清洗ao膜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種清洗AO膜裝置，屬于膜分離技術(shù)研發(fā)和應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]反滲透膜(A0膜)廣泛應(yīng)用于純凈水處理、醫(yī)藥行業(yè)用水、海水淡化、污水處理、冷卻塔補給水、鍋爐補給水、生物工程、環(huán)保工程等領(lǐng)域。反滲透膜組件是反滲透系統(tǒng)最貴重的組件，適當使用和維護，反滲透膜組件可以使用數(shù)年才更換一次。反滲透膜裝置運行一定時間后，在反滲透膜組件里將沉積一層污染物，影響反滲透膜的性能，這時，就需對反滲透膜進行清洗使其恢復(fù)性能。目前，反滲透膜系統(tǒng)采用在線清洗方式。由于大型反滲透膜系統(tǒng)中的反滲透膜組件一般是一支反滲透膜殼多支串聯(lián)排列，比如三支或者六支膜元件串聯(lián)安裝于一個膜殼內(nèi)，多個這樣的反滲透膜殼組合在一起構(gòu)成反滲透系統(tǒng)。在對反滲透膜系統(tǒng)進行清洗時，清洗液進入反滲透膜殼，依次對反滲透膜組件進行清洗，即清洗液對第一支反滲透膜組件清洗后，再清洗第二支反滲透膜組件，依次類推直至末端的反滲透膜組件，這樣使清洗液在清洗反滲透系統(tǒng)過程中，清洗流程很長，而且化學清洗液在清洗過程中，清洗液的有效成分隨著清洗過程的進行，清洗液的效能逐漸降低。同時，從前端反滲透膜組件清洗掉的污染物混雜于清洗藥液中，對后端的反滲透膜組件造成污堵而降低流速。而且由于在同一支反滲透膜殼中的反滲透膜組件，其反滲透膜組件的污染程度是從前端至后端逐漸加重的，以這種在線的方式清洗反滲透膜組件，就使得后端幾支反滲透膜組件的清洗效果嚴重降低。尤其在電子元器件(如二極管)清洗設(shè)備需要大量的純凈水，純凈水生產(chǎn)制備過程中需要大量的AO膜，因此若何對AO膜進行清洗，許多電子元器件生產(chǎn)企業(yè)亟待解決的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足和缺陷，提供一種清洗AO膜裝置。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型所采用的技術(shù)方案是:一種清洗AO膜裝置，包括儲藥箱、增壓泵、濾芯過濾器和清洗倉，AO膜組件放置在清洗倉內(nèi)，所述儲藥箱的出藥口通過進藥管與清洗倉前端的進藥口連接，在所述進藥管上連接有放水管，所述放水管上設(shè)有放水閥門；所述進藥管上還設(shè)有位于放水管后方的增壓泵和位于增壓泵后方的濾芯過濾器，增壓泵的出水口設(shè)有壓力表；所述清洗倉上設(shè)有出水口和出藥口，所述清洗倉的出水口開設(shè)在清洗倉的后端端面上，該出水口上連接有出水管，清洗倉的出藥口開設(shè)在所述清洗倉的中部側(cè)壁上；所述清洗倉的出藥口通過出藥管與暫存箱連接，所述暫存箱內(nèi)設(shè)有出藥泵，出藥泵的出藥口通過管道與儲藥箱的進藥口連接。
[0005]所述清洗倉的出水口上連接的出水管上設(shè)有流量計。所述清洗倉的出藥口上連接的出藥管上設(shè)有流量計。
[0006]所述的清洗倉兩端的內(nèi)徑大于中部的內(nèi)徑。
[0007]所述的增壓泵前方的進藥管上還設(shè)有流量調(diào)節(jié)閥，該流量調(diào)節(jié)閥位于放水管之后O
[0008]還包括行走架，所述行走架包括行走輪、底盤和固定架，所述行走輪固定在底盤底面上，所述固定架固定在底盤上，固定架上固定有清洗倉和濾芯過濾器，儲藥箱、增壓泵、暫存箱防止在底盤上。
[0009]本實用新型的有益效果是:
[0010]本實用新型結(jié)構(gòu)簡單、運行方便、便于調(diào)整、清洗效果顯著，且本實用新型的藥液通過出藥管回到暫存箱內(nèi)，然后又通過出藥泵回到儲藥箱內(nèi)，實現(xiàn)了藥液的循環(huán)利用，節(jié)約成本，減少污染。同時，本實用新型還含有行走架，可以根據(jù)需求移動該清洗AO膜裝置，使用方便。
【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型用于的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中標號代表的意義為:1、儲藥箱，2、放水閥門，3、流量調(diào)節(jié)閥，4、增壓泵，5、壓力表，6、濾芯過濾器，7、清洗倉，8、出藥管，9、暫存箱，10、進藥管，11、出水管，12、流量計，13、
放水管。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖及【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細描述:
