一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備，該烘烤設(shè)備包括設(shè)備主體，設(shè)備主體定義一容納待烘烤基板的烘烤腔室，設(shè)備主體的頂部設(shè)置有排氣通道，排氣通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室內(nèi)進行烘烤時產(chǎn)生的蒸汽。通過這種方式，本發(fā)明烘烤設(shè)備能夠?qū)⑷軇?dǎo)出，避免偶發(fā)液滴滴下導(dǎo)致產(chǎn)品報廢問題，大幅度降低維護保養(yǎng)的頻率。
【專利說明】
一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示面板制程設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜晶體管液晶顯示器制程中，Photo制程涂膠后進行的烘烤制程，主要功能是通過接近式加熱方式，使光阻中的溶劑在高溫(一般80?120°C)下蒸發(fā)，并通過高溫排氣將溶劑蒸氣帶走排出。
[0003]但是高溫排氣并不能將溶劑蒸氣完全帶走，會有少量溶劑蒸汽黏附在上蓋板，導(dǎo)致必須對烘烤爐進行定期保養(yǎng)(月保養(yǎng))，否則溶劑積累到一定量，將會凝結(jié)成液滴滴下，導(dǎo)致產(chǎn)品報廢;并且即使進行了定期保養(yǎng)，溶劑也可能經(jīng)過短期的積累即偶發(fā)的滴下，導(dǎo)致產(chǎn)品報廢。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備，能夠?qū)⑷軇?dǎo)出，避免偶發(fā)液滴滴下導(dǎo)致產(chǎn)品報廢問題，大幅度降低維護保養(yǎng)的頻率。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備，烘烤設(shè)備包括設(shè)備主體，設(shè)備主體定義一容納待烘烤基板的烘烤腔室，設(shè)備主體的頂部設(shè)置有排氣通道，排氣通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室內(nèi)進行烘烤時產(chǎn)生的蒸汽。
[0006]其中，排氣通道呈長條狀或網(wǎng)格狀設(shè)置。
[0007]其中，排氣通道相對于豎直方向傾斜設(shè)置。
[0008]其中，設(shè)備主體的頂部進一步設(shè)置有與排氣通道連通的集液槽，集液槽用于收集蒸汽在經(jīng)排氣通道排出過程中產(chǎn)生的冷凝液體。
[0009]其中，集液槽呈長條狀設(shè)置。
[0010]其中，集液槽相對于水平面傾斜設(shè)置，以使得集液槽內(nèi)收集的冷凝液體向集液槽的相對較低的一端流動。
[0011 ]其中，集液槽相對于水平面的傾斜角度為5°到15°。
[0012]其中，設(shè)備主體的頂部進一步設(shè)置有與集液槽的相對較低的一端連通的排液槽，排液槽與集液槽交叉設(shè)置且連通至少兩個集液槽，進而使得流動至至少兩個集液槽的相對較低的一端的冷凝液體匯流至排液槽內(nèi)并排出烘烤設(shè)備。
[0013]其中，設(shè)備主體的底部進一步設(shè)置有加熱板和頂針，頂針用于在待烘烤基板在移入或移出烘烤腔室時頂起待烘烤基板，以使得待烘烤基板與待烘烤基板間隔預(yù)定距離，頂針進一步在烘烤過程中釋放待烘烤基板，以使得待烘烤基板與加熱板直接接觸。
[0014]其中，設(shè)備主體的相對兩側(cè)進一步設(shè)置有進氣通道，進氣通道用于向烘烤腔室提供攜載氣體，攜載氣體的溫度不低于烘烤設(shè)備的烘烤溫度。
[0015]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明提供一種烘烤設(shè)備，包括設(shè)備主體，設(shè)備主體定義一容納待烘烤基板的烘烤腔室，設(shè)備主體的頂部設(shè)置有排氣通道，排氣通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室內(nèi)進行烘烤時產(chǎn)生的蒸汽。通過這種方式，本發(fā)明烘烤設(shè)備能夠?qū)⑷軇?dǎo)出，避免偶發(fā)液滴滴下導(dǎo)致產(chǎn)品報廢問題，大幅度降低維護保養(yǎng)的頻率。
【附圖說明】
[0016]圖1是本發(fā)明用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2A以及圖2B是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖3是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例一個應(yīng)用場景的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖4是集液槽6相對于水平面傾斜設(shè)置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖5是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例另一個應(yīng)用場景中的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖6A是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例又一個應(yīng)用場景中的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖6B是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例又一個應(yīng)用場景中的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0023]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對發(fā)明所提供的一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備做進一步詳細(xì)描述。
[0024]參閱圖1，是本發(fā)明用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，烘烤設(shè)備包括設(shè)備主體1，設(shè)備主體I定義一容納待烘烤基板2的烘烤腔室3，設(shè)備主體I的頂部設(shè)置有排氣通道4，排氣通道4用于排出待烘烤基板2在烘烤腔室3內(nèi)進行烘烤時產(chǎn)生的蒸汽。
[0025]具體的，將待烘烤基板2放入烘烤腔室3內(nèi)，對烘烤腔室3進行加熱，控制烘烤溫度，一般烘烤時間為90?180秒，待烘烤基板2上的溶劑蒸發(fā)變成蒸汽順著排氣通道4向上排出，通過這種方式，本發(fā)明烘烤設(shè)備能夠?qū)⑷軇?dǎo)出，避免偶發(fā)液滴滴下導(dǎo)致產(chǎn)品報廢問題，大幅度降低維護保養(yǎng)的頻率。
