專利名稱：用于從氣體中除去羰基金屬和水分的方法和裝置的制作方法
背景技術(shù)：
發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種用于從氣體中除去羰基金屬和水分的方法和裝置。更具體地說，本發(fā)明涉及一種用于從氣體中除去羰基金屬組合物和該氣體中存在本身的水分、以及用于除去在從所述氣體中除去金屬羰基組合物的過程中形成的水分的方法和裝置。
現(xiàn)有技術(shù)目前，許多工業(yè)在它們的加工工藝中都要求使用凈化的氣體。即使百萬分之一(ppm)或十億分之一(ppb)級(jí)的雜質(zhì)也可對(duì)某些產(chǎn)品的外觀或性能產(chǎn)生有害影響。針對(duì)半導(dǎo)體加工的1994年半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)推薦技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)確立了對(duì)于0.25μm加工用的普通和專用氣體的主要不純度規(guī)格分別為0.1-1.0和1-100ppb。將相同尺寸的硅晶片上的單種金屬的技術(shù)條件設(shè)定為2.5×1010原子/cm2。因?yàn)檫@些要求和使用不純氣體所觀察到其它副效應(yīng)，發(fā)現(xiàn)加工工藝和清洗氣體的凈化在微電子工業(yè)中被普遍采納和使用。理想的凈化材料將除去不想要的雜質(zhì)且不產(chǎn)生將污染所述氣體的揮發(fā)性副產(chǎn)物。而且，所述凈化材料在真空或加壓工藝流程條件下將不是揮發(fā)性的。將更受歡迎的是，所述凈化材料將任何有毒雜質(zhì)化學(xué)轉(zhuǎn)變成為較少毒性、非揮發(fā)性的副產(chǎn)物。理想地，所述凈化材料將在室溫下加工且不要求電力驅(qū)動(dòng)。
Lindley等人在固態(tài)技術(shù)(Solid State Technol.)1997，40(8)，93中公開了當(dāng)將CO引入至蝕刻化學(xué)反應(yīng)中時(shí)，介電蝕刻的選擇性提高。這個(gè)選擇性是制備尺寸≤0.35μm的半導(dǎo)體設(shè)備時(shí)所要求的。不幸地是，CO與某些金屬例如鐵和鎳反應(yīng)，在熱力學(xué)上有利于形成揮發(fā)性羰基金屬，該羰基金屬能夠沉積在晶片上而發(fā)生不希望有的金屬污染。這在Cooper，G.，半導(dǎo)體國(guó)際動(dòng)態(tài)(Semiconductor intl.)1997，20(8)，301中提及，該篇文獻(xiàn)中介紹了當(dāng)將CO裝在鋼與鋁氣瓶中進(jìn)行比較時(shí)，試驗(yàn)結(jié)果表明晶片上的金屬例如鐵、鉻和鎳的含量、污染度都增加了。然而，使用鋁氣瓶與非蝕刻的對(duì)照硅晶片進(jìn)行比較時(shí)，仍然觀察到鎳污染程度的增加，據(jù)認(rèn)為這是由于CO與在該研究中使用的哈斯特洛伊管中的鎳和鎳密封圈反應(yīng)的結(jié)果。Xu等人在分子催化劑雜志(J.mol.catal.)1993，83，391中介紹了由CO與FTIR容器中的不銹鋼表面反應(yīng)而立即形成五羰鐵Fe(CO)5。另外，F(xiàn)e(CO)5和四羰鎳(Ni(CO)4)兩者是極毒的，其閥限值(TLV)分別為100ppb和50ppb。
