用于吸收氣體中的單成分的設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型的主題是一種用于吸收氣體中的單成分(例如有害物質(zhì)或材料)的設(shè)備，在該設(shè)備中，吸收溶液在吸收室中與氣體接觸。在此，吸收溶液經(jīng)由噴灑噴嘴引入到吸收室中，其中，吸收室在用于氣體的輸送開口上方具有氣體分配平面，通過該氣體分配平面，在輸送的氣體流中引起湍流或渦流。
【背景技術(shù)】
[0002]在許多工業(yè)過程中，尤其是在燃燒過程中形成廢氣或污濁空氣，其包含酸性成分，例如二氧化硫(SO2)、氯化氫(HCl)、氟化氫(HF)和/或氮氧化合物(NO、NO2)以及灰塵，這些成分基于其對生態(tài)系統(tǒng)的有害性而被稱為有害物質(zhì)，或者也形成材料，例如金屬氧化物，這些材料通過處理過程而轉(zhuǎn)為氣態(tài)。
[0003]因此，為了保護(hù)環(huán)境而公布了針對廢氣中的物質(zhì)的允許的界限值的法律規(guī)定。為了可以遵守這些界限值，在許多情況下需要凈化廢氣。
[0004]由現(xiàn)有技術(shù)公知了用于所謂的濕式廢氣處理的不同的工藝，這些工藝已經(jīng)在工業(yè)上得到使用。在該方法中，在發(fā)電廠區(qū)域內(nèi)使用吸收溶液用于離析出有害物質(zhì)(S02、HC1、HF) ο在此，通常是鈣吸附劑(石灰石、生石灰和熟石灰)。這些鈣化合物與水混合，隨后作為懸浮液存在，并且在吸收室中與煙氣中存在的酸性氣體接觸，從而可以進(jìn)行從氣相到液相的有害物質(zhì)的吸收。被吸收到液相中的酸性有害物質(zhì)隨后以溶解成離子的形式存在，并且與鈣吸附劑的在懸浮液中溶解的鈣離子起反應(yīng)。
[0005]由此得到的反應(yīng)產(chǎn)物可以依賴于其他過程控制而在懸浮液中溶解，在相應(yīng)過度飽和的情況下形成晶體，并且最后甚至以固體形式析出。尤其是在油和碳燃燒的燃燒過程中，來自于發(fā)電廠區(qū)域的廢氣中的大多數(shù)有害物質(zhì)是二氧化硫S02。
[0006]在所謂的煙氣脫硫設(shè)備中，SO2以之前描述的方法從煙氣中分離，其中，主要使用形式為石灰石懸浮液的石灰石作為吸收溶液。在這些設(shè)備中，在氧化和結(jié)晶過程之后，由被吸收的二氧化硫SO2和在懸浮液中溶解的石灰石形成可利用的石膏(CaSO 4.2H20)。
[0007]由現(xiàn)有技術(shù)公知的是，用于煙氣脫硫的吸收室實施為噴灑塔。在該噴灑塔中，石灰石懸浮液在多個通常水平布置的噴灑平面上以噴灑噴嘴進(jìn)行噴灑。在此，煙氣在豎直方向上穿流設(shè)備。從噴灑噴嘴中排出的石灰石懸浮液滴與流動的煙氣接觸，并且導(dǎo)致傳熱和傳質(zhì)過程。該設(shè)備在煙氣輸送部上方經(jīng)常也具有氣體分配平面(例如REA Plus平面或盤)，通過該氣體分配平面，一方面使輸送的氣體均勻化并且另一方面產(chǎn)生高湍流的懸浮液區(qū)域(液體層)。傳統(tǒng)的氣體分配平面例如由大量的管組成或者由穿孔板或盤構(gòu)成。
[0008]包含在煙氣中的二氧化硫302通過吸收而溶解在懸浮液滴中，并且因此與同樣溶解的鈣離子反應(yīng)，經(jīng)由中間階段變?yōu)閬喠蛩徕}，并且在進(jìn)一步的氧化之后通過溶解在液滴中的氧氣變?yōu)榱蛩徕}。
[0009]懸浮液滴向下掉落并且沿著其路徑連續(xù)地收納二氧化硫。在接觸設(shè)備的下部區(qū)域內(nèi)，這些懸浮液滴聚集在所謂的槽內(nèi)，并且為了提高接觸時間而通過循環(huán)系統(tǒng)再次經(jīng)由噴灑平面與煙氣接觸。
[0010]通過相應(yīng)的調(diào)節(jié)和控制回路，向吸收室連續(xù)地配給石灰石懸浮液、工藝用水(液滴的蒸發(fā)損失)和氧化空氣，以及也使懸浮液從槽中排出，從而出現(xiàn)穩(wěn)定的狀態(tài)。從槽中排出的懸浮液通常向后置的脫水裝置輸送，用以獲得石膏。