[0014]實施例1:參見圖1，一種包括儲藥箱1、增壓泵4、濾芯過濾器6和清洗倉7，AO膜組件放置在清洗倉7內(nèi)，所述儲藥箱I的出藥口通過進藥管10與清洗倉7前端的進藥口連接，在所述進藥管10上連接有放水管13，所述放水管13上設(shè)有放水閥門2 ;所述進藥管10上還設(shè)有位于放水管13后方的增壓泵4和位于增壓泵4后方的濾芯過濾器6，增壓泵4的出水口設(shè)有壓力表5 ;所述清洗倉7上設(shè)有出水口和出藥口，所述清洗倉的出水口開設(shè)在清洗倉7的后端端面上，該出水口上連接有出水管11，清洗倉的出藥口開設(shè)在所述清洗倉7的中部側(cè)壁上；所述清洗倉的出藥口通過出藥管8與暫存箱9連接，所述暫存箱9內(nèi)設(shè)有出藥泵，出藥泵的出藥口通過管道與儲藥箱I的進藥口連接。
[0015]所述清洗倉7的出水口上連接的出水管11上設(shè)有流量計12。所述清洗倉的出藥口上連接的出藥管8上設(shè)有流量計。所述清洗倉7的出水口位于清洗倉7的后端端面上，當藥液從AO膜流出后，從該出水口流出的是純凈水，當純凈水達到一定流量后，說明AO膜完成。期間，多余的藥液從清洗倉的出藥口流出，通過出藥管回到暫存箱內(nèi)，然后又通過出藥泵回到儲藥箱內(nèi)，實現(xiàn)了藥液的循環(huán)利用。
[0016]所述的清洗倉7兩端的內(nèi)徑大于中部的內(nèi)徑。便于多余藥液從位于清洗倉7的中部的出藥口流出。
[0017]所述的增壓泵4前方的進藥管10上還設(shè)有流量調(diào)節(jié)閥3，該流量調(diào)節(jié)閥3位于放水管13之后。
[0018]實施例2:圖未畫出，實施例2與實施例1結(jié)構(gòu)基本相同，相同之處不重述，不同的是:本實用新型清洗AO膜裝置還包括行走架，所述行走架包括行走輪、底盤和固定架，所述行走輪固定在底盤底面上，所述固定架固定在底盤上，固定架上固定有清洗倉和濾芯過濾器，儲藥箱、增壓泵、暫存箱防止在底盤上。
【主權(quán)項】
1.一種清洗AO膜裝置，包括儲藥箱、增壓泵、濾芯過濾器和清洗倉，AO膜組件放置在清洗倉內(nèi)，其特征在于:所述儲藥箱的出藥口通過進藥管與清洗倉前端的進藥口連接，在所述進藥管上連接有放水管，所述放水管上設(shè)有放水閥門；所述進藥管上還設(shè)有位于放水管后方的增壓泵和位于增壓泵后方的濾芯過濾器，增壓泵的出水口設(shè)有壓力表；所述清洗倉上設(shè)有出水口和出藥口，所述清洗倉的出水口開設(shè)在清洗倉的后端端面上，該出水口上連接有出水管，清洗倉的出藥口開設(shè)在所述清洗倉的中部側(cè)壁上；所述清洗倉的出藥口通過出藥管與暫存箱連接，所述暫存箱內(nèi)設(shè)有出藥泵，出藥泵的出藥口通過管道與儲藥箱的進藥口連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗AO膜裝置，其特征在于:所述清洗倉的出水口上連接的出水管上設(shè)有流量計。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗AO膜裝置，其特征在于:所述清洗倉的出藥口上連接的出藥管上設(shè)有流量計。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗AO膜裝置，其特征在于:所述的清洗倉兩端的內(nèi)徑大于中部的內(nèi)徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗AO膜裝置，其特征在于:所述的增壓泵前方的進藥管上還設(shè)有流量調(diào)節(jié)閥，該流量調(diào)節(jié)閥位于放水管之后。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5任一項所述的清洗AO膜裝置，其特征在于:還包括行走架，所述行走架包括行走輪、底盤和固定架，所述行走輪固定在底盤底面上，所述固定架固定在底盤上，固定架上固定有清洗倉和濾芯過濾器，儲藥箱、增壓泵、暫存箱防止在底盤上。
【專利摘要】本實用新型涉及一種清洗AO膜裝置，包括儲藥箱、增壓泵、濾芯過濾器和清洗倉，AO膜組件放置在清洗倉內(nèi)，所述儲藥箱的出藥口通過進藥管與清洗倉前端的進藥口連接，進藥管上連接有放水管，放水管上設(shè)有放水閥門；所述進藥管上還設(shè)有位于放水管后方的增壓泵和位于增壓泵后方的濾芯過濾器，增壓泵的出水口設(shè)有壓力表；清洗倉上設(shè)有出水口和出藥口，清洗倉的出水口開設(shè)在清洗倉的后端端面上，該出水口上連接有出水管，清洗倉的出藥口開設(shè)在所述清洗倉的中部側(cè)壁上；所述清洗倉的出藥口通過出藥管與暫存箱連接，所述暫存箱內(nèi)設(shè)有出藥泵，出藥泵的出藥口通過管道與儲藥箱的進藥口連接。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單、運行方便、便于調(diào)整、清洗效果顯著。
【IPC分類】B01D65-02
【公開號】CN204365150
【申請?zhí)枴緾N201420822653
【發(fā)明人】楊宏民, 于林
【申請人】臺冠電子（新鄉(xiāng)）半導(dǎo)體工業(yè)有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2014年12月23日