一種用于澄清池的出水裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及水處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種用于澄清池的出水裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]澄清池的集水槽要求處于水平狀態(tài),才能確保在澄清池各部位流速相同。由于基建質(zhì)量或使用過(guò)程中發(fā)生基礎(chǔ)沉降,使集水槽發(fā)生傾斜,這樣,部分出水孔全部處于水面下,而部分出水孔則處于水面上,不能出水,從而導(dǎo)致偏流,使澄清池的出力大大降低。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型目的是提供一種用于澄清池的出水裝置,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能夠保證澄清池各部分流速相同,避免發(fā)生偏流。
[0004]基于上述問(wèn)題,本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案是:
[0005]一種用于澄清池的出水裝置,所述澄清池包括位于澄清池中央下部的第一反應(yīng)室、位于所述第一反應(yīng)室上方的第二反應(yīng)室及位于所述第二反應(yīng)室四周的分離室,所述第一反應(yīng)室內(nèi)設(shè)有機(jī)械攪拌裝置且其與所述分離室通過(guò)隔板隔離,所述第二反應(yīng)室的底部與所述第一反應(yīng)室連通且其側(cè)面與所述分離室連通,所述分離室上方設(shè)有若干個(gè)沿所述澄清池周向分布的集水槽,所述集水槽匯流至出水槽,所述出水槽設(shè)有閘板,所述閘板的高度低于所述出水槽的高度。
[0006]進(jìn)一步的,所述閘板包括閘板主體及兩塊側(cè)板,所述兩塊側(cè)板固定在所述出水槽的側(cè)壁上。
[0007]進(jìn)一步的,所述閘板的出水側(cè)還設(shè)有導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板上設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)流孔。
[0008]進(jìn)一步的,所述導(dǎo)流板與所述閘板呈45度夾角。
[0009]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:
[0010]1、采用本實(shí)用新型的技術(shù)方案,在出水槽設(shè)置閘板,能夠提高出水槽的水位,使集水槽的集水孔位于液面以下,避免因?yàn)槌吻宄鼗A(chǔ)沉降使集水槽發(fā)生傾斜而導(dǎo)致的偏流,使集水槽的集水孔的阻力相等,進(jìn)而確保澄清池各處的流速相等,保證澄清池具有正常的出力;
[0011]2、采用本實(shí)用新型進(jìn)一步的技術(shù)方案,在閘板的出水側(cè)設(shè)置導(dǎo)流板,可避免水流對(duì)出水槽的沖刷,提高澄清池的壽命。
【附圖說(shuō)明】
[0012]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0013]圖1為本實(shí)用新型一種用于澄清池的出水裝置實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0014]圖2為圖1的A-A剖面圖;
[0015]其中:1、第一反應(yīng)室;2、第二反應(yīng)室;3、分離室;4、集水槽;41、集水孔;5、機(jī)械攪拌裝置;6、出水槽;61、閘板;62、導(dǎo)流板;7、進(jìn)水管;8、排污管;9、出水管;10、加藥裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0016]以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)上述方案做進(jìn)一步說(shuō)明。應(yīng)理解,這些實(shí)施例是用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不限于限制本實(shí)用新型的范圍。實(shí)施例中采用的實(shí)施條件可以根據(jù)具體廠家的條件做進(jìn)一步調(diào)整,未注明的實(shí)施條件通常為常規(guī)實(shí)驗(yàn)中的條件。
[0017]參見圖1-2,為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖,提供一種用于澄清池的出水裝置,該澄清池為機(jī)械攪拌澄清池,其包括位于澄清池中央下部的第一反應(yīng)室1、位于第一反應(yīng)室I上方的第二反應(yīng)室2及位于第二反應(yīng)室2四周的分離室3,第一反應(yīng)室I內(nèi)設(shè)有機(jī)械攪拌裝置5且其與分離室3通過(guò)隔板隔離,第二反應(yīng)室2的底部與第一反應(yīng)室I連通且側(cè)面與分離室3連通,分離室3的上方設(shè)有若干個(gè)沿澄清池周向分布的集水槽4,集水槽4的兩側(cè)設(shè)有若干個(gè)集水孔41,集水槽4匯流至出水槽6經(jīng)出水管9出水,進(jìn)水管7連接至第一反應(yīng)室1,澄清池工作后的污泥經(jīng)第一反應(yīng)室I底部的排污管8排出,澄清池的上方設(shè)有加藥裝置10。