[0011]在傳統(tǒng)的氣體分配平面中，氣體分配經(jīng)常是不充分的。
【實用新型內(nèi)容】
[0012]本實用新型的任務(wù)是，提供一種帶有氣體分配平面的設(shè)備，在該設(shè)備中，實現(xiàn)了改進(jìn)的氣體分配。
[0013]該任務(wù)利用如下設(shè)備來解決，在該設(shè)備中，氣體分配平面在一些區(qū)域中由管形成，而在其他區(qū)域中由穿孔板形成。通過這種“混合實施方案”可以實現(xiàn)吸收室中的最佳的氣體分配。
[0014]本實用新型涉及一種用于吸收氣體中的單成分的設(shè)備，在所述設(shè)備中，吸收溶液在吸收室中與氣體接觸，其中，所述吸收溶液經(jīng)由配備有噴灑噴嘴的噴灑平面引入到所述吸收室中，并且其中，所述吸收室在氣體輸送部上方具有氣體分配平面，其中，所述氣體分配平面在一些區(qū)域中由管形成，而在其他區(qū)域中由穿孔板形成。
[0015]穿孔板優(yōu)選布置在氣體分配平面的邊緣區(qū)域中。由此，可以將氣體流有針對性地引導(dǎo)至洗滌器的中間。
[0016]有利的是，氣體分配平面的管布置在模塊中。這些模塊優(yōu)選布置在氣體分配平面的中心區(qū)域中。
[0017]也有利的是，在氣體分配平面上方布置有再分散棱邊，通過該再分散棱邊導(dǎo)引吸收溶液遠(yuǎn)離吸收室的壁，并且將該吸收溶液沿吸收室的中心的方向?qū)б?。由此，吸收溶液可以收納另外的有害物質(zhì)。
【附圖說明】
[0018]下面，本實用新型結(jié)合附圖來描述。其中:
[0019]圖1示出煙氣凈化設(shè)備的示例性的實施方式；
[0020]圖2示出氣體分配平面的俯視圖；
[0021]圖3示出氣體分配平面的部分區(qū)域；
[0022]圖4示出氣體分配平面的另一部分區(qū)域。
[0023]各個附圖中的相同的附圖標(biāo)記分別表示相同的特征。
【具體實施方式】
[0024]圖1示出根據(jù)本實用新型的煙氣凈化設(shè)備10的橫截面。在此，煙氣通過氣體輸送部16流入到圓柱體狀的吸收室13中，并且轉(zhuǎn)向為豎直的向上流動。煙氣從下往上地穿流吸收室13，并且通過煙氣排出部12離開吸收室。
[0025]氣體分配平面17直接位于氣體輸送部16上方。氣體分配平面17由大量單獨的管4構(gòu)成。通過氣體分配平面17，煙氣在吸收室13內(nèi)更均勻地分配，并且此外，由此在煙氣中造成湍流，所述湍流導(dǎo)致氣體與吸收溶液更強(qiáng)烈地混合。
[0026]在吸收室13的上部區(qū)域中，經(jīng)由噴灑平面14的噴灑噴嘴引入吸收溶液，該吸收溶液以液滴形式與煙氣接觸。
[0027]洗滌槽15位于氣體輸送部16下方。通過攪拌工具19阻止了固體顆粒沉積在洗滌槽15中，此外，該攪拌工具確保了充分的混合。通過獨立的氧化空氣輸送裝置確保了氧化。為了使整個洗滌系統(tǒng)保持在穩(wěn)定的運行中，新鮮的石灰石懸浮液(吸收溶液)經(jīng)由管路11來輸送，并且相應(yīng)的懸浮液流20從洗滌系統(tǒng)中提取出，用以獲得石膏。
[0028]再分散板18直接布置在氣體輸送部16上方。該板18截?fù)鮼碜杂谏戏降奈杖芤海⑶覍⑵渥鳛橐汉煂?dǎo)引至洗滌槽15中。輸送的氣體在進(jìn)入到吸收室13中時橫穿該液簾，并且在此被冷卻。該板18也可以構(gòu)造為環(huán)繞的環(huán)形件或者也可以以在周向上分布的方式存在多個再分散板18、18’。
[0029]在氣體分配平面17上方，再分散棱邊25安裝在容器壁上。通過該再分散棱邊25來截?fù)跷杖芤翰⑶覍?dǎo)引該吸收溶液遠(yuǎn)離吸收室13的壁。
[0030]圖2示出氣體分配平面17的俯視圖。氣體分配平面17在這里由大量的模塊6組成。模塊6在這里布置在氣體分配平面17的中心區(qū)域23中，在氣體分配平面17的邊緣區(qū)域24中布置有穿孔板21。氣體分配平面17在本領(lǐng)域范疇內(nèi)也被稱為REA-Plus平面。
