一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，屬于煙氣脫硫技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]石灰石-石膏濕法煙氣脫硫技術(shù)是當(dāng)前最成熟、應(yīng)用業(yè)績(jī)最多、運(yùn)行最穩(wěn)定和最可靠的脫硫工藝，已成為國(guó)內(nèi)外火電廠(chǎng)脫硫的首選技術(shù)。傳統(tǒng)石灰石-石膏濕法煙氣脫硫技術(shù)都是采用單塔單循環(huán)的噴淋空塔技術(shù)，所能達(dá)到的合理且可靠脫硫效率僅在95%左右。
[0003]隨著我國(guó)GB13223-2011《火電廠(chǎng)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》全面實(shí)施以及《煤電節(jié)能減排升級(jí)與改造行動(dòng)計(jì)劃(2014-2020)》的出臺(tái)，明確提出要盡快實(shí)現(xiàn)新建和現(xiàn)役燃煤機(jī)組的大氣污染物排放濃度達(dá)到或者接近超低排放限值，即燃?xì)廨啓C(jī)排放限值(S02:35mg/Nm3，NOx: 50mg/Nm3，煙塵:5mg/Nm3)。而對(duì)于燃燒中高硫煤電廠(chǎng)的脫硫系統(tǒng)來(lái)說(shuō)，其脫硫效率必須達(dá)到99%以上才能達(dá)到超低排放要求，而傳統(tǒng)石灰石-石膏濕法煙氣脫硫技術(shù)顯然是無(wú)法滿(mǎn)足要求，因此發(fā)展高效石灰石-石膏濕法脫硫技術(shù)已是必然選擇。單塔雙循環(huán)脫硫技術(shù)是實(shí)現(xiàn)高效石灰石-石膏濕法脫硫最有效的技術(shù)途徑之一，比較適合于燃煤含硫量較高的場(chǎng)合。單塔雙循環(huán)脫硫技術(shù)能夠形成兩個(gè)循環(huán)回路，兩個(gè)循環(huán)回路在不同的pH值下運(yùn)行，二級(jí)循環(huán)回路運(yùn)行的pH值要比一級(jí)循環(huán)回路要高，煙氣依次經(jīng)過(guò)一級(jí)和二級(jí)循環(huán)回路噴淋區(qū)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)脫硫反應(yīng)過(guò)程進(jìn)行分步和精細(xì)控制，提高了低濃度下S02吸收能力。單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔技術(shù)已然較為成熟，其各部件細(xì)微的改進(jìn)，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)都是非常困難的，都是需要付出創(chuàng)造性努力的。
[0004]在單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)使用集液裝置主要有兩個(gè)用途:一個(gè)是將接收自來(lái)二級(jí)循環(huán)回路噴淋層噴下的漿液全部導(dǎo)入二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池，另一個(gè)是煙氣可以穿過(guò)集液裝置之后能夠進(jìn)入二級(jí)循環(huán)回路的噴淋區(qū)。目前，傳統(tǒng)的集液裝置形狀類(lèi)似于碗狀，參見(jiàn)圖4，煙氣經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)集液裝置之后的原有均勻流場(chǎng)會(huì)發(fā)生很大改變，煙氣流場(chǎng)變得相當(dāng)不均勻，這樣極不利于二級(jí)循環(huán)回路噴淋區(qū)內(nèi)漿液與煙氣之間的充分接觸，會(huì)在一定程度上降低脫硫效率，因此亟待研發(fā)新型集液裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]在下文中給出了關(guān)于本發(fā)明的簡(jiǎn)要概述，以便提供關(guān)于本發(fā)明的某些方面的基本理解。應(yīng)當(dāng)理解，這個(gè)概述并不是關(guān)于本發(fā)明的窮舉性概述。它并不是意圖確定本發(fā)明的關(guān)鍵或重要部分，也不是意圖限定本發(fā)明的范圍。其目的僅僅是以簡(jiǎn)化的形式給出某些概念，以此作為稍后論述的更詳細(xì)描述的前序。
[0006]鑒于此，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，以至少解決傳統(tǒng)集液裝置會(huì)引起煙氣流場(chǎng)的均勻性變得很差的問(wèn)題，本發(fā)明的集液裝置有利于二級(jí)循環(huán)回路的噴淋區(qū)內(nèi)漿液與煙氣之間的充分接觸，從而提高脫硫效率。