Golden等人在Ind.Eng.Chem.Res.1991，30(3)，502中介紹了使用五種市售吸收劑，也就是活性炭、硅膠、活性鋁土、甲醇催化劑和HY沸石吸收痕量的Fe(CO)5和Ni(CO)4。活性炭和沸石對(duì)羰基表現(xiàn)出最大的吸收能力且進(jìn)一步調(diào)查了它們?cè)诟邷叵聦?duì)羰基的吸收。在沸石上觀察到對(duì)Fe(CO)5的吸收且活性炭對(duì)Fe(CO)5僅有微量(＜0.1％)的吸收；然而，在升高的溫度下活性炭完全吸收了Ni(CO)4。另外，在所述氣體中其它雜質(zhì)例如二氧化碳(CO2)的存在顯示出降低了吸收劑對(duì)羰基金屬的吸收能力。在一個(gè)凈化器內(nèi)通過物理吸附方法除去這些羰基金屬時(shí)產(chǎn)生相應(yīng)濃度的毒性雜質(zhì)，在替換凈化器時(shí)，將產(chǎn)生安全和健康潛在事故。
美國(guó)專利4608239介紹了使用一種由堿金屬氫氧化物與高沸點(diǎn)羥基溶劑所組成的凈化劑從含有CO的氣體中除去Fe(CO)5的一種方法。使用溶劑是不受歡迎的，因?yàn)檫@些溶劑中的蒸氣在真空或加壓的工藝條件下將污染帶有碳或氧雜質(zhì)的下游產(chǎn)物。
國(guó)際專利申請(qǐng)出版號(hào)WO 94/25142介紹了一種氧化鉛PbO的凈化劑，其分散在一載體上以從氣體中除去羰基金屬。在該申請(qǐng)中，對(duì)于是通過化學(xué)方法或是物理方法除去所述羰基，存在一些不確定性。然而，從所得數(shù)據(jù)看來，主要是由物理吸附的方法得到，因?yàn)閮H在溫度超過100℃時(shí)，才觀察到黑色沉淀，也就是羰基化合物的降解。從安全的觀點(diǎn)考慮，通過化學(xué)吸附方法不可逆地除去毒性的羰基化合物是受歡迎的。雖然PbO具有足夠的還原電位以用于將羰基鐵和羰基鎳氧化成它們各自的鹽類，而PbO將同時(shí)被還原成鉛金屬并產(chǎn)生水分雜質(zhì)，對(duì)于Fe(CO)5的情況如下式所示所述氫離子通常發(fā)現(xiàn)存在于載體材料和氣體中作為一種伴生物。將水分雜質(zhì)釋放至凈化的氣體流中是不受歡迎的，因?yàn)樗衷谀承┲苽涔に囍欣绨雽?dǎo)體加工中具有有害的影響。
捷克專利號(hào)CS187947B介紹了一種用于從氣體混合物中除去Fe(CO)5和含硫化合物的凈化劑，其由一種作為其主要成分的催化劑、Cu和/或CuO和ZnO組成。與國(guó)際專利申請(qǐng)?zhí)朩O 94/25142所述的凈化劑一樣，這些凈化劑具有相同的不理想的特點(diǎn)，也就是釋放出水分雜質(zhì)。
美國(guó)專利號(hào)4853148介紹了用于除去水分雜質(zhì)的凈化劑，其是分散在一種載體上的通式為MXy的金屬鹵化物，其中M是選自于鋰(I)、鈹(II)、鎂(II)、鈣(II)、鍶(II)、鋇(II)、鎘(II)、鎳(I)、鐵(II)、鐵(III)、鋅(II)和鋁(III)的y-價(jià)的金屬；且y是1-3的整數(shù)。這個(gè)凈化劑相對(duì)于其它吸收劑例如沸石和氧化鋁具有優(yōu)勢(shì)，因?yàn)樗淮嬖谂c待凈化的氣體或其它氣體雜質(zhì)如CO2競(jìng)爭(zhēng)吸收水分。由該專利公開的凈化劑僅能夠除去水分但不能除去其它雜質(zhì)例如羰基金屬和含硫化合物。
提供一種適于僅能除去揮發(fā)性羰基金屬或也能除去氣體中的其它雜質(zhì)如含硫化合物，同時(shí)避免有水分釋放至所述氣體中的組合物將是受歡迎的。更受歡迎的是降低所述氣體中的水分濃度。還受歡迎的是這類凈化過程由化學(xué)吸附而不是由物理吸附完成，由此防止了被吸收的組合物的逆向釋放。此外，提供一種在正常的操作壓力和室溫下能夠有效地使用的組合物將是受歡迎的。
