涂布裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及面板生產技術領域，尤其是涉及一種涂布裝置。
【背景技術】
[0002]在一些電子器件生產過程中，為實現(xiàn)圖形轉換需要經過光刻制程。例如，在液晶顯示器生產技術領域，TFT(薄膜晶體管)及彩色濾光片制造過程中，為了實現(xiàn)圖形轉換均需要經過光刻制程。在進行光刻制程前，需在玻璃基板上涂布一層光刻膠。
[0003]目前，涂覆光刻膠通常采用狹縫涂布機進行涂覆。而在采用狹縫涂布機涂膠前或在光刻膠換線過程中，都會對光刻膠進行預吐擠壓清理作用，以保證后續(xù)的涂布均勻并無氣泡。由狹縫涂布機中擠壓清理出的光刻膠會承放于狹縫涂布機的承液槽中。然而在擠壓清理光刻膠到承液槽的過程中，光刻膠會發(fā)生飛濺現(xiàn)象。由于光刻膠會有刺激性的氣味，再加上光刻膠的飛濺，將對狹縫涂布機及其周圍環(huán)境造成污染，影響狹縫涂布機的穩(wěn)定運行，同時危害設備操作人員的身心健康。

【發(fā)明內容】

[0004]針對現(xiàn)有技術中所存在的上述技術問題，本發(fā)明提出了一種涂布裝置。該涂布裝置能減少或克服光刻膠飛濺的可能。同時該涂布裝置結構簡單，制造成本低。
[0005]根據(jù)本發(fā)明提出了一種涂布裝置，包括:
[0006]噴嘴，
[0007]設置在噴嘴下方的承接托盤，以及
[0008]設置在承接托盤內的用于接收噴嘴噴出的流體的導流板，導流板沿承接托盤的縱向設置，并能與豎向形成第一角度。
[0009]在一個實施例中，導流板的下沿與承接托盤的底壁形成間隙。
[0010]在一個實施例中，在導流板的朝向噴嘴的表面上設置防殘留板。
[0011]在一個實施例中，防殘留板覆蓋導流板的朝向噴嘴的整個表面上，并與導流板可拆卸式連接。
[0012]在一個實施例中，在導流板的朝向噴嘴的表面上設置防殘留板，防殘留板與導流板一體化制造，導流板與承接托盤可拆卸式連接。
[0013]在一個實施例中，還包括用于清洗承接托盤的清洗裝置，清洗裝置具有能沿承接托盤的縱向移動的夾持頭和設置在夾持頭的下方的清洗液噴嘴。
[0014]在一個實施例中，清洗液噴嘴與夾持頭鉸接。
[0015]在一個實施例中，在夾持頭上還設置有與夾持頭鉸接的氣體噴嘴。
[0016]在一個實施例中，第一角度為銳角。
[0017]在一個實施例中，在承接托盤的上方設置防濺罩，并且在防濺罩的上表面上設置有與噴嘴配合的開口。
[0018]與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的優(yōu)點在于，通過在承接托盤內設置導流板，則由噴嘴處噴出的流體(例如光刻膠)可落在導流板上，再沿著導流板流入到承接托盤中，其中導流板起到了為流體導流的作用。導流板可防止流體直接落入承接托盤而引起的四處飛濺的可能，從而保證了涂布裝置的運行穩(wěn)定和減小或避免了操作人員受到的污染傷害。
【附圖說明】
[0019]下面將結合附圖來對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行詳細地描述，在圖中:
[0020]圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置的橫截面；
[0021]圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置的縱截面；
[0022]圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的清洗裝置的結構圖；
[0023]在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標記，附圖并未按照實際的比例繪制。
【具體實施方式】
[0024]下面將結合附圖對本發(fā)明做進一步說明。
