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      托盤式液體收集再分布器的制作方法

      文檔序號:5014391閱讀:1960來源:國知局
      專利名稱:托盤式液體收集再分布器的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      一種托盤式液體收集再分布器適用于高效波紋填料塔的常壓和真空操作,屬于精餾塔,吸收塔內(nèi)主要部件。
      本實(shí)用新型作出以前,在已有技術(shù)中,槽盤式液體分布器在精餾塔、吸收塔內(nèi)已得到廣泛應(yīng)用。其主要由受液盤,升氣管、支撐條、降液管等組成。升氣管多為園管或者采用方形管,由于降液管分布在升氣管的內(nèi)壁上,升氣管的開孔面積就要減少開孔率也相應(yīng)減少。這樣結(jié)構(gòu)的分布器,用于高效波紋填料上,因開孔率較小,通氣量不大,對氣體流向有阻礙作用,它使得部分區(qū)域沒有上升的氣體,減少了通氣面積產(chǎn)生無效區(qū)域。除此以外,影響蒸餾塔分離能力的因素除填料分布器塔內(nèi)件外,塔的內(nèi)壁流也是一個因素,塔壁上液體過多會直線往下掛,產(chǎn)生溝流,也直接影響分離效力,致使塔的潛在生產(chǎn)能力不能有效的發(fā)揮。
      本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足之處,從而提供一種通氣量大,塔內(nèi)氣液能在最大截面積內(nèi)流動,并擴(kuò)大了氣液流動截面積去除瓶徑,發(fā)揮了填料的有效作用,消除減少了死區(qū),能提高塔的分離效率的托盤式液體收集再分布器。
      本實(shí)用新型的主要解決方案是這樣實(shí)現(xiàn)的其主要在底板6上焊接升氣管壁4,并在升氣管4壁上開設(shè)溢流孔及加設(shè)降液角鋼8,升氣管壁4上方安裝支撐條3托住液體收集槽1。其特征是采用底板6外周加外圈5,使其自身形成儲液盤,在儲液盤上方塔壁9上固定梅花型液體收集圈2。塔壁9上安裝支撐塊7,儲液盤座在支撐塊7上。


      圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖下面本實(shí)用新型將結(jié)合附圖中的實(shí)施例作進(jìn)一步描述本實(shí)用新型首先是將梅花型液體收集圈2固定在塔壁9上,以底板6為主體,在底板6上焊接升氣管壁4,并在升氣管壁4上開設(shè)溢流孔及加設(shè)降液管角鋼8,使液體流到固定位置,升氣管壁4上安裝支撐條3托住液體收集槽1。底板6外加外圈5,使其自身形成儲液盤。儲液盤由底板6、外圈5、升氣管壁4三者組成。使之形成盤與塔壁之間有一定的空隙變成氣體通道,并可在外圈上同樣增設(shè)降液點(diǎn)。塔壁9上安裝支撐塊7,儲液盤6座在支撐塊7上。支撐塊7的數(shù)量,根據(jù)塔體的大小來確定。使用該分布器,不必用螺絲固定在塔內(nèi)圈上。在儲液盤上方增設(shè)梅花型液體收集圈,可收集壁流的液體,還可以讓大量氣體通過,成為氣體通道。上述所述的儲液盤即為托盤。
      本實(shí)用新型與已有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)1、它具有總高度低、防堵,可在全部截面積上布孔強(qiáng)制液體流向和流量;2、可防止壁漏,拆裝方便,安裝水平度寬松,小塔可整體制作安裝,大塔可拼裝,氣體流量大大增加,使氣體在塔內(nèi)滿塔向上直線流動,克服了瓶徑這一關(guān),分離效力可提高20%以上;3、擴(kuò)大了氣液流動截面積,控制了高度,發(fā)揮了填料的有效作用,并減少了死區(qū)。經(jīng)在直徑1200mm的塔內(nèi)實(shí)地應(yīng)用由每米3.7塊理論板提高至5塊/米。
      權(quán)利要求1.一種托盤式液體收集再分布器,在底板(6)上焊接升氣管壁(4),并在升氣管壁(4)上開設(shè)溢流孔及加設(shè)降液角鋼(8),升氣管壁(4)上安裝支撐條(3)托住液體收集槽(1),其特征是在底板(6)外周加外圈(5)形成儲液盤,在儲液盤上方塔壁(9)上固定收集圈(2)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托盤式液體收集再分布器,其特征在于所述的塔壁(9)上安裝支撐塊(7),儲液盤座在支撐塊(7)上。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托盤式液體收集再分布器,其特征在于所述的收集圈(2)形狀為梅花型。
      專利摘要一種托盤式液體收集再分布器適用于高效波紋填料塔的常壓和真空操作,屬于精餾塔、吸收塔內(nèi)主要部件。其主要采用梅花型液體收集圈固定在塔壁上,在底板外周加外圈形成儲液盤,并在塔壁上安裝支撐塊,儲液盤座在支撐塊上。本實(shí)用新型總高底低,防堵、可在全部截面積上布孔強(qiáng)制液體流向和流量;可防止壁流,拆裝方便,安裝水平寬松,氣體流量大大增加,分離效力可提高20%以上,經(jīng)在直徑1200mm的塔內(nèi)實(shí)地應(yīng)用由每米3.7塊理論板提高至5塊/米。
      文檔編號B01D53/18GK2379199SQ9922879
      公開日2000年5月24日 申請日期1999年7月1日 優(yōu)先權(quán)日1999年7月1日
      發(fā)明者朱夏霖 申請人:朱夏霖
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