發(fā)明綜述本發(fā)明提供一種從原料氣之中除去羰基金屬，同時(shí)避免了有水分釋放至所述氣體中的方法和裝置。另外，本發(fā)明提供了也可除去在初始原料氣中存在的水分的一種方法和裝置。本發(fā)明的裝置包含一個(gè)殼體，該殼體含有作為用于從氣體中除去羰基金屬和水分的活性凈化劑的一種顆粒組合物。所述殼體包括供原料氣進(jìn)入的入口和處理后氣體的出口。所述顆粒組合物是由一種顆粒混合物制成，該顆?；旌衔锇婶驶饘賰艋瘎┩坎嫉妮d體制成的顆粒和/或一種羰基金屬凈化劑的顆粒以及由水分凈化劑涂布的載體制成的顆粒和/或一種水分凈化劑的顆粒。
從氣體中除去羰基金屬通過下述步驟施行在對(duì)所述羰基金屬實(shí)施氧化并釋放出從所述羰基金屬衍生的一氧化碳的條件下，使氣體通過顆粒層。當(dāng)在所述氣體中或在處理氣體的裝置中存在氫離子時(shí)，在氧化過程中形成的任何水分將由所述的水分凈化劑截住。
因?yàn)闅潆x子通常在大多數(shù)氣體中存在，它甚至在低濃度下也能與氧化反應(yīng)的過程中制得的氧原子容易地反應(yīng)形成水分。由此，為了除去在氧化反應(yīng)過程中形成的水分，將所述水分凈化劑放置在羰基金屬凈化劑的下游或與羰基金屬用凈化劑混合在一起。
附圖的簡(jiǎn)要說明

圖1是本發(fā)明的裝置的示意圖。
圖2顯示了含有羰基鎳的CO氣體的吸收光譜和根據(jù)本發(fā)明制備的不含有羰基鎳的經(jīng)凈化的CO氣體的吸收光譜。
圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)方法處理除去了羰基鐵和水分的CO氣體的吸收光譜之間的差別。
具體實(shí)施方案的介紹根據(jù)本發(fā)明的方法，將含有羰基金屬的一種氣體與包括有羰基金屬凈化劑和水分凈化劑的一種混合物接觸，或者將氣體先與羰基金屬的凈化劑接觸，隨后與水分的凈化劑接觸。
本發(fā)明的羰基金屬凈化劑由下列組分組成a)一種還原電位高于約0.175伏的活性凈化劑，其包含一種金屬氧化物、有機(jī)金屬氧化物或它們的混合物；b)用于從通過本發(fā)明的所述裝置的氣體中除去水分的一種活性凈化劑；和c)一種可由(a)和/或(b)組成的高表面積的載體材料。
選擇氧化劑以使還原電位對(duì)羰基金屬進(jìn)行氧化是足夠的。具有代表性的合適金屬氧化物包括鎂、鉻、銅、銀、鐵、礬、鈦、銻、鉍、鉛的氧化物和它們的混合物或等同物。具有代表性的有機(jī)金屬氧化物包括下列物質(zhì)例如氯化鉻酸吡啶鎓(PPC)，二鉻酸吡啶鎓和氧化鉻(VI)-3，5-二甲氧基吡唑配合物或類似物。這些凈化劑也可用于除去含有包括有H2S、SO2和CH3SH的硫化物。羰基金屬的優(yōu)選凈化劑是CuO、Fe2O3、MnO2或C5H6ClCrNO3(PPC)。
用于除去水分的活性凈化劑的除水分能力或效率不受將與水分優(yōu)選競(jìng)爭(zhēng)粘附至載體上的其它雜質(zhì)的影響。用于除去在原料氣中存在的或作為由金屬氧化物或有機(jī)金屬氧化物與羰基金屬雜質(zhì)反應(yīng)所產(chǎn)生的副產(chǎn)物的水分雜質(zhì)的活性凈化劑包括一種在載體上的物質(zhì)如無水鹵化鎂。
所述活性水分凈化劑可以是(i)分散在所述載體上的通式為MXy的鹵化金屬化合物；(ii)共價(jià)連接至所述載體上的通式為-MXy-1的鹵化金屬側(cè)基官能團(tuán)，其中M是選自于鋰(I)、鈹(II)、鎂(II)、鈣(II)、鍶(II)、鋇(II)、鎘(II)、鎳(I)、鐵(II)、鐵(III)、鋅(II)、鋁(III)和它們的混合物；y是1-3的一個(gè)整數(shù)；且所述活性凈化部分的鹵化金屬化合物和/或鹵化金屬側(cè)基官能團(tuán)是由對(duì)應(yīng)的部分地或完全地烷基化的化合物和/或側(cè)基官能團(tuán)與氣態(tài)鹵化氫反應(yīng)形成的；所述載體的蒸汽壓低于1PPm；選擇M以使它的水合鹵化物MXy·(H2O)n的形成熱為對(duì)每種水合水分子而言，每摩爾此類水合鹵化物的形成熱大于或等于10.1千卡，其中n是在所述鹵化金屬水合物中粘結(jié)至金屬鹵化物上的水分子的數(shù)目，這已在美國(guó)專利4853148所公開，在此將其引入作為參考。能夠使用的具有代表性的其它水分凈化劑包括下列凈化劑例如BaO、MgSO4、CaCl2、CaSO4或等同物。
