用于氣體分配模塊的防提升裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型的主題是一種用于吸收氣體中的單成分(例如有害物質(zhì)或材料)的設(shè)備，在該設(shè)備中，吸收溶液在吸收室中與氣體接觸。在此，吸收溶液經(jīng)由噴灑噴嘴引入到吸收室中，其中，吸收室在用于氣體的輸送開口上方具有氣體分配平面，通過該氣體分配平面，在輸送的氣體流中引起湍流或渦流。氣體分配平面通過單模塊來形成，這些模塊放置在承載結(jié)構(gòu)件上。
【背景技術(shù)】
[0002]在許多工業(yè)過程中，尤其是在燃燒過程中形成廢氣或污濁空氣，其包含酸性成分，例如二氧化硫(S02)、氯化氫(HC1)、氟化氫(HF)和/或氮氧化合物(NO、N02)以及灰塵，這些成分基于其對生態(tài)系統(tǒng)的有害性而被稱為有害物質(zhì)，或者也形成例如金屬氧化物的材料，這些材料通過處理過程而轉(zhuǎn)為氣態(tài)。
[0003]因此，為了保護(hù)環(huán)境而公布了針對廢氣中的物質(zhì)的允許的界限值的法律規(guī)定。為了可以遵守這些界限值，在許多情況下需要凈化廢氣。
[0004]由現(xiàn)有技術(shù)公知了用于所謂的濕式廢氣處理的不同的工藝，這些工藝已經(jīng)在工業(yè)上得到使用。在該方法中，在發(fā)電廠區(qū)域內(nèi)，吸收溶液用于離析出有害物質(zhì)(S02、HC1、HF)。在此，通常是鈣吸附劑(石灰石、生石灰和熟石灰)。這些鈣化合物與水混合，隨后作為懸浮液存在，并且在吸收室中與煙氣中存在的酸性氣體接觸，從而可以進(jìn)行從氣相到液相的有害物質(zhì)的吸收。被吸收到液相中的酸性有害物質(zhì)隨后以溶解成離子的形式存在，并且與鈣吸附劑的在懸浮液中溶解的鈣離子起反應(yīng)。
[0005]由此得到的反應(yīng)產(chǎn)物可以依賴于其他過程控制地在懸浮液中保持溶解，在相應(yīng)過度飽和的情況下形成晶體，并且最后甚至以固體形式析出。尤其是在油和碳燃燒的燃燒過程中，來自于發(fā)電廠部門的廢氣中的大多數(shù)有害物質(zhì)是二氧化硫so2。
[0006]在所謂的煙氣脫硫設(shè)備中，S02以之前描述的方法從煙氣中分離，其中，主要使用形式為石灰石懸浮液的石灰石作為吸收溶液。在這些設(shè)備中，在氧化和結(jié)晶過程之后可以由懸浮液中的被吸收的二氧化硫S02和溶解的石灰石形成可利用的石膏(CaSO 4*2H20)。
[0007]由現(xiàn)有技術(shù)公知的是，用于煙氣脫硫的吸收室實施為噴灑塔。在該噴灑塔中，石灰石懸浮液在多個通常水平布置的噴灑平面上以噴灑噴嘴進(jìn)行噴灑。在此，煙氣在豎直方向上穿流設(shè)備。從噴灑噴嘴中排出的石灰石懸浮液滴與流動的煙氣接觸，并且導(dǎo)致傳熱和傳質(zhì)過程。該設(shè)備在煙氣輸送部上方經(jīng)常也具有氣體分配平面(例如REA Plus平面或盤)，通過該氣體分配平面，一方面使輸送的氣體均勻化并且另一方面產(chǎn)生高湍流的懸浮液區(qū)域(液體層)。氣體分配平面例如由大量的管構(gòu)成。
[0008]包含在煙氣中的二氧化硫302通過吸收而溶解到懸浮液滴中，并且因此與同樣溶解的鈣離子反應(yīng)，經(jīng)由中間階段變?yōu)閬喠蛩徕}，并且在進(jìn)一步的氧化之后通過溶解在液滴中的氧氣變?yōu)榱蛩徕}。
[0009]懸浮液滴向下掉落并且沿著其路徑連續(xù)地收納二氧化硫。在接觸設(shè)備的下部區(qū)域內(nèi)，這些懸浮液滴聚集在所謂的槽內(nèi)，并且為了提高接觸時間而通過循環(huán)系統(tǒng)再次經(jīng)由噴灑平面與煙氣接觸。
[0010]通過相應(yīng)的調(diào)節(jié)和控制回路，向吸收室連續(xù)地配給石灰石懸浮液、工藝用水(液滴的蒸發(fā)損失)和氧化空氣，以及也使懸浮液從槽中排出，從而出現(xiàn)穩(wěn)定的狀態(tài)。從槽中排出的懸浮液通常向后置的脫水裝置輸送，用以獲得石膏。