[0025]圖1顯示了涂布裝置100的結構。如圖1所示，涂布裝置100包括噴嘴1、承接托盤2和設置在承接托盤2內的導流板3。在生產例如薄膜晶體管和彩色濾光片等電子器件過程中，噴嘴I用于向例如玻璃基板上涂布光刻膠。承接托盤2設置在噴嘴I的下方，能收集在預吐等過程中由噴嘴I噴出的光刻膠。而導流板3沿著承接托盤2的縱向設置，并能與豎向形成第一角度α，用于接收噴嘴I噴出的流體。
[0026]由此，在涂布光刻膠之前或者光刻膠轉線過程中，需要進行預吐擠壓清理(Purge)工序，使得光刻膠由噴嘴I噴出一部分，而保證后續(xù)的制程。通過上述設置，擠壓清理過程中噴出的光刻膠落在導流板3上，然后沿著導流板3流到承接托盤2內。通過設置導流板3降低了從噴嘴I噴出的流體的落差，防止流體直接落入承接托盤2而引起的四處飛濺的可能，從而保證了涂布裝置100的運行穩(wěn)定性，并減小或避免了操作人員受到的污染傷害。
[0027]在一個實施例中，導流板3為平板。并且導流板3的下沿與承接托盤2的底壁形成間隙10。也就是，導流板3的下沿并不能與承接托盤2的底壁接觸。優(yōu)選地，間隙10為1-5厘米。流體通過導流板3導流后通過重力作用滴落到承接托盤2內，由于間隙10的尺寸比較小，這種落差并不能導致流體四處飛濺。同時，這種設置方式能防止流體殘留在承接托盤2內，有利于對承接托盤2進行清洗。其中，導流板3的下沿為與承接托盤2的底壁鄰近的一邊。
[0028]需要說明地是，導流板3的下沿也可以與承接托盤2的底壁接觸。這種設置方式更有利于導流，防止流體四處飛濺。但是在導流板3的下沿與承接托盤2的底壁接觸處，有可能存在清理困難的問題。
[0029]為了防止光刻膠殘留在導流板3上，在導流板3的朝向噴嘴I的表面上設置防殘留板4。優(yōu)選地，防殘留板4覆蓋導流板3的朝向噴嘴的整個表面上。進一步優(yōu)選地，防殘留板4與導流板3可拆卸式連接。例如，可通過螺紋連接將防殘留板4設置在導流板3上。更進一步優(yōu)選地，防殘留板4可由聚四氟乙烯等高分子材料制成。由此，光刻膠等有機溶劑滴落在防殘留板4上后，也基本不會附著或殘留。即便經過很長時間的應用后，還可以方便地對防殘留板4進行更換。
[0030]在另一個實施例中，防殘留板4與導流板3 —體化制造。也就是，防殘留板4與導流板3均由聚四氟乙烯等高分子材料制成。同時，導流板3與承接托盤2可拆卸式連接，以方便更換。
[0031]為了保證導流的效率，第一角度α為銳角。優(yōu)選地，第一角度α為20_70度。例如，第一角度α為45度。可以通過支撐柱5將導流板3設置在承接托盤2內。也就是支撐座5的一端與承接托盤2的底壁相連，而另一端與導流板3背向噴嘴I的表面相連。支撐柱5還可以與導流板3鉸接，以調節(jié)第一角度α的大小，滿足不同的工況需要。
[0032]根據(jù)一個實施例，涂布裝置100還包括的清洗裝置6，如圖2所示。清洗裝置6具有能沿承接托盤2的縱向(圖2中從左到右或從右到左的方向)移動的夾持頭61和設置在夾持頭61的下方的清洗液噴嘴62。清洗液噴嘴62與清洗液(例如可為丙二醇單甲醚酸酯等)源相連接，以向承接托盤2方向噴清洗液，用于清洗承接托盤2和導流板3。通過夾持頭61可以縱向移動清洗液噴嘴62，保證對承接托盤2進行全面的清洗。
[0033]在一個實施例中，清洗液噴嘴62與夾持頭61鉸接，以實現(xiàn)清洗液噴嘴62的噴射角度可調。優(yōu)選地，清洗液噴嘴62的軸向與豎向的角度可為15-75度。還可以通過泵等設置調整清洗液噴嘴62的噴吐流量和噴吐壓力。例如，可使用泵以滿足噴吐流量可在1-100升/分鐘范圍可調，噴吐壓力可在0.1-40兆帕范圍可調。
[0034]在夾持頭61上還設置有氣體噴嘴63。氣體噴嘴63與清洗液噴嘴62間隔式設置。氣體噴嘴63可以與氮氣源、壓縮空氣氣源或其混合氣源等相連接，以對清洗的承接托盤2和導流板3進行干燥。同理地，氣體噴嘴63與夾持頭61鉸接，以實現(xiàn)氣體噴嘴63的噴射角度可調。氣體噴嘴63的軸向與豎向的角度可為15-75度。例如，氣體噴嘴63的軸向與豎向的角度可為45度。氣體噴嘴63可在清洗液噴嘴62動作后動作，以對清洗過的承接托盤2和導流板3進行干燥。