當(dāng)不使用由所述羰基金屬凈化劑和所述水分凈化劑組成的顆粒時(shí)，一種用于羰基金屬凈化劑或水分凈化劑的載體可用于制成所述顆粒。
本發(fā)明的合適載體材料包括可與凈化流體和在凈化反應(yīng)過程中形成的任何副產(chǎn)物相容的任何材料。它們通常具有如下特征a)高表面積，通常大于50m2/g；
b)高孔隙度；和c)好的熱穩(wěn)定性。
具有代表性的載體材料包括氧化鋁、二氧化硅、碳、二氧化鈦、氧化鎂、沸石和高度交聯(lián)的聚合物。優(yōu)選的載體材料是氧化鋁。
用于本發(fā)明的所述凈化劑中的活性化學(xué)物質(zhì)可沉積在相同或不同高表面積載體材料上。所述載體材料本身可用作所述活性化學(xué)物質(zhì)中的一種。在對(duì)所述活性化學(xué)物質(zhì)使用不同載體材料的情況下，個(gè)別材料可在凈化器內(nèi)以一種均相混合物或?qū)訝畲泊嬖凇?br> 通過除去羰基金屬和水分雜質(zhì)而被凈化的代表性氣體包括一氧化碳和惰性氣體如氬、氦、氮或等同物。如果任何其它氣體與所述凈化劑是相容的，則也可對(duì)它們進(jìn)行處理。
圖1顯示了本發(fā)明的用途。參見圖1，本發(fā)明的裝置10包括一個(gè)入口12、出口14和殼體16。顆粒18可包含羰基金屬凈化劑顆粒和水分凈化劑顆粒的混合物。另一方面，可將所述羰基金屬凈化劑顆粒放置在接近于入口12處而水分凈化劑顆粒另外放置在接近于出口14。在第三種選擇方案中，是將所述羰基金屬凈化劑顆粒放置在上游處的一個(gè)單獨(dú)的小室中，而水分凈化劑顆粒可放置在羰基金屬凈化劑顆粒用小室的下游的另一個(gè)小室中。
下列實(shí)施例說明了本發(fā)明但不意欲限制本發(fā)明。
實(shí)施例1按照下列步驟制備在鋁載體上的氧化鉻(VI)將氧化鉻(VI)(12.0g)在去離子水(25ml)中的溶液在懸吊式機(jī)械攪拌下添加至氧化鋁(50.0g)于去離子水(25ml)中制得的漿液中。將所得的混合物攪拌一小時(shí)，然后轉(zhuǎn)移至一個(gè)圓底燒瓶中且然后在一旋轉(zhuǎn)式汽化器上濃縮。在真空下于120℃再干燥4小時(shí)。
實(shí)施例2按照下列步驟制備在沸石載體上的氯化鉻酸吡啶鎓在室溫下將氧化鉻(VI)(12.0g)在磁攪拌下加入至2N HCl(66mL)溶液中。在攪拌下于10分鐘內(nèi)將吡啶(9.2g)滴加入。將所得的溶液攪拌15分鐘。將NaY沸石(50.0g)加入至所述溶液中使得混合物的溫度增高。將所得的混合物靜置1.5小時(shí)，然后過濾該混合物，得到橙黃色的沸石。在真空下于130℃將所得的氯化鉻酸吡啶鎓/NaY混合物干燥4小時(shí)。
實(shí)施例3按照下列步驟對(duì)在氧化鋁凈化劑上的市售氧化銅進(jìn)行干燥將購(gòu)自Engelhard Corporation并包含在50cc不銹鋼試樣筒中的一個(gè)CU-0226S(50cc)試樣在100℃及3slpm的純凈氮?dú)饬飨赂稍?6小時(shí)，所述試樣是通過使用金屬燒結(jié)物插入至所述壓制管中而制得的。