[0011]氣體分配平面的元件或模塊以能松開的方式與承載結(jié)構(gòu)件連接，例如擰接。氣體分配平面的模塊與承載結(jié)構(gòu)件的連接是必需的，以便在運行期間阻止模塊提升。為了維護(hù)工作，氣體分配平面以下的區(qū)域必須配備支架，以便可以去除氣體分配平面的模塊，這是非常耗時且昂貴的。
【實用新型內(nèi)容】
[0012]本實用新型的任務(wù)是提供一種氣體分配平面，在該氣體分配平面中，可以更輕松地執(zhí)行維護(hù)工作。
[0013]該任務(wù)利用如下設(shè)備來解決，在該設(shè)備中，氣體分配平面的單模塊經(jīng)由能松開的鎖定元件與承載結(jié)構(gòu)件連接并且鎖定以防提升。根據(jù)本實用新型，鎖定元件可以從上面接近。因此，可以去除氣體分配平面的模塊，而不必為此在氣體分配平面以下的區(qū)域中配備支架。因此，維護(hù)工作可以更輕松且更快速地執(zhí)行。
[0014]氣體分配平面的單模塊例如由大量的管構(gòu)成，這些管布置在框架中。
[0015]鎖定元件可以實施為栓，這些鎖定元件移動穿過承載結(jié)構(gòu)件的接片中的開口并且穿過模塊中的開口。
[0016]承載結(jié)構(gòu)件優(yōu)以保護(hù)層，例如橡膠、環(huán)氧化物涂層或混凝土來覆蓋。該保護(hù)層保護(hù)承載結(jié)構(gòu)件以防腐蝕。
[0017]有利的是，單模塊由聚丙烯制成。
【附圖說明】
[0018]下面，本實用新型結(jié)合附圖來描述。其中:
[0019]圖1示出煙氣凈化設(shè)備的示例性的實施方式；
[0020]圖2示出氣體分配平面的俯視圖；
[0021]圖3示出氣體分配平面的單個單模塊；
[0022]圖4示出氣體分配平面的截面圖，用以示出鎖定元件。
[0023]各個附圖中的相同的附圖標(biāo)記分別表示相同的特征。
【具體實施方式】
[0024]圖1示出穿過根據(jù)本實用新型的煙氣凈化設(shè)備10的橫截面。在此，煙氣通過氣體輸送部16流入到柱體狀的吸收室13中，并且轉(zhuǎn)向為豎直的向上流動。煙氣從下往上穿流吸收室13，并且通過煙氣排出部12離開吸收室。
[0025]氣體分配平面17直接位于氣體輸送部16上方。氣體分配平面17由大量單個的管4構(gòu)成。通過氣體分配平面17，煙氣在吸收室13內(nèi)更均勻地分配，并且此外，由此在煙氣中造成湍流，所述湍流導(dǎo)致氣體與吸收溶液更強烈地混合。氣體分配裝置17由承載結(jié)構(gòu)件9a(在圖4中示出)來承載。
[0026]在吸收室13的上部區(qū)域中，經(jīng)由噴灑平面14的噴灑噴嘴引入吸收溶液，該吸收溶液以液滴形式與煙氣接觸。
[0027]洗滌槽15位于氣體輸送部16下方。通過攪拌工具19阻止了固體顆粒沉積在洗滌槽15中，此外，該攪拌工具確保了充分的混合。通過獨立的氧化空氣輸送裝置確保了氧化。為了使整個洗滌系統(tǒng)保持在穩(wěn)定的運行中，新鮮的石灰石懸浮液(吸收溶液)經(jīng)由管路11來輸送，并且相應(yīng)的懸浮液流20從洗滌系統(tǒng)中提取出，用以獲得石膏。
[0028]再分散板18直接布置在氣體輸送部16上方。該板18截?fù)鮼碜杂谏戏降奈杖芤?，并且將其作為液簾?dǎo)引至洗滌槽15中。輸送的氣體在進(jìn)入到吸收室13中時橫穿該液簾，并且在此被冷卻。
[0029]圖2示出氣體分配平面17的俯視圖。氣體分配平面17在這里由許多模塊6構(gòu)成。在這里涉及格柵狀的結(jié)構(gòu)，通過該格柵狀的結(jié)構(gòu)使氣體產(chǎn)生渦流并變得均勻。氣體分配平面17在本領(lǐng)域范疇內(nèi)也被稱為REA-Plus平面。
[0030]圖3示出氣體分配平面17的單個模塊6。在這里，模塊6由框架構(gòu)成，該框架由側(cè)壁1和2形成。大量的管4布置在框架中，這些管通過中間壁3固定。模塊6的兩個側(cè)壁2具有開口 5，鎖定元件8 (在圖4中示出)插接到這些開口中。
[0031]圖4示出氣體分配平面17的截面圖。在這里識別出各具有單個管4的兩個模塊
