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      一種定向反光涂料工藝的制作方法

      文檔序號(hào):9737773閱讀:383來源:國知局
      一種定向反光涂料工藝的制作方法
      【專利說明】一種定向反光涂料工藝
      [0001]本發(fā)明涉及一種凡是在白天、黑夜需要反光的固體表面涂敷定向反光涂料的工
      -H-
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      [0002]公知的技術(shù)是將玻璃珠(微珠)植于鍍鋁膜上,然后用樹脂封其表面;另一種是在透明膜(包括色彩膜)上植珠,然后真空鍍鋁上膠封其表面;還有一種方法是用鋁,銀粉與料合劑混合后涂于固體表面。然后再植珠。以上方法都不同程度地存在著缺點(diǎn),歸納以下幾個(gè)方面:
      [0003](I)玻璃珠(微珠)受鋁,銀粉及粘合劑的影響,折射率(反光率)和透明度降低,反光效果差。
      [0004](2)樹脂表面硬度低,易磨損。
      [0005](3)顏色易在紫外線照射下褪色。
      [0006](4)樹脂容易貸靜電,自結(jié)力不強(qiáng)。
      [0007](5)反光層在圓珠體和多角體表面粘結(jié)十分困難。
      [0008](6)細(xì)微團(tuán)、文字無法雕刻。
      [0009]本發(fā)明的目的是為了克服以上不足。采用新的工藝,在任意形狀的固體表面上植珠,可得到所需形狀的定向反光物體,具有較好的反光效果和耐磨、耐壓、抗腐蝕性能,自結(jié)力強(qiáng)、硬度高、色揮長期不退。
      [0010]本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的,將無色或有色玻璃珠(微珠)用常規(guī)的化學(xué)鍍、真空鍍等方法把反光材料鍍其表面,制成內(nèi)反光玻璃珠(微珠)所選用鍍層的反光材料有金、銀、鋁、銅、鉻和合金反光材料,用高強(qiáng)度粘合劑(包括有機(jī)和無機(jī)粘合劑)涂、噴和刷在固體表面,固體表面可是任意形狀的。其涂敷厚度是根據(jù)所植玻璃珠(微珠)直徑大小來決定的,一般不得小于直徑的1/2和大于4/5;在粘合劑未固化前即將內(nèi)反光玻璃珠(微珠)植其表面,待粘合劑固化后,對(duì)粘結(jié)的玻璃珠(微珠)表面進(jìn)行擦洗或拋光,去掉表面鍍層,便完成整個(gè)工藝。
      [0011]實(shí)施本發(fā)明實(shí)例是將玻璃珠(無色)度硝酸銀層,用還癢樹脂途于帶有立體號(hào)碼的硬質(zhì)塑料膜上,其厚度為玻璃珠直徑的3/4.把鍍好的內(nèi)反光玻璃珠微珠均勻的植在樹脂表面,固化后進(jìn)行擦洗,便得到了較好的定向放光涂層。
      [0012]本發(fā)明的工藝適用于道路的路面劃線(反光涂線),固體表面的裝飾以及車、船、航標(biāo)、路標(biāo)和信號(hào)的反光標(biāo)志的涂敷。同事,也可用于印刷業(yè),印出細(xì)小的圖案和文字,能套色制作精美的圖案和混合色。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種定向反光涂料,其特征在于:用常規(guī)的化學(xué)鍍和真空鍍方法將玻璃珠(微珠)鍍上一層反光層,再講粘合劑通過涂、噴和刷的方法均勻的涂敷在固體表面上,把鍍有反光鍍層的玻璃珠(微珠)均勻的植在粘合劑上,然后用擦洗或拋光的方法吧粘合劑外的玻璃珠(微珠)鍍層去掉。2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于涂敷在固體表面的粘合劑厚度大于玻璃珠(微珠)的至今的1/2,小于其直徑的4/5。3.如權(quán)利要求1和2所述的工藝,其特征在于所述的粘合劑包括有機(jī)粘合劑和無機(jī)粘合劑。4.如權(quán)利要求3所述的工藝,其特征在于所述的玻璃珠(微珠)采用無色和有色的。5.如權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于所述的反光鍍層選用材料包括金、銀、鋁、銅、鉻和合金反光材料。6.如權(quán)利要求1所述的工藝,其特征在于固體表面可是任意形狀的表面。
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種定向反光涂料工藝,它是將玻璃珠(微珠)鍍上放光鍍層,再講其粘植于固體表面上,然后擦、拋去頂面鍍層,便得到較好的定向放涂層。本發(fā)明可廣泛地用于交通安全的路標(biāo),航標(biāo)和信號(hào)標(biāo)志,也可用于固體表面裝飾和印刷各圖案、文字的反光涂層。
      【IPC分類】B05D5/06, C09D5/22, B05D3/00
      【公開號(hào)】CN105499103
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510851834
      【發(fā)明人】不公告發(fā)明人
      【申請(qǐng)人】孫典學(xué)
      【公開日】2016年4月20日
      【申請(qǐng)日】2015年11月26日
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