[0007]本發(fā)明提出的一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，集液裝置安裝在一級(jí)循環(huán)回路噴淋層之上，二級(jí)循環(huán)回路噴淋層之下，下方用支撐梁來(lái)支撐，該集液裝置包括屋脊式導(dǎo)流板、集液槽和環(huán)形槽;在集液裝置中，上方為多個(gè)屋脊式導(dǎo)流板沿水平方向等間隔排列，下方為多個(gè)集液槽沿水平方向等間隔排列，集液槽與屋脊式導(dǎo)流板左右錯(cuò)位設(shè)置，且集液槽與屋脊式導(dǎo)流板之間留有間隙；集液槽兩端與塔壁處的環(huán)形槽相連通;漿液導(dǎo)出管道穿過(guò)塔壁與環(huán)形槽相連通，將環(huán)形槽內(nèi)的漿液返回到二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池。
[0008]對(duì)方案進(jìn)一步設(shè)計(jì):每個(gè)屋脊式導(dǎo)流板由中間對(duì)稱(chēng)的兩塊導(dǎo)流板組成，每塊導(dǎo)流板與垂直方向的夾角相等，均為30?60度。
[0009]對(duì)方案進(jìn)一步設(shè)計(jì):集液槽底部沿中間向兩側(cè)傾斜一定角度，這樣設(shè)計(jì)的目的就是防止?jié){液中的固體在集液槽內(nèi)發(fā)生沉積而弓I起結(jié)垢。
[0010]對(duì)方案進(jìn)一步設(shè)計(jì):每個(gè)屋脊式導(dǎo)流板的寬度為100?500mm，高度為50?300mm;集液槽的寬度為100?500mm。
[0011]本發(fā)明所達(dá)到的效果為:
[0012]本發(fā)明提供了一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，不僅可以很好收集二級(jí)循環(huán)回路落下的漿液，把二級(jí)循環(huán)回路噴淋層噴下的漿液全部返回二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池，而且能使煙氣通過(guò)該裝置之后流場(chǎng)依然比較均勻，同時(shí)還具有不易結(jié)垢的顯著優(yōu)勢(shì)。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1是一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置結(jié)構(gòu)圖；
[0014]圖2是集液裝置的俯視圖；
[0015]圖3是圖2的A-A向剖視圖；
[0016]圖4是傳統(tǒng)的集液裝置應(yīng)用于脫硫噴淋塔內(nèi)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖中:1-一級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池，2-吸收塔入口煙道，3-—級(jí)循環(huán)回路噴淋層，4-集液裝置，5-二級(jí)循環(huán)回路噴淋層，6-除霧器，7-漿液導(dǎo)出管，8-二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池，9-集液槽，10-屋脊式導(dǎo)液板，11-環(huán)形槽。
【具體實(shí)施方式】
[0018]在下文中將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的示范性實(shí)施例進(jìn)行描述。為了清楚和簡(jiǎn)明起見(jiàn)，在說(shuō)明書(shū)中并未描述實(shí)際實(shí)施方式的所有特征。然而，應(yīng)該了解，在開(kāi)發(fā)任何這種實(shí)際實(shí)施例的過(guò)程中必須做出很多特定于實(shí)施方式的決定，以便實(shí)現(xiàn)開(kāi)發(fā)人員的具體目標(biāo)，例如，符合與系統(tǒng)及業(yè)務(wù)相關(guān)的那些限制條件，并且這些限制條件可能會(huì)隨著實(shí)施方式的不同而有所改變。此外，還應(yīng)該了解，雖然開(kāi)發(fā)工作有可能是非常復(fù)雜和費(fèi)時(shí)的，但對(duì)得益于本發(fā)明公開(kāi)內(nèi)容的本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，這種開(kāi)發(fā)工作僅僅是例行的任務(wù)。
[0019]在此，還需要說(shuō)明的一點(diǎn)是，為了避免因不必要的細(xì)節(jié)而模糊了本發(fā)明，在附圖中僅僅示出了與根據(jù)本發(fā)明的方案密切相關(guān)的裝置結(jié)構(gòu)和/或處理步驟，而省略了與本發(fā)明關(guān)系不大的其他細(xì)節(jié)。
[0020]如圖1至圖3所示，本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，該集液裝置4安裝在一級(jí)循環(huán)回路噴淋層3之上，二級(jí)循環(huán)回路噴淋層5之下，下方用支撐梁來(lái)支撐，主要由屋脊式導(dǎo)流板10、集液槽9和環(huán)形槽11組成。在集液裝置4中，上方為多個(gè)屋脊式導(dǎo)流板10沿水平方向等間隔排列，下方為多個(gè)集液槽9沿水平方向等間隔排列。單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔的塔壁上設(shè)有吸收塔入口煙道2，單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔的下部為一級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池1，除霧器6位于二級(jí)循環(huán)回路噴淋層5的上方。