[0035]如圖1所示，在承接托盤2的上方設置防濺罩7。防濺罩7罩設在承接托盤2的上開口處，并且，在防濺罩7的上表面上設置有與噴嘴I配合的開口 71，以保證從噴嘴I處噴出的流體還能落入到承接托盤2內。
[0036]如圖2所示，承接托盤2的底壁構造為漏斗式，也就是承接托盤2的底壁板傾斜式設置，并在底壁的一處形成最低點。在底壁的最低點處設置排出口 8，以將積蓄在承接托盤2內的流體排出。在排出口 8處設置抽吸裝置9，以用于加速承接托盤2內的流體流向排出口 8的速度。例如，抽吸裝置9可以為泵。
[0037]本申請中，方位用語“上”、“下”以涂布裝置100的工作狀態(tài)為參考，用語“豎向”為從上到下或從下到上的方向。
[0038]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但本發(fā)明保護范圍并不局限于此，任何本領域的技術人員在本發(fā)明公開的技術范圍內，可容易地進行改變或變化，而這種改變或變化都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。因此，本發(fā)明的保護范圍應以權利要求書的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種涂布裝置，其特征在于，包括: 噴嘴， 設置在所述噴嘴下方的承接托盤，以及 設置在所述承接托盤內的用于接收所述噴嘴噴出的流體的導流板，所述導流板沿所述承接托盤的縱向設置，并能與豎向形成第一角度。2.根據(jù)權利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述導流板的下沿與所述承接托盤的底壁形成間隙。3.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，在所述導流板的朝向所述噴嘴的表面上設置防殘留板。4.根據(jù)權利要求4所述的涂布裝置，其特征在于，所述防殘留板覆蓋所述導流板的朝向所述噴嘴的整個表面上，并與所述導流板可拆卸式連接。5.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，在所述導流板的朝向所述噴嘴的表面上設置防殘留板，所述防殘留板與所述導流板一體化制造，所述導流板與所述承接托盤可拆卸式連接。6.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，還包括清洗裝置，所述清洗裝置具有能沿所述承接托盤的縱向移動的夾持頭和設置在夾持頭的下方的清洗液噴嘴。7.根據(jù)權利要求6所述的涂布裝置，其特征在于，所述清洗液噴嘴與所述夾持頭鉸接。8.根據(jù)權利要求6所述的涂布裝置，其特征在于，在所述夾持頭上還設置有與所述夾持頭鉸接的氣體噴嘴。9.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，所述第一角度為銳角。10.根據(jù)權利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，在所述承接托盤的上方設置防濺罩，并且在所述防濺罩的上表面上設置有與所述噴嘴配合的開口。
【專利摘要】本發(fā)明提出了一種涂布裝置，其包括噴嘴、設置在噴嘴下方的承接托盤，以及設置在承接托盤內的用于接收噴嘴噴出的流體的導流板，導流板沿承接托盤的縱向設置，并能與豎向形成第一角度。該涂布裝置能減少流體飛濺的可能，保證了涂布裝置的運行穩(wěn)定和減小或避免了操作人員受到的污染傷害。
【IPC分類】B05C11/10, B05C5/00
【公開號】CN104941869
【申請?zhí)枴緾N201510383558
【發(fā)明人】孫杰, 姚江波
【申請人】深圳市華星光電技術有限公司
【公開日】2015年9月30日
【申請日】2015年7月3日