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      一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置的制造方法

      文檔序號:10253750閱讀:384來源:國知局
      一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實用新型屬于化工領(lǐng)域,具體涉及一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在石油化工領(lǐng)域,高溫窯爐使用很是廣泛。高溫窯爐在工作時,由于內(nèi)部往往是高溫度高腐蝕毒的油品,時間一長對窯爐傷害很大,往往使用壽命很短。目前,最有效的方法是在窯爐內(nèi)壁涂覆高溫爐內(nèi)涂料,這類涂料一般是多種化合物混合而成,不溶于水、油等液體。但是,由于窯爐內(nèi)壁要求平整度高,因此涂料的顆粒大小還需要嚴(yán)格控制。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]發(fā)明目的:本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置。
      [0004]技術(shù)方案:為了達(dá)到上述發(fā)明目的,本實用新型具體是這樣來完成的:一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置,包括反應(yīng)器,所述反應(yīng)器內(nèi)平行設(shè)有一對研磨片;反應(yīng)器頂部設(shè)有入料口,側(cè)壁設(shè)有儲水箱,且儲水箱通過管道連接進(jìn)入反應(yīng)器;所述反應(yīng)器底側(cè)設(shè)有出料口,底部均勻布有通孔、通過管道與反應(yīng)器外的集水池相連。
      [0005]其中,所述集水池與反應(yīng)器之間設(shè)有水栗。
      [0006]有益效果:本實用新型與傳統(tǒng)技術(shù)相比,通過將研磨后的涂料用水沖出反應(yīng)器,以此避免涂料粘在反應(yīng)器壁上影響使用,同時通過集水槽收集處理水時水流向外的作用力將涂料帶至出料口。
      【附圖說明】
      [0007]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)不意圖。
      【具體實施方式】
      [0008]如圖1所示的一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置,包括反應(yīng)器I,所述反應(yīng)器I內(nèi)平行設(shè)有一對研磨片2;反應(yīng)器I頂部設(shè)有入料口 3,側(cè)壁設(shè)有儲水箱4,且儲水箱4通過管道5連接進(jìn)入反應(yīng)器I;所述反應(yīng)器I底側(cè)設(shè)有出料口 6,底部均勻布有通孔、通過管道與反應(yīng)器I外的集水池7相連;所述集水池7與反應(yīng)器I之間設(shè)有水栗。
      【主權(quán)項】
      1.一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置,包括反應(yīng)器(I),其特征在于,所述反應(yīng)器(I)內(nèi)平行設(shè)有一對研磨片(2);反應(yīng)器(I)頂部設(shè)有入料口(3),側(cè)壁設(shè)有儲水箱(4),且儲水箱(4)通過管道(5)連接進(jìn)入反應(yīng)器(I);所述反應(yīng)器(I)底側(cè)設(shè)有出料口( 6),底部均勻布有通孔、通過管道與反應(yīng)器(I)外的集水池(7)相連。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置,其特征在于,所述集水池(7)與反應(yīng)器(I)之間設(shè)有水栗。
      【專利摘要】本實用新型公開了一種用于紅外熱輻射高溫爐內(nèi)涂料的研磨裝置,包括反應(yīng)器,所述反應(yīng)器內(nèi)平行設(shè)有一對研磨片;反應(yīng)器頂部設(shè)有入料口,側(cè)壁設(shè)有儲水箱,且儲水箱通過管道連接進(jìn)入反應(yīng)器;所述反應(yīng)器底側(cè)設(shè)有出料口,底部均勻布有通孔、通過管道與反應(yīng)器外的集水池相連。本實用新型與傳統(tǒng)技術(shù)相比,通過將研磨后的涂料用水沖出反應(yīng)器,以此避免涂料粘在反應(yīng)器壁上影響使用,同時通過集水槽收集處理水時水流向外的作用力將涂料帶至出料口。
      【IPC分類】B02C19/00
      【公開號】CN205164880
      【申請?zhí)枴緾N201520856592
      【發(fā)明人】顧同新
      【申請人】宜興漢光高新石化有限公司
      【公開日】2016年4月20日
      【申請日】2015年10月29日
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