[0021]煙氣先穿過(guò)各個(gè)集液槽9之間的間隙，再穿過(guò)屋脊式導(dǎo)流板10與集液槽9之間的間隙均勻地流向二級(jí)循環(huán)回路噴淋區(qū)。二級(jí)循環(huán)回路噴淋層5向下噴淋的漿液一部分直接落入集液槽9中，另一部分漿液先落在屋脊式導(dǎo)流板10上，然后漿液沿屋脊式導(dǎo)流板10流入到集液槽9中，集液槽9兩端與塔壁處的環(huán)形槽11相連通，所有集液槽9收集的漿液都匯集到環(huán)形槽11里，漿液導(dǎo)出管道7穿過(guò)塔壁與環(huán)形槽11相連通，將環(huán)形槽11內(nèi)的漿液返回到二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池8。屋脊式導(dǎo)流板10的寬度為100?500mm，高度為50?300mm，集液槽9的寬度為100?500mm。如圖3所示，為防止?jié){液中的固體在集液槽9內(nèi)發(fā)生沉積而引起結(jié)垢，集液槽9底部設(shè)計(jì)成中間高，兩側(cè)低。
[0022]雖然本發(fā)明所揭示的實(shí)施方式如上，但其內(nèi)容只是為了便于理解本發(fā)明的技術(shù)方案而采用的實(shí)施方式，并非用于限定本發(fā)明。任何本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明所揭示的核心技術(shù)方案的前提下，可以在實(shí)施的形式和細(xì)節(jié)上做任何修改與變化，但本發(fā)明所限定的保護(hù)范圍，仍須以所附的權(quán)利要求書(shū)限定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，集液裝置安裝在一級(jí)循環(huán)回路噴淋層之上，二級(jí)循環(huán)回路噴淋層之下，下方用支撐梁來(lái)支撐，其特征在于:該集液裝置包括屋脊式導(dǎo)流板、集液槽和環(huán)形槽;在集液裝置中，上方為多個(gè)屋脊式導(dǎo)流板沿水平方向等間隔排列，下方為多個(gè)集液槽沿水平方向等間隔排列，集液槽與屋脊式導(dǎo)流板左右錯(cuò)位設(shè)置，且集液槽與屋脊式導(dǎo)流板之間留有間隙；集液槽兩端與塔壁處的環(huán)形槽相連通;漿液導(dǎo)出管道穿過(guò)塔壁與環(huán)形槽相連通，將環(huán)形槽內(nèi)的漿液返回到二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，其特征在于:每個(gè)屋脊式導(dǎo)流板由中間對(duì)稱(chēng)的兩塊導(dǎo)流板組成，每塊導(dǎo)流板與垂直方向的夾角相等，均為30?60度。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，其特征在于:集液槽底部沿中間向兩側(cè)傾斜一定角度。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，其特征在于:每個(gè)屋脊式導(dǎo)流板的寬度為100?500mm，高度為50?300mm;集液槽的寬度為100?500mm。
【專(zhuān)利摘要】一種單塔雙循環(huán)脫硫噴淋塔內(nèi)的集液裝置，屬于煙氣脫硫技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明為了解決傳統(tǒng)集液裝置會(huì)引起煙氣流場(chǎng)的均勻性變得很差的問(wèn)題。本發(fā)明的集液裝置包括屋脊式導(dǎo)流板、集液槽和環(huán)形槽；在集液裝置中，上方為多個(gè)屋脊式導(dǎo)流板沿水平方向等間隔排列，下方為多個(gè)集液槽沿水平方向等間隔排列，集液槽與屋脊式導(dǎo)流板左右錯(cuò)位設(shè)置，且集液槽與屋脊式導(dǎo)流板之間留有間隙；集液槽兩端與塔壁處的環(huán)形槽相連通；漿液導(dǎo)出管道穿過(guò)塔壁與環(huán)形槽相連通，將環(huán)形槽內(nèi)的漿液返回到二級(jí)循環(huán)回路反應(yīng)池。本發(fā)明可以很好地解決了煙氣通過(guò)傳統(tǒng)集液裝置之后流場(chǎng)的均勻性變得很差的問(wèn)題，并且不易結(jié)垢。
【IPC分類(lèi)】B01D53/80, B01D53/50, B01D53/96
【公開(kāi)號(hào)】CN105477999
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510960929
【發(fā)明人】高曉剛, 李珺, 薛雷, 李小宇, 楊韋
【申請(qǐng)人】哈爾濱鍋爐廠(chǎng)有限責(zé)任公司
【公開(kāi)日】2016年4月13日
【申請(qǐng)日】2015年12月18日