎo)流板的頂側(cè)固定連接在頂蓋的底側(cè)，所述收集筒的頂側(cè)固定連接在第一導(dǎo)流板的底側(cè)，所述過(guò)渡倉(cāng)設(shè)置在頂蓋的頂側(cè)，所述第二風(fēng)扇的頂端固定連接在過(guò)渡倉(cāng)的頂側(cè)內(nèi)表面，所述第二導(dǎo)流板的底側(cè)固定連接在過(guò)渡倉(cāng)的頂側(cè)。利用收集組件，可以對(duì)反應(yīng)過(guò)程中揮發(fā)出的氨氣做出收集處理，并將氨氣儲(chǔ)存起來(lái)并再次制作成氨水以便重復(fù)使用，在避免了氨氣污染空氣的同時(shí)減少了資源的浪費(fèi)，利用降溫組件，可以對(duì)儲(chǔ)水室表面起到降溫效果，從而加強(qiáng)氨氣的溶解量，使得儲(chǔ)水室內(nèi)部的水中能夠溶入更多的氨氣。

技術(shù)研發(fā)人員：譚榮才,王永強(qiáng),單思華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：新興浩榮電子材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240126
技術(shù)公布日：2024/9/17