6。兩個模塊6放置在承載件9a上。接片9位于承載件9a上。承載件9a和接片9形成用于模塊6的承載結(jié)構(gòu)件。承載結(jié)構(gòu)件的接片9具有開口，鎖定元件8穿過該開口地插接。鎖定元件8同樣穿過兩個模塊6的開口 5地插接并且因此阻止了模塊6提升。
[0032]在這里呈栓形狀的鎖定元件8可從上方良好地接近且能輕松地去除。為了維護(hù)工作，現(xiàn)在可以從上方松開防提升件，不再需要為氣體分配平面17的下方的區(qū)域配備支架。
[0033]承載件9在這里以保護(hù)層7例如橡膠層覆蓋，并且因此得到保護(hù)以防腐蝕。
[0034]附圖標(biāo)記列表
[0035]1 側(cè)壁
[0036]2 側(cè)壁
[0037]3 中間壁
[0038]4 管
[0039]5用于鎖定元件的開口
[0040]6 模塊
[0041]7保護(hù)層(例如橡膠層)
[0042]8鎖定元件
[0043]9 接片
[0044]9a承載結(jié)構(gòu)件/承載件
[0045]10煙氣凈化設(shè)備
[0046]11用于吸收溶液的輸送管路
[0047]12煙氣排出部
[0048]13吸收室
[0049]14噴灑平面
[0050]15洗滌槽
[0051]16氣體輸送部
[0052]17氣體分配平面
[0053]18再分散板
[0054]19攪拌工具
[0055]20用于吸收管路的導(dǎo)出管路
【主權(quán)項】
1.一種用于吸收氣體中的單成分的設(shè)備(10)，在所述設(shè)備中，吸收溶液在吸收室(13)中與氣體接觸，其中，所述吸收溶液經(jīng)由配備有噴灑噴嘴的噴灑平面(14)引入到所述吸收室(13)中，并且其中，所述吸收室(13)在氣體輸送部(16)上方具有氣體分配平面(17)，其中，所述氣體分配平面(17)由放置在具有接片(9)的承載結(jié)構(gòu)件(9a)上的單模塊(6)形成，其特征在于，所述單模塊(6)經(jīng)由能松開的鎖定元件(8)與所述接片(9)連接并且鎖定以防提升，其中，所述鎖定元件(8)是能從上方接近的。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，相應(yīng)的模塊￠)由大量的管(4)形成，所述管布置在框架(1、2)中。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述鎖定元件(8)是栓，所述鎖定元件移動穿過所述接片(9)中的開口并且穿過所述框架的側(cè)壁(2)中的開口(5)。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述承載結(jié)構(gòu)件(9a)是以保護(hù)層(7)覆蓋的。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述保護(hù)層(7)是橡膠或環(huán)氧化物涂層。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述氣體分配平面(17)的模塊(6)由聚丙烯制成。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述單成分是有害物質(zhì)或材料。
【專利摘要】本實用新型的主題是一種用于吸收氣體中的單成分，例如有害物質(zhì)或材料的設(shè)備(10)以及用于氣體分配模塊的防提升裝置，在該設(shè)備中，吸收溶液在吸收室(13)中與氣體接觸，其中，吸收溶液經(jīng)由噴灑噴嘴引入到吸收室(13)中，并且其中，吸收室(13)在氣體輸送部(16)上方具有氣體分配平面(17)。氣體分配平面(17)由放置在具有接片(9)的承載結(jié)構(gòu)件(9a)上的單模塊(6)構(gòu)成。根據(jù)本實用新型，單模塊(6)經(jīng)由鎖定元件(8)與接片(9)連接并且因此鎖定以防提升，其中，鎖定元件(8)可從上方接近。
【IPC分類】B01D53/18, B01D53/78, B01D53/50
【公開號】CN205084587
【申請?zhí)枴緾N201520192822
【發(fā)明人】安德烈亞斯·格魯貝爾·瓦爾特爾
【申請人】安德里特斯公開股份有限公司
【公開日】2016年3月16日
【申請日】2015年4月1日