本技術(shù)屬于涂布機(jī),尤其涉及一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī)。
背景技術(shù):
1、光學(xué)膠是一種與光學(xué)零件的光學(xué)性能相近,?并具有優(yōu)良膠接性能的高分子物質(zhì)。它可以把兩個(gè)或多個(gè)光學(xué)零件膠合為能滿足光路設(shè)計(jì)要求的光學(xué)組件;?或利用它來實(shí)現(xiàn)對(duì)高精度光學(xué)標(biāo)尺、濾光器等保護(hù)玻璃的膠合。
2、在對(duì)將光學(xué)膠涂布在基板上時(shí),為避免基板在涂布板推動(dòng)作用下移動(dòng),需對(duì)其進(jìn)行固定,傳統(tǒng)的固定方式是通過若干豎直的限位板對(duì)其進(jìn)行限位,然而限位時(shí),限位板會(huì)和基板的上側(cè)邊沿接觸,在限位板的組當(dāng)下,光學(xué)膠可能會(huì)在基板的上側(cè)邊沿堆積,造成涂布不均勻的現(xiàn)象,為解決上述問題,現(xiàn)提供一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī)。
3、需要說明的是,上述內(nèi)容屬于發(fā)明人的技術(shù)認(rèn)知范疇,并不必然構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了解決上述問題,本實(shí)用新型的目的是提供一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),通過設(shè)置傾斜的限位板,使得在對(duì)基板進(jìn)行限位時(shí),限位板與基板的底邊接觸,能夠避免限位板與基板的上邊沿接觸,避免光學(xué)膠在基板的邊沿堆積。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出了一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),用于對(duì)基板進(jìn)行涂布,涂布機(jī)包括用于放置基板的涂布平臺(tái),所述涂布平臺(tái)上安裝有用于對(duì)基板進(jìn)行限位的限位組件。
3、所述涂布平臺(tái)上開設(shè)有對(duì)稱分布的貫穿孔,限位組件包括兩個(gè)豎直的第一氣缸,第一氣缸固定在涂布平臺(tái)的底部,第一氣缸的輸出軸上固定有l(wèi)形連接桿,l形連接桿的豎桿上固定有傾斜的限位板,限位板的上端向遠(yuǎn)離涂布平臺(tái)中心一側(cè)傾斜,限位板從貫穿孔內(nèi)穿出。
4、進(jìn)一步的,所述涂布平臺(tái)的一端固定有l(wèi)形支撐板,l形支撐板的頂板上固定有用于存放光學(xué)膠的熱熔箱。
5、進(jìn)一步的,所述熱熔箱的內(nèi)部設(shè)置有水平的篩網(wǎng),熱熔箱的一端固定有第二氣缸,第二氣缸的輸出軸穿入熱熔箱的內(nèi)部垂直固定有水平的第一連接條,第一連接條的下方固定有刷條,刷條的下方與篩網(wǎng)接觸,刷條與第一連接條之間固定連接有陣列分布的攪拌棒。
6、進(jìn)一步的,所述熱熔箱上連接有噴淋組件,噴淋組件包括條形的噴頭,噴頭的兩端均固定有第一支撐桿,熱熔箱上安裝有抽液泵,抽液泵上的出液口與噴頭之間連接有軟管。
7、進(jìn)一步的,所述涂布機(jī)還包括涂布組件,涂布組件包括第二連接條,第二連接條的下方固定有涂布板,第二連接條的兩端均固定有第二支撐桿;
8、進(jìn)一步的,所述l形支撐板的頂板一側(cè)固定有對(duì)稱分布的l形支架,l形支架上開設(shè)有至少兩個(gè)開槽。
9、進(jìn)一步的,所述涂布平臺(tái)上滑動(dòng)設(shè)有用于控制噴淋組件和涂布組件移動(dòng)的移動(dòng)組件。
10、進(jìn)一步的,所述涂布平臺(tái)開設(shè)有兩個(gè)平行分布的導(dǎo)軌,基板放置在兩個(gè)導(dǎo)軌之間,移動(dòng)組件包括兩個(gè)電動(dòng)的滑塊,滑塊的上方固定豎直的第三氣缸,第三氣缸的輸出軸上垂直固定有第四氣缸,第四氣缸垂直于導(dǎo)軌,第四氣缸的輸出軸上固定有用于安裝第二支撐桿或第一支撐桿的安裝套,兩個(gè)安裝套相對(duì)應(yīng)。