實(shí)施例4按照下列步驟制備在氧化鋁上的氧化銅和在氧化鋁上的無水鹵化鎂的一種混合物在一個(gè)充有氮?dú)獾氖痔资讲僮飨渲?，用在?shí)施例3中制得的CU-0226S(約4cc)試樣部分地填充由直徑為1/2英寸的不銹鋼管、壓制管、在上述管中的金屬燒結(jié)物的2.5英寸長(zhǎng)的管段而制成的一個(gè)小容器以使其包含所述的凈化劑和閥門。將在氧化鋁凈化劑(約0.5cc；用于氯化物和氧化物氣體的Millipore WaferpureReactiveMicro Matrix)上的無水氯化鎂添加至這個(gè)凈化劑中。
實(shí)施例5這個(gè)實(shí)施例表明了氧化鋁凈化劑上的氧化鉻(VI)在從一種惰性氣體流中除去硫化氫(H2S)的用途。用在實(shí)施例1中制備的CrO3/氧化鋁凈化劑填充一個(gè)4.5cc的試樣管。使在氦氣中的950ppm H2S的試驗(yàn)氣體混合物通過所述的試樣管，開始時(shí)流速為375sccm，然后增加至750sccm。使用剩余氣體分析儀(RGA)測(cè)量下游的H2S濃度。在消耗146.25L所述氣體后，通過剩余氣體分析儀檢測(cè)得到無機(jī)凈化劑的去除H2S能力的臨界點(diǎn)為31 L H2S/L層。
實(shí)施例6這個(gè)實(shí)施例表明了將NaY沸石凈化劑上的氯化鉻酸吡啶鎓(PPC)用于從一氧化碳中除去Ni(CO)4。
用在實(shí)施例2中制備的氯化鉻酸吡啶鎓/NaY沸石試樣填充一個(gè)50cc的試樣筒。將試樣筒安裝在一個(gè)帶有環(huán)繞的旁路環(huán)管的氣體導(dǎo)管上。通過加熱在一氧化碳中的一個(gè)鎳過濾器至130℃而產(chǎn)生未知濃度的Ni(CO)4以制得待測(cè)的氣體混合物。使這個(gè)試驗(yàn)氣體混合物通過試樣筒或選擇性地以48sccm的流動(dòng)速率旁路通過(以得到本底數(shù)據(jù))。使用FTIR和RGA測(cè)量旁路下游的和經(jīng)凈化的CO氣體。
表1顯示了以amps為單位的所得值的結(jié)果且ND是未檢測(cè)到的縮寫。
表1
旁路通過的與經(jīng)凈化的CO氣體的重疊FTIR譜圖列于圖2中。如圖2中所示，經(jīng)凈化的CO氣體不含Ni(CO)4，如圖中虛線所示。
實(shí)施例7這個(gè)實(shí)施例顯示了在除去Fe(CO)5時(shí)，使用氧化鋁凈化劑上的氧化銅的同時(shí)使用氧化鋁凈化劑上的無水鹵化鎂與僅僅使用在氧化鋁凈化劑上的氧化銅時(shí)的下游水分雜質(zhì)含量的差別。用在實(shí)施例3中制備的氧化鋁凈化劑上的氧化銅填充一個(gè)4.5cc的試樣筒。將一個(gè)Fe(CO)5試樣包含在一帶有閥門的小段管中，而所述閥門連接至凈化劑試樣導(dǎo)管上游的一個(gè)三通上。將所述凈化劑的試樣筒安裝在一個(gè)帶有環(huán)繞的旁路環(huán)管的所述導(dǎo)管上。通過將所述閥門打開至含有Fe(CO)5的擴(kuò)散管中而在氦氣中產(chǎn)生ppm級(jí)濃度的Fe(CO)5以制得所述的待測(cè)氣體混合物。使這個(gè)試驗(yàn)氣體混合物通過試樣筒或選擇性地以100sccm的流動(dòng)速率從旁路通過(以制得本底數(shù)據(jù))。使用FTIR測(cè)量旁路下游的和經(jīng)凈化的CO氣體。緊隨這個(gè)測(cè)試之后，將含有在氧化鋁上的氧化銅和在實(shí)施例4中制備的氧化鋁上的無水氯化鎂的4.5cc的試樣管在所述導(dǎo)管上按相同方法進(jìn)行測(cè)試。在圖3中顯示了FTIR譜圖中的差別。如圖3中所示，在氧化鋁上僅有氧化銅的凈化劑的譜圖(上譜圖)上有對(duì)應(yīng)于水分存在的許多吸收點(diǎn)。然而，對(duì)于含有氧化銅和活性水分凈化劑(鹵化鎂)的混合凈化器的譜圖，水分含量接近于裝置的檢測(cè)極限。這個(gè)結(jié)果表明，與物理性干燥劑相比，使用一種與水分反應(yīng)形成水合物的活性水分凈化劑具有改進(jìn)的性能。