[0018]本實(shí)用新型的改進(jìn)之處在于,在出水槽6設(shè)有閘板61且閘板61的高度低于出水槽6的高度,該閘板61包括閘板主體和兩塊側(cè)板,其中兩塊側(cè)板分別固定在出水槽6的側(cè)壁上,若澄清池在使用過(guò)程中發(fā)生基礎(chǔ)沉降,此時(shí)集水槽4發(fā)生傾斜,增加閘板61可提高出水槽6的出水水位,使集水孔41位于水面下方,避免因?yàn)榧?傾斜導(dǎo)致的偏流。
[0019]為了進(jìn)一步優(yōu)化本實(shí)用新型的實(shí)施效果,避免提高出水水位后出水對(duì)出水槽6的沖刷,在閘板61的出水側(cè)還設(shè)有導(dǎo)流板62,該導(dǎo)流板62上設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)流孔。
[0020]為了進(jìn)一步優(yōu)化本實(shí)用新型的實(shí)施效果,將導(dǎo)流板62設(shè)置為與閘板61呈45度夾角。
[0021]上述實(shí)例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人員能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施,并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所做的等效變換或修飾,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于澄清池的出水裝置,所述澄清池包括位于澄清池中央下部的第一反應(yīng)室(I)、位于所述第一反應(yīng)室(I)上方的第二反應(yīng)室(2)及位于所述第二反應(yīng)室(2)四周的分離室(3),所述第一反應(yīng)室(I)內(nèi)設(shè)有機(jī)械攪拌裝置(5)且其與所述分離室(3)通過(guò)隔板隔離,所述第二反應(yīng)室(2)的底部與所述第一反應(yīng)室(I)連通且其側(cè)面與所述分離室(3)連通,所述分離室(3)上方設(shè)有若干個(gè)沿所述澄清池周向分布的集水槽(4),所述集水槽(4)匯流至出水槽(6),其特征在于:所述出水槽(6)設(shè)有閘板(61),所述閘板(61)的高度低于所述出水槽出)的高度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于澄清池的出水裝置,其特征在于:所述閘板¢1)包括閘板主體及兩塊側(cè)板,所述兩塊側(cè)板固定在所述出水槽¢)的側(cè)壁上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于澄清池的出水裝置,其特征在于:所述閘板¢1)的出水側(cè)還設(shè)有導(dǎo)流板(62),所述導(dǎo)流板¢2)上設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)流孔。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于澄清池的出水裝置,其特征在于:所述導(dǎo)流板¢2)與所述閘板(61)呈45度夾角。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于澄清池的出水裝置,所述澄清池包括位于澄清池中央下部的第一反應(yīng)室(1)、位于所述第一反應(yīng)室(1)上方的第二反應(yīng)室(2)及位于所述第二反應(yīng)室(2)四周的分離室(3),所述第一反應(yīng)室(1)內(nèi)設(shè)有機(jī)械攪拌裝置(5)且其與所述分離室(3)通過(guò)隔板隔離,所述第二反應(yīng)室(2)的底部與所述第一反應(yīng)室(1)連通且其側(cè)面與所述分離室(3)連通,所述分離室(3)上方設(shè)有若干個(gè)沿所述澄清池周向分布的集水槽(4),所述集水槽(4)匯流至出水槽(6),所述出水槽(6)設(shè)有閘板(61),所述閘板(61)的高度低于所述出水槽(6)的高度。本實(shí)用新型提供的出水裝置,能夠保證澄清池各處的流速相等,保證澄清池正常工作。
【IPC分類】B01D21/24, B01D21/02
【公開號(hào)】CN204619440
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520196360
【發(fā)明人】王國(guó)蓉, 韓美玲, 徐彬
【申請(qǐng)人】上海華電電力發(fā)展有限公司望亭發(fā)電廠
【公開日】2015年9月9日
【申請(qǐng)日】2015年4月2日