[0026]參閱圖2A以及圖2B，是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備的俯視結(jié)構(gòu)示意圖，從圖2A中可以看到排氣通道4呈長條狀，而在圖2B中排氣通道4網(wǎng)格狀設(shè)置。
[0027]排氣通道4相對于豎直方向傾斜設(shè)置，可選的，排氣通道4相對于豎直方向的夾角在O到30度之間。
[0028]參閱圖3，是用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例一個應(yīng)用場景的結(jié)構(gòu)示意圖，在該應(yīng)用場景中，設(shè)備主體I的頂部進一步設(shè)置有與排氣通道4連通的集液槽6，集液槽6用于收集蒸汽在經(jīng)排氣通道4排出過程中產(chǎn)生的冷凝液體，可選的，集液槽6呈長條狀設(shè)置，
[0029]在用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例另一個應(yīng)用場景中，集液槽6可以是呈網(wǎng)格狀設(shè)計。
[0030]參閱圖4，集液槽6相對于水平面傾斜設(shè)置，以使得集液槽6內(nèi)收集的冷凝液體向集液槽6的相對較低的一端流動，可選的集液槽相對于水平面的夾角在O到30度之間。
[0031 ]可選的，集液槽6相對于水平面的傾斜角度為5°到15°。
[0032]集液槽6的截面形狀可以是V型也可以是U型，但不僅僅局限于V型或U型，可選的在50ml ?I OOml/道。
[0033]參閱圖5，在用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例另一個應(yīng)用場景中，設(shè)備主體I的頂部進一步設(shè)置有與集液槽6的相對較低的一端連通的排液槽7，排液槽7與集液槽6交叉設(shè)置且連通至少兩個集液槽6，進而使得流動至至少兩個集液槽6的相對較低的一端的冷凝液體匯流至排液槽內(nèi)并排出烘烤設(shè)備，其中排液槽7連接廠務(wù)排液管路。
[0034]參閱圖6A，在用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備第一實施例又一個應(yīng)用場景中，設(shè)備主體I的底部進一步設(shè)置有加熱板8和頂針9，頂針9用于在待烘烤基板2在移入或移出烘烤腔室3時頂起待烘烤基板2，以使得待烘烤基板2與待烘烤基板2間隔預(yù)定距離，頂針9進一步在烘烤過程中釋放待烘烤基板2，以使得待烘烤基板2與加熱板8直接接觸。
[0035]參閱圖6B，設(shè)備主體的I相對兩側(cè)進一步設(shè)置有進氣通道10，進氣通道10用于向烘烤腔室3提供攜載氣體，攜載氣體的溫度不低于烘烤設(shè)備的烘烤溫度。
[0036]具體的，烘烤制程中，頂針9升起，機器人將待烘烤基板2放入頂針9上，頂針9下降使待烘烤基板2接近加熱板8，控制加熱板8溫度，進行烘烤制程，時間一般為90?180s，制程結(jié)束后頂針9升起，機器人取出待烘烤基板2。在烘烤制程中，待烘烤基板將會有溶劑揮發(fā)出，大部分隨氣流由頂端排氣口管路排向廠務(wù)，但是少部分會在頂端排氣管壁凝結(jié)，長期積累后會形成液滴，并沿著集液槽6流動到排液槽7中，最終排向廠務(wù)進行廢液處理。該烤爐使用頂端排氣，并且對排氣孔進行特殊設(shè)計將溶劑導(dǎo)出，避免了偶發(fā)液滴低下導(dǎo)致產(chǎn)品報廢問題，大幅度降低了維護的頻率，由每月維護保養(yǎng)I次降低到每年甚至幾年維護保養(yǎng)I次。
[0037]以上所述僅為本發(fā)明的實施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種用于顯示面板制程的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述烘烤設(shè)備包括設(shè)備主體，所述設(shè)備主體定義一容納待烘烤基板的烘烤腔室，所述設(shè)備主體的頂部設(shè)置有排氣通道，所述排氣通道用于排出所述待烘烤基板在所述烘烤腔室內(nèi)進行烘烤時產(chǎn)生的蒸汽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述排氣通道呈長條狀或網(wǎng)格狀設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述排氣通道相對于豎直方向傾斜設(shè)置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備主體的頂部進一步設(shè)置有與所述排氣通道連通的集液槽，所述集液槽用于收集所述蒸汽在經(jīng)所述排氣通道排出過程中產(chǎn)生的冷凝液體。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述集液槽呈長條狀設(shè)置。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述集液槽相對于水平面傾斜設(shè)置，以使得所述集液槽內(nèi)收集的冷凝液體向所述集液槽的相對較低的一端流動。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述集液槽相對于水平面的傾斜角度為5。到15。ο8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備主體的頂部進一步設(shè)置有與所述集液槽的相對較低的一端連通的排液槽，所述排液槽與所述集液槽交叉設(shè)置且連通至少兩個所述集液槽，進而使得流動至所述至少兩個集液槽的相對較低的一端的所述冷凝液體匯流至所述排液槽內(nèi)并排出所述烘烤設(shè)備。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備主體的底部進一步設(shè)置有加熱板和頂針，所述頂針用于在所述待烘烤基板在移入或移出所述烘烤腔室時頂起所述待烘烤基板，以使得所述待烘烤基板與所述待烘烤基板間隔預(yù)定距離，所述頂針進一步在烘烤過程中釋放所述待烘烤基板，以使得所述待烘烤基板與所述加熱板直接接觸。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的烘烤設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備主體的相對兩側(cè)進一步設(shè)置有進氣通道，所述進氣通道用于向所述烘烤腔室提供攜載氣體，所述攜載氣體的溫度不低于所述烘烤設(shè)備的烘烤溫度。
【文檔編號】B05D3/02GK105880128SQ201610424092
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年6月15日
【發(fā)明人】張瑞軍, 王松
【申請人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司