權(quán)利要求
1.一種適合用于從氣體中除去羰基金屬組合物和水分、以及用于除去在從所述氣體中除去羰基組合物的過程中形成的水分副產(chǎn)物的顆粒狀組合物，其包含一種顆粒狀混合物，該顆粒狀混合物包括含有由還原電位高于約0.175伏并選自于金屬氧化物、有機(jī)金屬氧化物和它們的混合物的第一種組合物制成的一個(gè)表面的第一種顆粒，以及含有由可從所述氣體中除去水分的第二種組合物制成的一個(gè)表面的第二種顆粒。
2.如權(quán)利要求1的組合物，其中所述的第一種組合物是金屬氧化物。
3.如權(quán)利要求1的組合物，其中所述的第一種組合物是有機(jī)金屬氧化物。
4.如權(quán)利要求2的組合物，其中所述的金屬氧化物是CuO。
5.如權(quán)利要求1、2、3或4任一項(xiàng)的組合物，其中所述的第二種組合物是通式為MXy的鹵化金屬，其中M是選自于鋰、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鎘、鐵、鋅和鋁的y-價(jià)的金屬和它們的混合物，且y是1-3的整數(shù)。
6.一種從氣體中除去羰基金屬和水分的方法，所述氣體包含有由于從其中除去羰基金屬而形成的水分，所述方法包括將所述氣體與如權(quán)利要求1所述的組合物緊密地接觸，且在與如權(quán)利要求1所述的組合物接觸后回收所述氣體。
7.如權(quán)利要求6的方法，其中所述的第一種組合物是金屬氧化物。
8.如權(quán)利要求6的方法，其中所述的第一種組合物是有機(jī)金屬氧化物。
9.如權(quán)利要求7的方法，其中所述的金屬氧化物是CuO。
10.如權(quán)利要求6、7、8或9任一項(xiàng)的方法，其中所述的第二種組合物是通式為MXy的鹵化金屬，其中M是選自于鋰、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鎘、鐵、鋅和鋁的y-價(jià)的金屬和它們的混合物，且y是1-3的整數(shù)。
11.一種從氣體中除去羰基金屬的方法，其包括先將所述氣體與還原電位高于約0.175伏并選自于金屬氧化物、有機(jī)金屬氧化物和它們的混合物的第一種顆粒狀組合物接觸，且然后與具有能夠從所述氣體中除去水分的表面組合物的第二種顆粒狀組合物接觸。
12.如權(quán)利要求11的方法，其中所述的第一種組合物是金屬氧化物。
13.如權(quán)利要求11的方法，其中所述的第一種組合物是有機(jī)金屬氧化物。
14.如權(quán)利要求12的方法，其中所述的金屬氧化物是CuO。
15.如權(quán)利要求11、12、13或14任一項(xiàng)的方法，其中所述的第二種組合物是通式為MXy的鹵化金屬，其中M是選自于鋰、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鎘、鐵、鋅和鋁的y-價(jià)的金屬和它們的混合物，且y是1-3的整數(shù)。
全文摘要
一種用于從氣體中除去羰基金屬和水分的方法和組合物,其中將所述氣體與一種還原電位高于約0.175伏的金屬氧化物、有機(jī)金屬氧化物或它們的混合物以及與一種能夠除去該氣體中的水分的組合物接觸。
文檔編號(hào)B01J20/04GK1276742SQ98810367
公開日2000年12月13日 申請(qǐng)日期1998年9月10日 優(yōu)先權(quán)日1997年11月5日
發(fā)明者詹姆斯·T·斯諾 申請(qǐng)人:米利波爾公司