11、進(jìn)一步的,所述涂布平臺(tái)的下方設(shè)有對(duì)稱分布的回收箱,回收箱正對(duì)貫穿孔。
12、通過本實(shí)用新型提出的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī)能夠帶來如下有益效果:
13、1、本實(shí)用新型涂布機(jī)通過設(shè)置傾斜的限位板,使得在對(duì)基板進(jìn)行限位時(shí),限位板與基板的底邊接觸,能夠避免限位板與基板的上邊沿接觸,避免光學(xué)膠在基板的邊沿堆積;
14、2、本實(shí)用新型涂布機(jī)通過第二氣缸控制攪拌棒和刷條移動(dòng)對(duì)光學(xué)膠進(jìn)行攪拌,使其受熱均勻,同時(shí)刷條對(duì)篩網(wǎng)進(jìn)行掛刷,避免篩網(wǎng)的網(wǎng)孔堵塞,通過設(shè)置篩網(wǎng)能夠?yàn)V除光學(xué)膠內(nèi)的氣泡和固體雜質(zhì),達(dá)到防氣泡效果。
1.一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),用于對(duì)基板(10)進(jìn)行涂布,涂布機(jī)包括用于放置基板(10)的涂布平臺(tái)(1),其特征在于,所述涂布平臺(tái)(1)上安裝有用于對(duì)基板(10)進(jìn)行限位的限位組件(2);
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述涂布平臺(tái)(1)的一端固定有l(wèi)形支撐板(3),l形支撐板(3)的頂板上固定有用于存放光學(xué)膠的熱熔箱(4)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述熱熔箱(4)的內(nèi)部設(shè)置有水平的篩網(wǎng)(41),熱熔箱(4)的一端固定有第二氣缸(42),第二氣缸(42)的輸出軸穿入熱熔箱(4)的內(nèi)部垂直固定有水平的第一連接條(43),第一連接條(43)的下方固定有刷條(44),刷條(44)的下方與篩網(wǎng)(41)接觸,刷條(44)與第一連接條(43)之間固定連接有陣列分布的攪拌棒(45)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述熱熔箱(4)上連接有噴淋組件(5),噴淋組件(5)包括條形的噴頭(51),噴頭(51)的兩端均固定有第一支撐桿(52),熱熔箱(4)上安裝有抽液泵(53),抽液泵(53)上的出液口與噴頭(51)之間連接有軟管(54)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述涂布機(jī)還包括涂布組件(6),涂布組件(6)包括第二連接條(61),第二連接條(61)的下方固定有涂布板(63),第二連接條(61)的兩端均固定有第二支撐桿(62)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述l形支撐板(3)的頂板一側(cè)固定有對(duì)稱分布的l形支架(31),l形支架(31)上開設(shè)有至少兩個(gè)開槽(32)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述涂布平臺(tái)(1)上滑動(dòng)設(shè)有用于控制噴淋組件(5)和涂布組件(6)移動(dòng)的移動(dòng)組件(7)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述涂布平臺(tái)(1)開設(shè)有兩個(gè)平行分布的導(dǎo)軌(12),基板(10)放置在兩個(gè)導(dǎo)軌(12)之間,移動(dòng)組件(7)包括兩個(gè)電動(dòng)的滑塊(71),滑塊(71)的上方固定豎直的第三氣缸(72),第三氣缸(72)的輸出軸上垂直固定有第四氣缸(73),第四氣缸(73)垂直于導(dǎo)軌(12),第四氣缸(73)的輸出軸上固定有用于安裝第二支撐桿(62)或第一支撐桿(52)的安裝套(74),兩個(gè)安裝套(74)相對(duì)應(yīng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種預(yù)防氣泡光學(xué)膠生產(chǎn)用均勻涂布機(jī),其特征在于,所述涂布平臺(tái)(1)的下方設(shè)有對(duì)稱分布的回收箱,回收箱正對(duì)貫穿孔(11)。