[0031]圖3示出氣體分配平面17的部分區(qū)域。該部分區(qū)域由大量的管4并且由穿孔板21形成。在此，穿孔板直接與氣體分配平面17的外壁22鄰接。
[0032]圖4示出氣體分配平面17的另一部分區(qū)域。在這里，穿孔板21也布置在邊緣區(qū)域24中。
[0033]附圖標(biāo)記列表
[0034]4 管
[0035]6 模塊
[0036]10 煙氣凈化設(shè)備
[0037]11 用于吸收溶液的輸送管路
[0038]12 煙氣排出部
[0039]13 吸收室
[0040]14 噴灑平面
[0041]15 洗滌槽
[0042]16 氣體輸送部
[0043]17 氣體分配平面
[0044]18 再分散板
[0045]18’再分散板
[0046]19 攪拌工具
[0047]20 用于吸收管路的導(dǎo)出管路
[0048]21 穿孔板
[0049]22 外壁
[0050]23 氣體分配平面的中心區(qū)域
[0051]24 氣體分配平面的邊緣區(qū)域
[0052]25 再分散棱邊
【主權(quán)項】
1.一種用于吸收氣體中的單成分的設(shè)備(10)，在所述設(shè)備中，吸收溶液在吸收室(13)中與氣體接觸，其中，所述吸收溶液經(jīng)由配備有噴灑噴嘴的噴灑平面(14)引入到所述吸收室(13)中，并且其中，所述吸收室(13)在氣體輸送部(16)上方具有氣體分配平面(17)，其特征在于，所述氣體分配平面(17)在一些區(qū)域中由管(4)形成，而在其他區(qū)域中由穿孔板(21)形成。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述穿孔板(21)布置在所述氣體分配平面(17)的邊緣區(qū)域(24)內(nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于，所述管(4)布置在模塊￠)中。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，所述模塊(6)布置在所述氣體分配平面(17)的中心區(qū)域(23)內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1至2中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，在所述氣體分配平面(17)上方布置有再分散棱邊(25)，通過所述再分散棱邊導(dǎo)引所述吸收溶液遠(yuǎn)離所述吸收室(13)的壁。6.根據(jù)權(quán)利要求1至2中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，在所述氣體分配平面(17)下方布置有一個或多個再分散板，通過所述再分散板截?fù)跛鑫杖芤翰⒏淖兤浞较颉?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述單成分是有害物質(zhì)或材料。
【專利摘要】本實用新型涉及一種用于吸收氣體中的單成分的設(shè)備，在該設(shè)備中，吸收溶液在吸收室(13)中與氣體接觸，其中，吸收溶液經(jīng)由配備有噴灑噴嘴的噴灑平面(14)引入到吸收室(13)中，并且其中，吸收室(13)在氣體輸送部(16)上方具有氣體分配平面(17)。根據(jù)本實用新型，氣體分配平面(17)在一些區(qū)域中由管(4)組成，而在其他區(qū)域中由穿孔板(21)組成。
【IPC分類】B01D53/50, B01D53/68, B01D53/56, B01D53/78
【公開號】CN204799089
【申請?zhí)枴緾N201520192785
【發(fā)明人】安德烈亞斯·格魯貝爾-瓦爾特爾, 安德烈亞斯·格魯貝爾·瓦爾特爾
【申請人】安德里特斯公開股份有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年4月1日